公开(公告)号：US07352149B2

公开(公告)日：2008-04-01

申请号：US11511492

申请日：2006-08-29

申请人： Hans Butler ,  Franciscus Adrianus Gerardus Klaassen

发明人： Hans Butler ,  Franciscus Adrianus Gerardus Klaassen

IPC分类号： B64C17/08

CPC分类号： H02P5/46 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70758 ,  H02P25/08

摘要： A method of actuating a movable object in a first degree of freedom includes a) providing a first motor assembly including one or more motors of a first type and a second motor assembly including one or more motors of a second type, each of the first and second motor assembles being configured to move the movable object in the first degree of freedom, b) feeding the first motor assembly with a feed-forward signal of a feed-forward unit on the basis of a feed-forward reference signal, and c) feeding the second motor assembly with a control signal of a position control unit on the basis of a position control reference signal.

摘要翻译： 在第一自由度中致动可移动物体的方法包括：a）提供包括一个或多个第一类型的电动机的第一电动机组件和包括第一类型的一个或多个电动机的第二电动机组件， 第二电动机组件被配置成在第一自由度中移动可移动物体，b）基于前馈参考信号，向第一电动机组件馈送前馈单元的前馈信号，以及c） 基于位置控制参考信号向位置控制单元的控制信号馈送第二电动机组件。

公开(公告)号：US20080024741A1

公开(公告)日：2008-01-31

申请号：US11492215

申请日：2006-07-25

申请人： Hans Butler ,  Franciscus Adrianus Gerardus Klaassen

发明人： Hans Butler ,  Franciscus Adrianus Gerardus Klaassen

IPC分类号： G03B27/00

CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/70991

摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system that conditions a radiation beam, a patterning support holding a patterning device that patterns the radiation beam, a substrate support to hold a substrate, a projection system to project the patterned radiation beam onto the substrate, an additional support, and a flexible line assembly to transfer at least one of a current, a signal or a fluid. A first part of the line assembly extends between a base and the additional support, and a second part extends between the additional support and the patterning support or the substrate support. A first motor assembly generates a force in at least one direction, and is coupled to the one of either the patterning support or the substrate support. A second motor assembly generates a force in the at least one direction, and is coupled to the additional support. The first motor assembly includes a planar motor.

摘要翻译： 光刻设备包括调节辐射束的照明系统，保持图案化辐射束的图案形成装置的图案化支撑件，用于保持衬底的衬底支撑件，将图案化的辐射束投影到衬底上的投影系统，附加支撑件 ，以及柔性线组合件以传送电流，信号或流体中的至少一个。 线组件的第一部分在基部和附加支撑件之间延伸，并且第二部分在附加支撑件和图案形成支撑件或基板支撑件之间延伸。 第一电动机组件在至少一个方向上产生力，并且耦合到图案形成支撑件或衬底支撑件之一。 第二电动机组件在至少一个方向上产生力，并且联接到附加支撑件。 第一马达组件包括平面马达。

公开(公告)号：US07213963B2

公开(公告)日：2007-05-08

申请号：US10857614

申请日：2004-06-01

申请人： Joeri Lof ,  Erik Theodorus Maria Bijlaart ,  Roelof Aeilko Siebrand Ritsema ,  Frank Van Schaik ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Klaus Simon ,  Joannes Theodoor De Smit ,  Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Hans Butler ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Marcus Adrianus Van de Kerkhof ,  Aleksey Yurievich Kolesnychenko ,  Mark Kroon ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hendricus Johannes Maria Meijer ,  Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Joost Jeroen Ottens ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk ,  Helmar Van Santen

发明人： Joeri Lof ,  Erik Theodorus Maria Bijlaart ,  Roelof Aeilko Siebrand Ritsema ,  Frank Van Schaik ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Klaus Simon ,  Joannes Theodoor De Smit ,  Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Hans Butler ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Marcus Adrianus Van de Kerkhof ,  Aleksey Yurievich Kolesnychenko ,  Mark Kroon ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hendricus Johannes Maria Meijer ,  Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Joost Jeroen Ottens ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk ,  Helmar Van Santen

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/74 ,  G03B27/72 ,  G03B27/32 ,  G00B1/00

CPC分类号： G03F7/70141 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70883

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed in which a space between the projection system and a sensor is filled with a liquid.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置，其中投影系统和传感器之间的空间填充有液体。

公开(公告)号：US07209219B2

公开(公告)日：2007-04-24

申请号：US10762569

申请日：2004-01-23

申请人： Hans Butler

发明人： Hans Butler

IPC分类号： G03B27/62 ,  G03B27/58 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70725

摘要： A control system for controlling a position of a mass, such as, for example, a substrate holder in a lithographic apparatus, is presented herein. The control system comprises a first input to receive a desired position of the mass, a second input signal to receive a feedback signal indicative of the actual position of the mass, a control unit that produces a signal indicative of the required control force based on the difference between the desired mass position and the actual mass position, and an estimator unit that calculates an estimated relation between the control force and mass status information indicative of at least one of a position of said mass, a velocity of said mass, and an acceleration of said mass, and a third input to receive a feed-forward signal indicative of the desired mass acceleration. The control system then determines the control force needed to accelerate the mass and move it to a desired position based on the estimated relation and the desired mass acceleration.

摘要翻译： 本文提供了用于控制质量的位置的控制系统，例如光刻设备中的衬底保持器。 所述控制系统包括用于接收所述质量块的所需位置的第一输入端，用于接收指示所述质量块的实际位置的反馈信号的第二输入信号;基于所述控制单元产生指示所需控制力的信号的控制单元 以及估计单元，其计算所述控制力与表示所述质量的位置，所述质量的速度和加速度之中的至少一个的质量状态信息之间的估计关系 以及用于接收指示期望的质量加速度的前馈信号的第三输入。 控制系统然后基于估计的关系和期望的质量加速度确定加速质量所需的控制力并将其移动到期望的位置。

公开(公告)号：US07193722B2

公开(公告)日：2007-03-20

申请号：US10747617

申请日：2003-12-30

申请人： Martinus Godefridus Helena Boogaarts ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Martinus Agnes Willem Cuijpers ,  Jan Jaap Kuit

发明人： Martinus Godefridus Helena Boogaarts ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Martinus Agnes Willem Cuijpers ,  Jan Jaap Kuit

IPC分类号： G01B9/02 ,  G03B27/68

CPC分类号： G03F7/70808 ,  G01N21/8851 ,  G03F7/709

摘要： A lithographic projection apparatus is presented, which includes a housing, which comprises therein a first exposure system that has at least one movable part (e.g. a movable first substrate holder or a movable second substrate holder in a twin stage apparatus). The apparatus also includes a position disturbance correction system for correcting a position of the first substrate holder with respect to the patterned projection beam due to the influence of gas pressure differences or gas movements, caused by movements of the movable part. A related device manufacturing method is also presented in which, during the exposure of a first substrate, the position thereof is corrected by means of position disturbance correction system.

摘要翻译： 提供了一种光刻投影装置，其包括壳体，其中包括第一曝光系统，该第一曝光系统具有至少一个可移动部分（例如，可移动的第一基板支架或双级装置中的可移动的第二基板支架）。 该装置还包括位置扰动校正系统，用于由于可移动部分的运动引起的气体压力差或气体运动的影响，校正第一衬底保持器相对于图案化的投影束的位置。 还提出了一种相关的器件制造方法，其中在第一衬底的曝光期间，其位置通过位置干扰校正系统被校正。

公开(公告)号：US20050275822A1

公开(公告)日：2005-12-15

申请号：US10866076

申请日：2004-06-14

申请人： Hans Butler

发明人： Hans Butler

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70758 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70258

摘要： A positioning device for positioning an object that includes a first actuator and a connector arranged between the first actuator and the object. The connector includes a resilient member and a second actuator connected in series with the resilient member. The first actuator being constructed and arranged to exert a force in a first direction on the connector and the second actuator is controlled to maintain a distance between the first actuator and the object in the first direction substantially constant.

摘要翻译： 一种用于定位物体的定位装置，包括第一致动器和布置在第一致动器和物体之间的连接器。 连接器包括弹性构件和与弹性构件串联连接的第二致动器。 第一致动器被构造和布置成在连接器上沿第一方向施加力并且第二致动器被控制以在第一方向上保持第一致动器和物体之间的距离基本恒定。

公开(公告)号：US20050139790A1

公开(公告)日：2005-06-30

申请号：US10747617

申请日：2003-12-30

申请人： Martinus Boogaarts ,  Hans Butler ,  Henrikus Cox ,  Martinus Cuijpers ,  Jan Kuit

发明人： Martinus Boogaarts ,  Hans Butler ,  Henrikus Cox ,  Martinus Cuijpers ,  Jan Kuit

IPC分类号： G03F9/00 ,  G01N21/88 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G01N21/86

CPC分类号： G03F7/70808 ,  G01N21/8851 ,  G03F7/709

摘要： The present invention relates to a lithographic projection apparatus comprising a housing, which comprises therein a first exposure system that has at least one movable part, e.g. a movable first substrate holder, or a movable second substrate holder in a twin stage apparatus. The system is further provided with position disturbance correction system for correcting a position of the first substrate holder with respect to the patterned projection beam due to the influence of gas pressure differences or gas movements, caused by movements of the movable part. The invention also generally relates to a device manufacturing method comprising providing a lithographic projection apparatus according to the invention with a first substrate, and exposing said first substrate, wherein during said exposing of the first substrate a position thereof is corrected by means of position disturbance correction system.

摘要翻译： 本发明涉及一种包括壳体的光刻投影设备，其中包括第一曝光系统，该曝光系统具有至少一个可移动部分，例如， 可移动的第一衬底保持器或可移动的第二衬底保持器。 该系统还设置有位置扰动校正系统，用于由于可移动部件的运动引起的气体压力差或气体运动的影响，校正第一衬底保持器相对于图案化的投影梁的位置。 本发明还通常涉及一种器件制造方法，其包括：提供具有第一衬底的根据本发明的光刻投影设备，并且暴露所述第一衬底，其中在所述第一衬底的暴露期间，其位置通过位置干扰校正被校正 系统。

公开(公告)号：US06741331B2

公开(公告)日：2004-05-25

申请号：US10066784

申请日：2002-02-06

申请人： Marcus Emile Joannes Boonman ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Hans Butler

发明人： Marcus Emile Joannes Boonman ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Hans Butler

IPC分类号： G03B2754

CPC分类号： G03F7/703 ,  G03F7/70258

摘要： In a lithographic apparatus the shape of the focal plane is adjusted using available manipulators in the projection lens system so that it is in closer conformity to the shape of the wafer surface in the exposure area. The control of the focal plane shape can be integrated with the leveling control which determines the height and tilt of the wafer surface.

摘要翻译： 在光刻设备中，使用投影透镜系统中的可用操纵器来调整焦平面的形状，使得其在曝光区域中更接近于晶片表面的形状。 焦平面形状的控制可以与确定晶片表面的高度和倾斜度的调平控制集成。

公开(公告)号：US09195128B2

公开(公告)日：2015-11-24

申请号：US12730910

申请日：2010-03-24

申请人： Hans Butler

发明人： Hans Butler

IPC分类号： G03B27/32 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03B27/32 ,  G03F9/70 ,  G03F9/7096

摘要： In a lithographic apparatus, a scanning mechanism is coarse compared with precise patterns to be exposed onto a substrate. In order to ensure that the image and the substrate are aligned at some point in time, an oscillation is imparted to either the substrate table, or to a device that aligns the image, such as a mask table. The oscillation frequency is chosen to compliment a maximum alignment error. The frequency of a radiation pulse is arranged to coincide with the image and the substrate being most accurately aligned. The radiation pulse of the image may be timed to coincide with the alignment without the use of the imparted oscillation.

摘要翻译： 在光刻设备中，与要暴露于基底上的精确图案相比，扫描机构粗糙。 为了确保图像和基板在某个时间点对准，向基板台或对准图像的装置（例如掩模台）施加振荡。 选择振荡频率以补偿最大对准误差。 辐射脉冲的频率被布置成与图像重合，并且衬底被最精确对准。 图像的辐射脉冲可以被定时以与定位一致，而不使用所赋予的振荡。

公开(公告)号：US08619232B2

公开(公告)日：2013-12-31

申请号：US12627118

申请日：2009-11-30

申请人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst

发明人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： F16F15/002 ,  G03F7/709

摘要： A method for damping an object in two or more degrees of freedom, including measuring a position quantity at each of the two or more measurement locations; extracting from the measured position quantities a measurement signal for each dynamic mode; feeding the measurement signal of a dynamic mode to a controller unit associated with the respective dynamic mode, the controller unit providing for each dynamic mode an output signal on the basis of the respective measurement signal; and providing a control signal to each of the two or more actuators, the control signal for each actuator being based on output signals of one or more controller units.

摘要翻译： 一种用于在两个或多个自由度中阻尼物体的方法，包括测量两个或更多个测量位置中的每一个处的位置量; 从测量位置数量提取每个动态模式的测量信号; 将动态模式的测量信号馈送到与相应动态模式相关联的控制器单元，所述控制器单元基于相应的测量信号为每个动态模式提供输出信号; 并且向所述两个或更多个致动器中的每一个提供控制信号，每个致动器的控制信号基于一个或多个控制器单元的输出信号。