公开(公告)号：US20140033145A1

公开(公告)日：2014-01-30

申请号：US14046778

申请日：2013-10-04

申请人： Hanying FENG ,  Yu Cao ,  Jun Ye

发明人： Hanying FENG ,  Yu Cao ,  Jun Ye

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： G03F1/144 ,  G03F1/02 ,  G03F1/20 ,  G03F1/24 ,  G03F1/26 ,  G03F1/38 ,  G03F1/50 ,  G03F1/72 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70525 ,  G06F17/10 ,  G06F17/5009 ,  G06F17/5081 ,  G06F19/00 ,  G06F2217/12 ,  G06F2217/14 ,  G21K5/00 ,  Y02P90/265

摘要： Described herein are methods for matching the characteristics of a lithographic projection apparatus to a reference lithographic projection apparatus, where the matching includes optimizing projection optics characteristics. The projection optics can be used to shape wavefront in the lithographic projection apparatus. According to the embodiments herein, the methods can be accelerated by using linear fitting algorithm or using Taylor series expansion using partial derivatives of transmission cross coefficients (TCCs).

摘要翻译： 这里描述的是将光刻投影设备的特性与参考光刻投影设备进行匹配的方法，其中匹配包括优化投影光学特性。 投影光学元件可用于在光刻投影装置中形成波前。 根据本文的实施例，可以通过使用线性拟合算法或使用使用传输交叉系数（TCC）的偏导数的泰勒级数扩展来加速该方法。

公开(公告)号：US08570485B2

公开(公告)日：2013-10-29

申请号：US12475071

申请日：2009-05-29

申请人： Jun Ye ,  Peng Liu ,  Yu Cao

发明人： Jun Ye ,  Peng Liu ,  Yu Cao

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70441 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70533 ,  G03F7/706 ,  G03F7/70891 ,  G06F17/50

摘要： Methods for calibrating a photolithographic system are disclosed. A cold lens contour for a reticle design and at least one hot lens contour for the reticle design are generated from which a process window is defined. Aberrations induced by a lens manipulator are characterized in a manipulator model and the process window is optimized using the manipulator model. Aberrations are characterized by identifying variations in critical dimensions caused by lens manipulation for a plurality of manipulator settings and by modeling behavior of the manipulator as a relationship between manipulator settings and aberrations. The process window may be optimized by minimizing a cost function for a set of critical locations.

摘要翻译： 公开了用于校准光刻系统的方法。 生成用于掩模版设计的冷透镜轮廓和用于掩模版设计的至少一个热透镜轮廓，由此定义处理窗口。 由透镜操纵器诱导的畸变在机械手模型中表征，并且使用机械手模型优化过程窗口。 像差的特征在于识别由多个操纵器设置的透镜操纵引起的关键尺寸的变化，以及通过将操纵器的行为建模为机械手设置和像差之间的关系。 可以通过最小化一组关键位置的成本函数来优化过程窗口。

公开(公告)号：US08560978B2

公开(公告)日：2013-10-15

申请号：US13293113

申请日：2011-11-09

申请人： Hanying Feng ,  Yu Cao ,  Jun Ye

发明人： Hanying Feng ,  Yu Cao ,  Jun Ye

IPC分类号： G06F17/50 ,  G06F19/00 ,  G21K5/00 ,  G03F1/26 ,  G03F1/00

CPC分类号： G03F1/144 ,  G03F1/02 ,  G03F1/20 ,  G03F1/24 ,  G03F1/26 ,  G03F1/38 ,  G03F1/50 ,  G03F1/72 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70525 ,  G06F17/10 ,  G06F17/5009 ,  G06F17/5081 ,  G06F19/00 ,  G06F2217/12 ,  G06F2217/14 ,  G21K5/00 ,  Y02P90/265

摘要： Described herein are methods for matching the characteristics of a lithographic projection apparatus to a reference lithographic projection apparatus, where the matching includes optimizing projection optics characteristics. The projection optics can be used to shape wavefront in the lithographic projection apparatus. According to the embodiments herein, the methods can be accelerated by using linear fitting algorithm or using Taylor series expansion using partial derivatives of transmission cross coefficients (TCCs).

摘要翻译： 这里描述的是将光刻投影设备的特性与参考光刻投影设备进行匹配的方法，其中匹配包括优化投影光学特性。 投影光学元件可用于在光刻投影装置中形成波前。 根据本文的实施例，可以通过使用线性拟合算法或使用使用传输交叉系数（TCC）的偏导数的泰勒级数扩展来加速该方法。

公开(公告)号：US20130066716A1

公开(公告)日：2013-03-14

申请号：US13230720

申请日：2011-09-12

申请人： Luoqi Chen ,  Jun Ye ,  Ya Luo ,  Yu Cao ,  Wei Zhuang ,  Hanying Feng

发明人： Luoqi Chen ,  Jun Ye ,  Ya Luo ,  Yu Cao ,  Wei Zhuang ,  Hanying Feng

IPC分类号： G06Q30/00

CPC分类号： G06Q30/00

摘要： The various embodiments described in the present disclosure, in at least one aspect, relate to computer-implemented methods of online advertisement. In one embodiment, a method includes, in response to receiving a request for an ad to be provided to a user in an online session, identifying a plurality of ads as candidates for consideration, determining one or more sentiments of a content of the online session, and ranking the plurality of identified ads based at least in part on (i) a correlation between the content of the online session and a content of each identified ad, and (ii) a correlation between the one or more sentiments of the content of the online session and the content of each identified ad.

摘要翻译： 在至少一个方面，在本公开中描述的各种实施例涉及计算机实现的在线广告的方法。 在一个实施例中，一种方法包括响应于在在线会话中接收到要提供给用户的广告的请求，将多个广告标识为候选作为考虑，确定在线会话的内容的一个或多个情绪 并且至少部分地基于（i）在线会话的内容与每个所识别的广告的内容之间的相关性，以及（ii）所述内容的一个或多个情绪之间的相关性来对多个所识别的广告进行排名 在线会话和每个已识别广告的内容。

公开(公告)号：US20130014065A1

公开(公告)日：2013-01-10

申请号：US13542625

申请日：2012-07-05

申请人： Hanying Feng ,  Yu Cao ,  Jun Ye ,  Youping Zhang

发明人： Hanying Feng ,  Yu Cao ,  Jun Ye ,  Youping Zhang

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F7/706 ,  G03F7/70683

摘要： The present invention relates to methods and systems for designing gauge patterns that are extremely sensitive to parameter variation, and thus robust against random and repetitive measurement errors in calibration of a lithographic process utilized to image a target design having a plurality of features. The method may include identifying most sensitive line width/pitch combination with optimal assist feature placement which leads to most sensitive CD (or other lithography response parameter) changes against lithography process parameter variations, such as wavefront aberration parameter variation. The method may also include designing gauges which have more than one test patterns, such that a combined response of the gauge can be tailored to generate a certain response to wavefront-related or other lithographic process parameters. The sensitivity against parameter variation leads to robust performance against random measurement error and/or any other measurement error.

摘要翻译： 本发明涉及用于设计对参数变化非常敏感的规格图案的方法和系统，因此对于用于对具有多个特征进行成像的目标设计的光刻工艺的校准中的随机和重复的测量误差是鲁棒的。 该方法可以包括以最佳辅助特征放置来识别最敏感的线宽/间距组合，其导致针对光刻过程参数变化（例如波前像差参数变化）的最敏感的CD（或其他光刻响应参数）变化。 该方法还可以包括设计具有多于一个测试图案的计量器，使得量规的组合响应可以被调整以产生对波前相关或其它光刻工艺参数的特定响应。 对参数变化的敏感性导致对随机测量误差和/或任何其他测量误差的鲁棒性能。

公开(公告)号：US08056028B2

公开(公告)日：2011-11-08

申请号：US12417559

申请日：2009-04-02

申请人： Yu Cao ,  James Norman Wiley ,  Jun Ye

发明人： Yu Cao ,  James Norman Wiley ,  Jun Ye

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F1/78 ,  G03F1/44 ,  G03F1/68 ,  G03F1/76

摘要： A model-based tuning method for tuning a first mask writer unit utilizing a reference mask writer unit, each of which has tunable parameters for controlling mask writing performance. The method includes the steps of defining a test pattern and a mask writing model; generating the test pattern utilizing the reference mask writer unit and measuring the mask writing results; generating the test pattern utilizing the first mask writer unit and measuring the mask writing results; calibrating the mask writing model utilizing the mask writing results corresponding to the reference mask writer unit, where the calibrated mask writing model has a first set of parameter values; tuning the calibrated mask writing model utilizing the mask writing results corresponding to the first mask writer unit, where the tuned calibrated model has a second set of parameter values; and adjusting the parameters of the first mask writer unit based on a difference between the first set of parameter values and the second set of parameter values.

摘要翻译： 一种基于模型的调谐方法，用于利用参考掩模写入器单元调整第一掩模写入器单元，每个参考掩码写入器单元具有用于控制掩模写入性能的可调参数。 该方法包括定义测试图案和掩模书写模型的步骤; 使用参考掩模写入器单元产生测试图案并测量掩模写入结果; 使用第一掩模写入器单元产生测试图案并测量掩模写入结果; 使用对应于参考掩模写入器单元的掩模写入结果来校准掩模写入模型，其中校准的掩模写入模型具有第一组参数值; 使用对应于第一掩模写入器单元的掩模写入结果调整校准的掩模写入模型，其中调谐的校准模型具有第二组参数值; 以及基于所述第一组参数值和所述第二组参数值之间的差来调整所述第一掩模写入器单元的参数。

公开(公告)号：US20110267597A1

公开(公告)日：2011-11-03

申请号：US13182416

申请日：2011-07-13

申请人： Jun Ye ,  Yu Cao

发明人： Jun Ye ,  Yu Cao

IPC分类号： G03B27/32

CPC分类号： G03F7/705 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70458 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70525

摘要： A model-based tuning method for tuning a first lithography system utilizing a reference lithography system, each of which has tunable parameters for controlling imaging performance. The method includes the steps of defining a test pattern and an imaging model; imaging the test pattern utilizing the reference lithography system and measuring the imaging results; imaging the test pattern utilizing the first lithography system and measuring the imaging results; calibrating the imaging model utilizing the imaging results corresponding to the reference lithography system, where the calibrated imaging model has a first set of parameter values; tuning the calibrated imaging model utilizing the imaging results corresponding to the first lithography system, where the tuned calibrated model has a second set of parameter values; and adjusting the parameters of the first lithography system based on a difference between the first set of parameter values and the second set of parameter values.

摘要翻译： 一种基于模型的调谐方法，用于利用参考光刻系统调整第一光刻系统，每个参考光刻系统具有用于控制成像性能的可调参数。 该方法包括定义测试图案和成像模型的步骤; 使用参考光刻系统成像测试图案并测量成像结果; 使用第一光刻系统成像测试图案并测量成像结果; 使用对应于参考光刻系统的成像结果校准成像模型，其中校准的成像模型具有第一组参数值; 使用对应于第一光刻系统的成像结果来调整校准的成像模型，其中调整的校准模型具有第二组参数值; 以及基于第一组参数值和第二组参数值之间的差异来调整第一光刻系统的参数。

公开(公告)号：US07747978B2

公开(公告)日：2010-06-29

申请号：US11461994

申请日：2006-08-02

申请人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Luoqi Chen ,  Hua-Yu Liu

发明人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Luoqi Chen ,  Hua-Yu Liu

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F7/70641 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70625

摘要： A system and a method for creating a focus-exposure model of a lithography process are disclosed. The system and the method utilize calibration data along multiple dimensions of parameter variations, in particular within an exposure-defocus process window space. The system and the method provide a unified set of model parameter values that result in better accuracy and robustness of simulations at nominal process conditions, as well as the ability to predict lithographic performance at any point continuously throughout a complete process window area without a need for recalibration at different settings. With a smaller number of measurements required than the prior-art multiple-model calibration, the focus-exposure model provides more predictive and more robust model parameter values that can be used at any location in the process window.

摘要翻译： 公开了一种用于创建光刻工艺的聚焦曝光模型的系统和方法。 系统和方法利用参数变化的多个维度的校准数据，特别是在曝光 - 散焦过程窗口空间内。 该系统和方法提供了一套统一的模型参数值，可在标称工艺条件下提供更好的模拟精度和鲁棒性，以及能够在整个过程窗口区域内连续预测任何点的光刻性能，而无需 重新校准在不同的设置。 与现有技术的多模型校准相比，要进行的测量数量要少一些，聚焦曝光模型提供了更多的预测性和更健壮的模型参数值，可以在过程窗口中的任何位置使用。

公开(公告)号：US20100162197A1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：US12642436

申请日：2009-12-18

申请人： Jun YE ,  Yu Cao ,  Hanying Feng

发明人： Jun YE ,  Yu Cao ,  Hanying Feng

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F1/36 ,  G03F1/144 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/705 ,  G06F17/5081 ,  G06F2217/12

摘要： The present invention relates to an efficient OPC method of increasing imaging performance of a lithographic process utilized to image a target design having a plurality of features. The method includes the steps of determining a function for generating a simulated image, where the function accounts for process variations associated with the lithographic process; and optimizing target gray level for each evaluation point in each OPC iteration based on this function. In one given embodiment, the function is approximated as a polynomial function of focus and exposure, R(ε, f)=P0+f2·Pb with a threshold of T+Vε for contours, where P0 represents image intensity at nominal focus, f represents the defocus value relative to the nominal focus, ε represents the exposure change, V represents the scaling of exposure change, and parameter “Pb” represents second order derivative images. In another given embodiment, the analytical optimal gray level is given for best focus with the assumption that the probability distribution of focus and exposure variation is Gaussian.

摘要翻译： 本发明涉及一种提高用于成像具有多个特征的目标设计的光刻工艺的成像性能的有效OPC方法。 该方法包括以下步骤：确定用于产生模拟图像的功能，其中该功能考虑到与光刻工艺相关联的工艺变化; 并基于此功能对每个OPC迭代中的每个评估点优化目标灰度级。 在一个给定的实施例中，函数近似为焦点和曝光的多项式函数，R（＆egr; f）= P0 + f2·Pb，阈值为T + V＆egr; 对于轮廓，其中P0表示标称焦点处的图像强度，f表示相对于标称焦点的散焦值， 表示曝光变化，V表示曝光变化的缩放，参数“Pb”表示二阶导数图像。 在另一个给定的实施例中，假设聚焦和曝光变化的概率分布为高斯，给出最佳聚焦的分析最佳灰度级。

公开(公告)号：US20090276751A1

公开(公告)日：2009-11-05

申请号：US12417559

申请日：2009-04-02

申请人： Yu Cao ,  James Norman Wiley ,  Jun Ye

发明人： Yu Cao ,  James Norman Wiley ,  Jun Ye

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F1/78 ,  G03F1/44 ,  G03F1/68 ,  G03F1/76

摘要： A model-based tuning method for tuning a first mask writer unit utilizing a reference mask writer unit, each of which has tunable parameters for controlling mask writing performance. The method includes the steps of defining a test pattern and a mask writing model; generating the test pattern utilizing the reference mask writer unit and measuring the mask writing results; generating the test pattern utilizing the first mask writer unit and measuring the mask writing results; calibrating the mask writing model utilizing the mask writing results corresponding to the reference mask writer unit, where the calibrated mask writing model has a first set of parameter values; tuning the calibrated mask writing model utilizing the mask writing results corresponding to the first mask writer unit, where the tuned calibrated model has a second set of parameter values; and adjusting the parameters of the first mask writer unit based on a difference between the first set of parameter values and the second set of parameter values.

摘要翻译： 一种基于模型的调谐方法，用于利用参考掩模写入器单元调整第一掩模写入器单元，每个参考掩码写入器单元具有用于控制掩模写入性能的可调参数。 该方法包括定义测试图案和掩模书写模型的步骤; 使用参考掩模写入器单元产生测试图案并测量掩模写入结果; 使用第一掩模写入器单元产生测试图案并测量掩模写入结果; 使用对应于参考掩模写入器单元的掩模写入结果来校准掩模写入模型，其中校准的掩模写入模型具有第一组参数值; 使用对应于第一掩模写入器单元的掩模写入结果调整校准的掩模写入模型，其中调谐的校准模型具有第二组参数值; 以及基于所述第一组参数值和所述第二组参数值之间的差来调整所述第一掩模写入器单元的参数。