公开(公告)号：US20070015683A1

公开(公告)日：2007-01-18

申请号：US11183119

申请日：2005-07-14

申请人： Edward Durrant

发明人： Edward Durrant

IPC分类号： C11D1/04

CPC分类号： C11D3/048 ,  C11D3/2082 ,  C11D11/0017

摘要： This invention includes a cleaning composition, the method of use of the cleaning composition, and a new use of a composition. The composition includes an oxidizing agent with a reduction potential of greater than about 0.1 E°(V) at 25° C., and is devoid of an oxidizing agent with a reduction potential of greater than about 1.5 E°(V) at 25° C. The oxidizing agent may be a salt of a nitrate or nitrite. The method includes applying the composition to a textile and working the composition. The composition may be effective in cleaning urine odors from textiles. The composition may remove odors from textiles without bleaching or discoloring the textile, even if the textile includes natural fibers such as wool.

摘要翻译： 本发明包括清洁组合物，清洁组合物的使用方法和组合物的新用途。 组合物包括在25℃下还原电位大于约0.1E（V）的氧化剂，并且在25℃下没有具有大于约1.5E（V）的还原电位的氧化剂 氧化剂可以是硝酸盐或亚硝酸盐的盐。 该方法包括将组合物施用于织物并加工组合物。 组合物可以有效地清洁来自纺织品的尿液气味。 组合物可以从纺织品中除去气味，而不会使纺织品漂白或变色，即使纺织品包括天然纤维如羊毛。

公开(公告)号：US20060255315A1

公开(公告)日：2006-11-16

申请号：US11352124

申请日：2006-02-10

申请人： Deborah Yellowaga ,  Ben Palmer ,  John Starzynski ,  John McFarland ,  Marie Lowe

发明人： Deborah Yellowaga ,  Ben Palmer ,  John Starzynski ,  John McFarland ,  Marie Lowe

IPC分类号： C09K13/00 ,  B44C1/22 ,  C23F1/00

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/2086 ,  C11D3/245 ,  C11D3/30 ,  C11D3/43 ,  C11D7/08 ,  C11D7/265 ,  C11D7/28 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/50 ,  C23G1/103 ,  G03F7/423 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/3121 ,  H01L21/3124 ,  H01L21/31608 ,  H01L21/31654 ,  H01L21/3185

摘要： Removal chemistry solutions and methods of production thereof are described herein that include at least one fluorine-based constituent, at least one chelating component, surfactant component, oxidizing component or combination thereof, and at least one solvent or solvent mixture. Removal chemistry solutions and methods of production thereof are also described herein that include at least one low H2O content fluorine-based constituent and at least one solvent or solvent mixture.

摘要翻译： 本文描述了除去化学溶液及其生产方法，其包括至少一种氟基组分，至少一种螯合组分，表面活性剂组分，氧化组分或其组合，以及至少一种溶剂或溶剂混合物。 本文还描述了除去化学溶液及其生产方法，其包括至少一种低H 2 O 2 O含量的氟基组分和至少一种溶剂或溶剂混合物。

公开(公告)号：US20060194709A1

公开(公告)日：2006-08-31

申请号：US10546499

申请日：2004-02-17

申请人： Pamela Boone ,  Virginia Urban

发明人： Pamela Boone ,  Virginia Urban

IPC分类号： C11D3/48

CPC分类号： C11D3/48 ,  C11D1/143 ,  C11D1/24 ,  C11D1/72 ,  C11D1/722 ,  C11D1/83 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/2086 ,  C11D3/222 ,  C11D17/0013

摘要： The present invention is directed to a sprayable, acidic hard surface cleaning and/or disinfecting composition which contains suspended inclusions which appear as visibly discernible, discrete particulate materials, preferably where said discrete particulate materials are based on alginates. The composition contains a thiclcener which comprises both gellan gum and Xanthan gum.

摘要翻译： 本发明涉及一种可喷涂的酸性硬表面清洁和/或消毒组合物，其含有悬浮的夹杂物，其显示为明显可辨别的离散颗粒材料，优选在所述离散颗粒材料基于藻酸盐的情况下。 组合物含有包含结冷胶和黄原胶两者的噻菌根。

公开(公告)号：US07081441B2

公开(公告)日：2006-07-25

申请号：US10440836

申请日：2003-05-19

申请人： Michael Ray McDonald ,  Helen Frances O'Connor ,  Robert Henry Rohrbaugh

发明人： Michael Ray McDonald ,  Helen Frances O'Connor ,  Robert Henry Rohrbaugh

IPC分类号： C11D3/12 ,  C11D3/33

CPC分类号： C11D3/1213 ,  C08K3/22 ,  C09D7/61 ,  C09D7/67 ,  C09D7/68 ,  C11D3/2075 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/2086 ,  C11D3/33 ,  C11D11/0023 ,  C11D11/0058 ,  C11D17/0013

摘要： A composition for treating and/or cleaning surfaces comprises a nanoparticle component selected from the group consisting of metal oxyhydroxides, modified metal oxyhydroxides and mixtures thereof; a buffer/modifier component; optionally, an adjunct ingredient; and the balance of the composition being a polar solvent.

摘要翻译： 用于处理和/或清洁表面的组合物包含选自金属羟基氧化物，改性金属羟基氧化物及其混合物的纳米颗粒组分; 缓冲/修饰组件; 任选的辅助成分; 其组成为极性溶剂。

公开(公告)号：US20060130246A1

公开(公告)日：2006-06-22

申请号：US11299878

申请日：2005-12-12

申请人： Michael Molenda ,  Magali Lateulere

发明人： Michael Molenda ,  Magali Lateulere

IPC分类号： A61K8/00

CPC分类号： A61K8/496 ,  A61K8/35 ,  A61K8/44 ,  A61K2800/51 ,  A61Q5/02 ,  A61Q17/04 ,  A61Q19/00 ,  C11D3/0089 ,  C11D3/2072 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/2086 ,  C11D3/33 ,  C11D3/40

摘要： The present invention is related to stabilization of color of cleansing compositions on aqueous basis, particularly body cleansing compositions such as shampoo, shower gel, face and hand cleansing compositions by using at least one chelating agent and at least one UV absorbing substance.

摘要翻译： 本发明涉及通过使用至少一种螯合剂和至少一种UV吸收物质，以水性为基础来稳定清洁组合物的颜色，特别是身体清洁组合物如洗发剂，沐浴露，面部和手部清洁组合物。

公开(公告)号：US20060094623A1

公开(公告)日：2006-05-04

申请号：US11251432

申请日：2005-10-14

申请人： Carl Erkenbrecher ,  John Longoria ,  Richard Reynolds ,  Jennifer Julian ,  Malcolm DeLeo ,  Maria Ochomogo

发明人： Carl Erkenbrecher ,  John Longoria ,  Richard Reynolds ,  Jennifer Julian ,  Malcolm DeLeo ,  Maria Ochomogo

IPC分类号： C11D3/00

CPC分类号： C11D3/042 ,  C11D1/004 ,  C11D1/008 ,  C11D1/62 ,  C11D1/94 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/2086 ,  C11D3/48 ,  C11D11/0052

摘要： A method to prevent deposits on a ceramic surface comprising: (1) pretreating the surface by applying an aqueous solution containing from about 200 ppm to about 1000 ppm by weight of an amphoteric fluorosurfactant, and (2) periodically applying an aqueous maintenance solution comprising from about 1 ppm to about 200 ppm of at least one of an amphoteric or cationic fluorosurfactant or a mixture thereof, from about 5 ppm to about 100 ppm of a sequestering acid, and from about 2.5 ppm to about 200 ppm of a quaternary ammonium biocide compound, wherein all concentrations are by weight of aqueous solution is disclosed.

摘要翻译： 一种防止陶瓷表面沉积物的方法，包括：（1）通过施加含有约200ppm至约1000ppm重量的两性含氟表面活性剂的水溶液来预处理表面，和（2）周期性地施加维生素水溶液， 约1ppm至约200ppm的两性或阳离子含氟表面活性剂或其混合物中的至少一种，约5ppm至约100ppm的螯合酸和约2.5ppm至约200ppm的季铵生物杀灭剂化合物 ，其中公开了所有浓度为水溶液的重量。

公开(公告)号：US20060084589A1

公开(公告)日：2006-04-20

申请号：US11255032

申请日：2005-10-19

申请人： Florin Vlad ,  Remy Mounier ,  Kenneth Wong ,  Aude Daugeron ,  Thomas Herd

发明人： Florin Vlad ,  Remy Mounier ,  Kenneth Wong ,  Aude Daugeron ,  Thomas Herd

IPC分类号： C11D17/00

CPC分类号： C11D3/2096 ,  A61L9/012 ,  C11D1/22 ,  C11D3/0068 ,  C11D3/2079 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/2086 ,  C11D3/28 ,  C11D3/33 ,  C11D3/3409 ,  C11D3/50 ,  C11D17/0021 ,  D06M13/005

摘要： The present invention provides compositions and clear oil-in-water microemulsion containing up to 80% w/w of an oil, a surfactant system, a w/w oil/surfactant system ratio between 1 and 3, and a solubilizing-aid ingredient which is not a surfactant neither a VOC compound, the latter being present in an amount sufficient to ensure that the ratio oil/(surfactant +solubilizing aid) is comprised between 0.1 and 5. The present invention concerns also the articles and products associated the compositions and microemulsions, and the methods to manufacture them.

摘要翻译： 本发明提供了含有高达80％w / w的油，表面活性剂体系，aw / w油/表面活性剂体系比例在1和3之间的组合物和透明的水包油微乳液，以及增溶助剂成分， 不是VOC化合物的表面活性剂，后者的存在量足以确保油/（表面活性剂+增溶助剂）的比例在0.1和5之间。本发明还涉及组合物和微乳液相关的制品和产品 ，以及制造它们的方法。

公开(公告)号：US20050222003A1

公开(公告)日：2005-10-06

申请号：US11096171

申请日：2005-03-31

申请人： Leo Gagliardi ,  Stefano Resta ,  Luca Sarcinelli

发明人： Leo Gagliardi ,  Stefano Resta ,  Luca Sarcinelli

IPC分类号： C11D3/02 ,  C11D3/20 ,  C11D3/39 ,  C11D7/08 ,  C11D7/26 ,  C11D7/18

CPC分类号： C11D7/265 ,  C11D3/042 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/2086 ,  C11D3/3947 ,  C11D7/08

摘要： The present invention relates to liquid bleach additive compositions comprising an imido-type peroxy acid and a source of protons.

摘要翻译： 本发明涉及含有亚氨酸型过氧酸和质子源的液体漂白添加剂组合物。

公开(公告)号：US06946396B2

公开(公告)日：2005-09-20

申请号：US10695773

申请日：2003-10-30

申请人： Tomoe Miyazawa ,  Yoichiro Fujita ,  Ichiro Kobayashi

发明人： Tomoe Miyazawa ,  Yoichiro Fujita ,  Ichiro Kobayashi

IPC分类号： C11D1/66 ,  C11D3/20 ,  C11D3/32 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D11/00 ,  C23G1/24 ,  G03F7/42 ,  H01L21/306 ,  H01L21/311 ,  H01L21/00 ,  B08B3/04 ,  C09K3/00

CPC分类号： C23G1/24 ,  C11D1/662 ,  C11D3/2044 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/323 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3272 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/422 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/31116

摘要： A semiconductor wafer cleaning formulation for use in semiconductor fabrication comprising maleic acid and ethylene urea as essential components. The preferred formulation comprises maleic acid, ethylene urea, at least one carboxylic acid except maleic acid, at least one organic amine except ethylene urea and water. The formulation can optionally comprise at least one selected from the group consisting of an organic solvent, a chelating agent and a surfactant. The formulation is suitably used for removal of residue from semiconductor wafers following a resist ashing process, particularly for removal of residue from wafers containing delicate copper interconnect and low-k or ultra low-k interlayer dielectrics structures. There is also provided a method for cleaning the wafer by using the formulation.

摘要翻译： 用于半导体制造的半导体晶片清洁配方，其包含马来酸和亚乙基脲作为必需组分。 优选的制剂包括马来酸，亚乙基脲，除马来酸以外的至少一种羧酸，除了亚乙基脲和水之外的至少一种有机胺。 制剂可以任选地包含选自有机溶剂，螯合剂和表面活性剂中的至少一种。 该配方适合用于在抗蚀剂灰化过程之后从半导体晶片去除残留物，特别是用于从含有精细铜互连和低k或超低k层间电介质结构的晶片中除去残余物。 还提供了通过使用该制剂来清洗晶片的方法。

公开(公告)号：US20050187132A1

公开(公告)日：2005-08-25

申请号：US11079046

申请日：2005-03-14

申请人： Volker Blank ,  Henriette Weber ,  Kathrin Schnepp-Hentrich ,  Wilfried Raehse

发明人： Volker Blank ,  Henriette Weber ,  Kathrin Schnepp-Hentrich ,  Wilfried Raehse

IPC分类号： C11D3/10 ,  C11D3/20 ,  C11D3/33 ,  C11D11/00 ,  C11D17/00 ,  C11D17/06

CPC分类号： C11D17/065 ,  C11D3/10 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/2086 ,  C11D3/33 ,  C11D11/0082 ,  C11D17/0034

摘要： Detergent compositions comprising a compactate, wherein the compactate contains one or more organic polycarboxylic acids and/or salts thereof and no more than 5% by weight of water-insoluble builder substances, and the pH of a 1% solution of the detergent composition in water at 20° C. is below 10.5.

摘要翻译： 包含压实物的洗涤剂组合物，其中所述压实物含有一种或多种有机多元羧酸和/或其盐和不超过5重量％的水不溶性助洗剂物质，并且所述洗涤剂组合物在水中的1％溶液的pH 在20℃下低于10.5。