公开(公告)号：US07108951B2

公开(公告)日：2006-09-19

申请号：US10373170

申请日：2003-02-26

申请人： Tomoya Sasaki ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Shinichi Kanna

发明人： Tomoya Sasaki ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Shinichi Kanna

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/165

摘要： The photosensitive resin composition comprising: (A) a resin containing (A1) a repeating unit having at least two groups represented by the specific general formula; and (B) a compound capable of generating an acid by the action with one of an actinic ray and a radiation.

摘要翻译： 该感光性树脂组合物包含：（A）含有（A1）具有至少两个由具体通式表示的基团的重复单元的树脂; 和（B）能够通过用光化射线和辐射之一的作用产生酸的化合物。

公开(公告)号：US20060172226A1

公开(公告)日：2006-08-03

申请号：US11336912

申请日：2006-01-23

申请人： Kazuyoshi Mizutani

发明人： Kazuyoshi Mizutani

IPC分类号： G03C1/76

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： A resist composition comprising (A) an acid generator represented by formula (1): wherein S1 to S8 each independently represents a substituent; a, n, m, l, k, o, p, q and r each independently represents an integer of 0 to 2; X represents a single bond or a divalent linking group; R1 and R2 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and R1 and R2 may combine with each other to represent a single bond or a divalent linking group; and Y− and Z− each independently represents an organic sulfonate anion.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含（A）由式（1）表示的酸发生剂：其中S 1至S 8各自独立地表示取代基; a，n，m，l，k，o，p，q和r各自独立地表示0〜2的整数。 X表示单键或二价连接基团; R 1和R 2各自独立地表示氢原子或取代基，R 1和R 2可以 彼此结合以表示单键或二价连接基团; 和Y - Z - 各自独立地表示有机磺酸根阴离子。

公开(公告)号：US07083892B2

公开(公告)日：2006-08-01

申请号：US10606845

申请日：2003-06-27

申请人： Hyou Takahashi ,  Shoichiro Yasunami ,  Kazuyoshi Mizutani

发明人： Hyou Takahashi ,  Shoichiro Yasunami ,  Kazuyoshi Mizutani

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0382 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392

摘要： The resist composition of the present invention, ensuring excellent pattern profile and excellent isolation performance for use in the pattern formation by the irradiation of actinic rays or radiation, particularly, electron beam, X ray or EUV light, which comprising (A) a compound having a specific partial structure and a counter ion, the compound generating an acid upon irradiation of actinic rays or radiation.

公开(公告)号：US20050221224A1

公开(公告)日：2005-10-06

申请号：US11090864

申请日：2005-03-28

申请人： Kazuyoshi Mizutani

发明人： Kazuyoshi Mizutani

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/033 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  G03C1/492

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/167 ,  Y10S430/168

摘要： A positive resist composition for use with an electron beam, an EUV light or an X ray, the positive resist composition comprising: (A) at least one compound that generates an acid upon treatment with one of an actinic ray and radiation; and (B) a resin that increases a solubility of the resin (B) in an alkaline developer by an action of an acid, wherein the resin (B) comprises a repeating unit having an alicyclic group connected with a fluorine-substituted alcohol residue; and a pattern formation method using the composition.

摘要翻译： 一种用于电子束，EUV光或X射线的正性抗蚀剂组合物，所述正性抗蚀剂组合物包含：（A）至少一种在通过光化学射线和辐射之一处理后产生酸的化合物; 和（B）通过酸作用增加树脂（B）在碱性显影剂中的溶解度的树脂，其中树脂（B）包含具有与氟取代的醇残基相连的脂环基的重复单元; 以及使用该组合物的图案形成方法。

公开(公告)号：US20050164123A1

公开(公告)日：2005-07-28

申请号：US11041384

申请日：2005-01-25

申请人： Kazuyoshi Mizutani

发明人： Kazuyoshi Mizutani

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03C1/76

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/111

摘要： A positive resist composition which can be suitably used in an ultramicrolithography process such as production of VLSI or high-capacity microchip and in other photofabrication processes and can ensure good sensitivity, resolution, pattern profile and line edge roughness when irradiated with actinic rays or radiation, particularly, electron beam, X-ray or EUV; and a pattern formation method using the composition, are provided, the positive resist composition comprising (A) a resin comprising a specific acryl-based repeating unit and a specific styrene-based repeating unit, which increases the dissolution rate in an alkali developer by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation, and (C) a solvent; and a pattern formation method using the composition.

摘要翻译： 正极抗蚀剂组合物可以适用于超微光刻工艺如VLSI或大容量微芯片的生产和其它光制造工艺中，并且当用光化射线或辐射照射时可以确保良好的灵敏度，分辨率，图案轮廓和线边缘粗糙度， 特别是电子束，X射线或EUV; 和使用该组合物的图案形成方法，正型抗蚀剂组合物包含（A）包含特定的丙烯酸类重复单元和特定苯乙烯基重复单元的树脂，其增加碱显影剂中的溶解速率 酸的作用，（B）在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，和（C）溶剂; 以及使用该组合物的图案形成方法。

公开(公告)号：US06902862B2

公开(公告)日：2005-06-07

申请号：US10654942

申请日：2003-09-05

申请人： Hyou Takahashi ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Shoichiro Yasunami

发明人： Hyou Takahashi ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Shoichiro Yasunami

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/115

摘要： A negative type resist composition comprising: (A1) a compound generating a sulfonic acid upon irradiation with actinic rays or a radiation and having the specific formula, (A2) a compound generating a sulfonic acid upon irradiation with actinic rays or a radiation and having the specific structure, (B) an alkali-soluble resin, and (C) a crosslinking agent capable of carrying out an addition reaction with the alkali-soluble resin which is the component (B) by the action of an acid.

摘要翻译： 一种负型抗蚀剂组合物，其包含：（A1）在用光化射线或辐射照射时产生磺酸的化合物，并具有下列特定结构式：（A2）在用光化射线或辐射照射时产生磺酸的化合物，并具有 特定结构，（B）碱溶性树脂，（C）能够通过酸作为成分（B）的碱溶性树脂进行加成反应的交联剂。

公开(公告)号：US06296985B1

公开(公告)日：2001-10-02

申请号：US09496259

申请日：2000-02-01

申请人： Kazuyoshi Mizutani ,  Shoichiro Yasunami

发明人： Kazuyoshi Mizutani ,  Shoichiro Yasunami

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： G03F7/0757 ,  C08G77/14 ,  C08G77/26 ,  C08K5/00 ,  C08K5/10 ,  C08K5/13 ,  G03F7/0045 ,  C08L83/00

摘要： A positive photoresist composition comprising (a) an acid-decomposable polysiloxane having a structural unit represented by formula (IV): wherein Z′ is a phenyl ring substituted with an acid-decomposable group and (b) a compound which decomposes upon exposure to generate an acid.

摘要翻译： 一种正型光致抗蚀剂组合物，其包含（a）具有由式（IV）表示的结构单元的酸可分解聚硅氧烷：其中Z'是被酸可分解基团取代的苯基环，和（b）在暴露时分解产生的化合物 酸。

公开(公告)号：US5143816A

公开(公告)日：1992-09-01

申请号：US555599

申请日：1990-07-23

申请人： Kazuyoshi Mizutani ,  Toshiaki Aoai

发明人： Kazuyoshi Mizutani ,  Toshiaki Aoai

IPC分类号： G03F7/022 ,  C09D11/03 ,  C09D11/10 ,  C09D11/102 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30

CPC分类号： G03F7/0752

摘要： A light-sensitive composition comprising:(a) a polysiloxane compound having at least 1 mol % of a structural unit derived from a product of a thermal cycloaddition reaction between a compound of formula (I), (II), (III) or (IV) and a compound of formula (V), (VI), (VII) or (VIII), and(b) an orthoquinonediazide compound. ##STR1##

公开(公告)号：US5141840A

公开(公告)日：1992-08-25

申请号：US647067

申请日：1991-01-29

申请人： Kazuyoshi Mizutani ,  Toshiaki Aoai

发明人： Kazuyoshi Mizutani ,  Toshiaki Aoai

IPC分类号： G03F7/039 ,  C08K5/00 ,  C08L83/04 ,  C08L83/06 ,  C08L83/07 ,  C08L83/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075

CPC分类号： C08L83/08 ,  C08L83/06 ,  G03F7/0757 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/126

摘要： A light-sensitive composition comprising:(a) a polysiloxane compound having at least 1 mol % of a structural unit derived from a product of a thermal cycloaddition reaction between a compound of formula (I), (II), (III) or (IV) and a compound of formula (V), (VI), (VII) or (VIII), and(b) an onium salt compound. ##STR1##

摘要翻译： 一种感光组合物，其包含：（a）具有至少1摩尔％的衍生自式（I），（II），（III）或（III）的化合物之间的热环加成反应的产物的结构单元的聚硅氧烷化合物， IV）和式（V），（VI），（VII）或（VIII）的化合物和（b）鎓盐化合物。 （VII）（VII）（VII）））））））））））））））））））））））））））））））））））））））））））

公开(公告)号：US08017304B2

公开(公告)日：2011-09-13

申请号：US12578520

申请日：2009-10-13

申请人： Shinji Tarutani ,  Hideaki Tsubaki ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Kenji Wada ,  Wataru Hoshino

发明人： Shinji Tarutani ,  Hideaki Tsubaki ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Kenji Wada ,  Wataru Hoshino

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/32 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

摘要： A pattern forming method comprising a step of applying a resist composition whose solubility in a negative tone developer decreases upon irradiation with an actinic ray or radiation and which contains a resin having an alicyclic hydrocarbon structure and a dispersity of 1.7 or less and being capable of increasing the polarity by the action of an acid, an exposure step, and a development step using a negative tone developer; a resist composition for use in the method; and a developer and a rinsing solution for use in the method, are provided, whereby a pattern with reduced line edge roughness and high dimensional uniformity can be formed.

摘要翻译： 一种图案形成方法，包括施加抗蚀剂组合物的步骤，所述抗蚀剂组合物在负光谱显影剂中的溶解度随着光化射线或辐射的照射而降低，并且其含有具有脂环族烃结构和分散性为1.7以下并且能够增加的树脂 通过酸的作用的极性，曝光步骤和使用负色调显影剂的显影步骤; 用于该方法的抗蚀剂组合物; 并且提供了用于该方法的显影剂和冲洗溶液，由此可以形成线边缘粗糙度降低且尺寸均匀性高的图案。