公开(公告)号：US20080204692A1

公开(公告)日：2008-08-28

申请号：US12054991

申请日：2008-03-25

申请人： Toralf Gruner ,  Bernd Geh

发明人： Toralf Gruner ,  Bernd Geh

IPC分类号： G03B27/72 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70441 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70391 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70941

摘要： A method for producing microstructured components in a microlithographic projection exposure apparatus is disclosed. The method includes imaging a pattern of structures into an image plane of a projection objective. The dose distribution of projection light in the image plane can be influenced so that the image of a structure is at least essentially independent of the topography of structures which lie inside a region surrounding the structure.

摘要翻译： 公开了一种在微光刻投影曝光装置中制造微结构元件的方法。 该方法包括将结构图案成像到投影物镜的像平面中。 可以影响投影光在图像平面中的剂量分布，使得结构的图像至少基本上独立于位于围绕结构的区域内的结构的形貌。

公开(公告)号：US07321465B2

公开(公告)日：2008-01-22

申请号：US11071699

申请日：2005-03-02

申请人： Michael Totzeck ,  Vladimir Kamenov ,  Toralf Gruner

发明人： Michael Totzeck ,  Vladimir Kamenov ,  Toralf Gruner

IPC分类号： G02B27/28

CPC分类号： G02B1/08 ,  G02B1/02 ,  G02B5/3083 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70966 ,  Y10S359/90

摘要： A numerical optimizing method serves to reduce harmful effects caused by intrinsic birefringence in lenses of a fluoride crystal material of cubic crystal structure in an objective, particularly a projection objective for a microlithography system. Under the optimizing method, an optimizing function which takes at least one birefringence-related image aberration into account is minimized. The birefringence-related image aberration is determined from a calculation for a light ray passing through the fluoride crystal lenses. To the extent that the birefringence-related image aberration is a function of parameters of the light ray, it depends only on geometric parameters of the light ray. The numerical optimizing method is used to produce objectives in which an optical retardation as well as an asymmetry of the optical retardation are corrected. The lenses are arranged in homogeneous groups, where each homogeneous group is corrected for the optical retardation asymmetry.

摘要翻译： 数值优化方法用于减少物镜中的立方晶体结构的氟化物晶体材料的透镜中的固有双折射引起的有害影响，特别是微光刻系统的投影物镜。 在优化方法下，考虑到至少一个双折射相关图像像差的优化函数被最小化。 从通过氟化物晶体透镜的光线的计算确定双折射相关图像像差。 在双折射相关图像像差是光线参数的函数的程度上，其仅取决于光线的几何参数。 使用数值优化方法来产生其中光学延迟以及光学延迟的不对称性被校正的目标。 透镜被排列成均匀的组，其中每个均匀组被校正用于光学延迟不对称。

公开(公告)号：US20080002167A1

公开(公告)日：2008-01-03

申请号：US11427183

申请日：2006-06-28

申请人： Toralf Gruner ,  Olaf Conradi ,  Nils Dieckmann ,  Markus Schwab ,  Olaf Hmann ,  Michael Totzeck ,  Daniel Kraehmer ,  Vladimir Kamenov

发明人： Toralf Gruner ,  Olaf Conradi ,  Nils Dieckmann ,  Markus Schwab ,  Olaf Hmann ,  Michael Totzeck ,  Daniel Kraehmer ,  Vladimir Kamenov

IPC分类号： G03B27/42 ,  G02B9/00

CPC分类号： G03F7/70958 ,  G02B13/143 ,  G02B17/0856 ,  G02B17/0892 ,  G02B27/0012 ,  G03F7/70091

摘要： The invention concerns a method for operating a projection exposure apparatus to project the image of a structure of an object (5) arranged in an object plane (6) onto a substrate (10) arranged in an image plane (8). The object (5) is illuminated with light of an operating wavelength of the projection exposure apparatus according to one of several adjustable exposure modes. The light produces changes in at least one optical element (9) of the projection exposure apparatus, by which the optical properties of the projection exposure apparatus are influenced. The operation of the projection exposure apparatus makes allowance for the influencing of the optical properties of the projection exposure apparatus or a quantity dependent on the former, being calculated approximately on the basis of the exposure mode used and the structure of the object (5).

摘要翻译： 本发明涉及一种用于操作投影曝光装置以将布置在物平面（6）中的物体（5）的结构的图像投影到布置在图像平面（8）中的基板（10）上的方法。 根据多种可调曝光模式之一，物体（5）被投影曝光装置的工作波长的光照射。 该光在投影曝光装置的至少一个光学元件（9）中产生变化，由此影响投影曝光装置的光学特性。 投影曝光装置的操作允许基于所使用的曝光模式和对象（5）的结构大致计算投影曝光装置的光学特性或取决于前者的光学特性的影响。

公开(公告)号：US07068436B2

公开(公告)日：2006-06-27

申请号：US10878611

申请日：2004-06-29

申请人： Toralf Gruner ,  Hans-Jürgen Mann

发明人： Toralf Gruner ,  Hans-Jürgen Mann

IPC分类号： G02B13/24

CPC分类号： G02B27/286 ,  G02B13/14 ,  G02B17/08 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70566

摘要： A projection lens (10) for a microlithographic projection exposure apparatus has a first optical element, for example a birefringent lens (L2), that has polarization dependent properties causing intensity fluctuations in an image plane of the projection lens. These fluctuation may be produced by a second optical element (24), for example a polarization selective beam splitting layer (28), that is arranged downstream of the first optical element. A gray filter (32; 132; 232) disposed in the beam path reduces the intensity fluctuations.

摘要翻译： 用于微光刻投影曝光装置的投影透镜（10）具有第一光学元件（例如双折射透镜（L 2）），其具有导致投影透镜的图像平面中的强度波动的偏振相关特性。 这些波动可以由布置在第一光学元件下游的第二光学元件（24）产生，例如偏振选择分束层（28）。 设置在光束路径中的灰色滤光器（32; 132; 232）减小了强度波动。

公开(公告)号：US20060023179A1

公开(公告)日：2006-02-02

申请号：US11190555

申请日：2005-07-27

申请人： Joerg Tschischgale ,  Toralf Gruner

发明人： Joerg Tschischgale ,  Toralf Gruner

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70591 ,  G03B13/00 ,  G03F7/70266

摘要： In a method for improving imaging properties of an illumination system or a projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus, which comprises an optical element having a surface, the shape of the surface is measured directly at various points. To this end, a measuring beam is directed on the points, and the reflected or refracted beam is measured, e.g. using an interferometer. Based on deviations of the measured shape from a target shape, corrective measures are derived so that the imaging errors of the optical system are improved. The corrective measures may comprise a change in the position or the shape of the optical element being analyzed, or another optical element of the optical system. The target shape of the surface may, for example, be determined so that the optical element at least partially corrects imaging errors caused by other optical elements.

摘要翻译： 在用于改善包括具有表面的光学元件的微光刻投影曝光装置的照明系统或投影物镜的成像特性的方法中，直接在各个点测量表面的形状。 为此，测量光束被引导到这些点上，并且测量反射或折射的光束。 使用干涉仪。 基于测量形状与目标形状的偏差，导出校正措施，使得光学系统的成像误差得到改善。 校正措施可以包括被分析的光学元件的位置或形状的改变，或光学系统的另一个光学元件的变化。 例如，可以确定表面的目标形状，使得光学元件至少部分地校正由其它光学元件引起的成像误差。

公开(公告)号：US20050146704A1

公开(公告)日：2005-07-07

申请号：US10949396

申请日：2004-09-27

申请人： Toralf Gruner ,  Daniel Kraehmer ,  Michael Totzeck ,  Johannes Wangler ,  Markus Brotsack ,  Nils Dieckmann ,  Aksel Goehnermeier ,  Markus Schwab ,  Damian Fiolka ,  Markus Zenzinger

发明人： Toralf Gruner ,  Daniel Kraehmer ,  Michael Totzeck ,  Johannes Wangler ,  Markus Brotsack ,  Nils Dieckmann ,  Aksel Goehnermeier ,  Markus Schwab ,  Damian Fiolka ,  Markus Zenzinger

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70566 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70308

摘要： In an exposure method for exposing a substrate which is arranged in the area of an image plane of a projection objective as well as in a projection exposure system for performing that method, output radiation directed at the substrate and having an output polarization state is produced. Through variable adjustment of the output polarization state with the aid of at least one polarization manipulation device, the output polarization state can be formed to approach a nominal output polarization state. The polarization manipulation can be performed in a control loop on the basis of polarization-optical measuring data.

摘要翻译： 在用于曝光布置在投影物镜的像面的区域中的基板以及用于执行该方法的投影曝光系统中的曝光方法中，产生了指向基板并具有输出偏振态的输出辐射。 通过借助于至少一个偏振操纵装置对输出偏振状态的可变调节，输出偏振状态可以形成为接近标称输出偏振状态。 可以在基于偏振光学测量数据的控制回路中进行极化处理。

公开(公告)号：US20050123840A1

公开(公告)日：2005-06-09

申请号：US10984868

申请日：2004-11-10

申请人： Michael Totzeck ,  Toralf Gruner ,  Jochen Hetzler

发明人： Michael Totzeck ,  Toralf Gruner ,  Jochen Hetzler

IPC分类号： G02F1/13 ,  G03B27/42 ,  G03C5/00 ,  G03F1/00 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70566 ,  G03F1/38 ,  G03F1/50

摘要： A mask (20) for use in a microlithographic projection exposure apparatus (10) has a support (28) on which a pattern of opaque structures (32) is applied. The intermediate spaces (36, 36′) remaining between the structures (32c) are filled with a liquid or solid dielectric material (38, 38′). This increases the polarisation dependency of the diffraction efficiency, so that the mask can be used as a polarizer.

摘要翻译： 在微光刻投影曝光装置（10）中使用的掩模（20）具有支撑体（28），在其上施加不透明结构（32）的图案。 残留在结构（32c）之间的中间空间（36,36'）填充有液体或固体电介质材料（38,38'）。 这增加了衍射效率的极化依赖性，使得掩模可以用作偏振器。

公开(公告)号：US08891172B2

公开(公告)日：2014-11-18

申请号：US12402015

申请日：2009-03-11

申请人： Eric Eva ,  Payam Tayebati ,  Michael Thier ,  Markus Hauf ,  Ulrich Schoenhoff ,  Ole Fluegge ,  Arif Kazi ,  Alexander Sauerhoefer ,  Gerhard Focht ,  Jochen Weber ,  Toralf Gruner

发明人： Eric Eva ,  Payam Tayebati ,  Michael Thier ,  Markus Hauf ,  Ulrich Schoenhoff ,  Ole Fluegge ,  Arif Kazi ,  Alexander Sauerhoefer ,  Gerhard Focht ,  Jochen Weber ,  Toralf Gruner

IPC分类号： G02B9/00 ,  G03F7/20 ,  G02B27/00 ,  G02B7/02

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G02B7/028 ,  G02B27/0068 ,  G03F7/70266

摘要： The disclosure relates to an optical element configure to at least partial spatially resolve correction of a wavefront aberration of an optical system (e.g., a projection exposure apparatus for microlithography) to which optical radiation can be applied, as well as related systems and methods.

摘要翻译： 本公开涉及一种光学元件，其被配置为至少部分空间地解决可以应用光辐射的光学系统（例如，用于微光刻的投影曝光设备）的波前像差的校正，以及相关的系统和方法。

公开(公告)号：US08446665B2

公开(公告)日：2013-05-21

申请号：US12562693

申请日：2009-09-18

申请人： Alexander Epple ,  Vladimir Kamenov ,  Toralf Gruner ,  Thomas Schicketanz

发明人： Alexander Epple ,  Vladimir Kamenov ,  Toralf Gruner ,  Thomas Schicketanz

IPC分类号： G02B5/08

CPC分类号： G02B17/0892 ,  G02B1/11 ,  G02B17/08 ,  G02B17/0896 ,  G03F7/70 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70275

摘要： Catadioptric projection objective (1) for microlithography for imaging an object field (3) in an object plane (5) onto an image field (7) in an image plane (9). The objective includes a first partial objective (11) imaging the object field onto a first real intermediate image (13), a second partial objective (15) imaging the first intermediate image onto a second real intermediate image (17), and a third partial objective (19) imaging the second intermediate image onto the image field. The second partial objective is a catadioptric objective having exactly one concave mirror and having at least one lens (L21, L22). A first folding mirror (23) deflects the radiation from the object plane toward the concave mirror and a second folding mirror (25) deflects the radiation from the concave mirror toward the image plane. At least one surface of a lens (L21, L22) of the second partial objective has an antireflection coating having a reflectivity of less than 0.2% for an operating wavelength of between 150 nm and 250 nm and for an angle-of-incidence range of between 0° and 30°. As an alternative or in addition, all the surfaces of the lenses of the second partial objective are configured such that the deviation from the marginal ray concentricity is greater than or equal to 20°.

摘要翻译： 用于微光刻的反折射投影物镜（1），用于将物平面（5）中的物场（3）成像到图像平面（9）中的图像场（7）上。 该目的包括将对象场成像到第一实际中间图像（13）上的第一部分目标（11），将第一中间图像成像到第二实际中间图像（17）上的第二部分目标（15） 物镜（19）将第二中间图像成像到图像场上。 第二部分目标是具有恰好一个凹面镜并具有至少一个透镜（L21，L22）的反射折射物镜。 第一折叠镜（23）将来自物体平面的辐射偏转到凹面镜，并且第二折叠镜（25）将来自凹面镜的辐射偏转到图像平面。 第二部分物镜的透镜的至少一个表面（L21，L22）具有对于150nm至250nm的工作波长具有小于0.2％的反射率的抗反射涂层，并且对于 介于0°和30°之间。 作为替代或另外，第二部分物镜的透镜的所有表面被配置为使得与边缘射线同心度的偏差大于或等于20°。

公开(公告)号：USRE44216E1

公开(公告)日：2013-05-14

申请号：US12604821

申请日：2009-10-23

申请人： Michael Totzeck ,  Heiko Feldmann ,  Toralf Gruner ,  Karl-Heinz Schuster ,  Joern Greif-Wuestenbecker ,  Thomas Scheruebl ,  Wolfgang Harnisch ,  Norbert Rosenkranz ,  Ulrich Matejka

发明人： Michael Totzeck ,  Heiko Feldmann ,  Toralf Gruner ,  Karl-Heinz Schuster ,  Joern Greif-Wuestenbecker ,  Thomas Scheruebl ,  Wolfgang Harnisch ,  Norbert Rosenkranz ,  Ulrich Matejka

IPC分类号： G02B23/00

CPC分类号： G03F7/70566 ,  G02B5/3025 ,  G02B21/0016 ,  G03F7/70666 ,  Y10S359/90

摘要： An optical imaging system for inspection microscopes with which lithography masks can be checked for defects particularly through emulation of high-aperture scanner systems. The microscope imaging system for emulating high-aperture imaging systems comprises imaging optics, a detector and an evaluating unit, wherein polarizing optical elements are selectively arranged in the illumination beam path for generating different polarization states of the illumination beam and/or in the imaging beam path for selecting different polarization components of the imaging beam, an optical element with a polarization-dependent intensity attenuation function can be introduced into the imaging beam path, images of the mask and/or sample are received by the detector for differently polarized beam components and are conveyed to the evaluating unit for further processing.

摘要翻译： 用于检查显微镜的光学成像系统，通过该光学成像系统可以通过光学掩模来检查缺陷，特别是通过高光阑扫描器系统的仿真。 用于模拟高光圈成像系统的显微镜成像系统包括成像光学器件，检测器和评估单元，其中偏振光学元件选择性地布置在照明光束路径中，用于产生照明光束和/或成像光束的不同偏振状态 用于选择成像光束的不同偏振分量的路径，具有偏振相关强度衰减功能的光学元件可以被引入到成像光束路径中，掩模和/或采样的图像被检测器接收用于不同偏振光束分量， 被传送到评估单元进行进一步处理。