公开(公告)号：US06882126B2

公开(公告)日：2005-04-19

申请号：US09997144

申请日：2001-11-29

申请人： Douglas C. Watson ,  Mike Binnard ,  Andrew J. Hazelton ,  Martin E. Lee

发明人： Douglas C. Watson ,  Mike Binnard ,  Andrew J. Hazelton ,  Martin E. Lee

IPC分类号： B64C17/06 ,  G05B1/06

CPC分类号： B23Q1/623

摘要： A stage assembly (10) for moving and positioning a device (26) includes a device table (20), a device holder (24) that retains the device (26), and a stage mover assembly (14). The stage assembly (10) includes one or more features that can isolate the device holder 24 and the device (26) from deformation. In some embodiments, the stage assembly (10) allows precise rotation of the device (26) between a first position (42) and a second position (44) without influencing the flatness of the device (26) and without deflecting and distorting the device (26). For example, the stage assembly (10) can include a carrier (60) and a holder connector assembly (62). The carrier (60) is supported above the device table (20) and rotates relative to the device table (20). The holder connector assembly (62) connects the device holder (24) to the carrier (60). Further, the stage assembly (10) can include a holder mover (120) that rotates the device holder (24) relative to the device table (20). Additionally, the stage assembly (10) can include a fluid connector (94) that connects the device holder (24) in fluid communication with the device table (20).

摘要翻译： 用于移动和定位装置（26）的平台组件（10）包括装置台（20），保持装置（26）的装置保持器（24）和平台移动器组件（14）。 台架组件（10）包括可以隔离设备保持器24和设备（26）不变形的一个或多个特征。 在一些实施例中，台架组件（10）允许装置（26）在第一位置（42）和第二位置（44）之间精确地旋转，而不影响装置（26）的平坦度，并且不会使装置偏转和变形 （26）。 例如，台架组件（10）可以包括托架（60）和托架连接器组件（62）。 载体（60）被支撑在装置台（20）上方并相对于装置台（20）旋转。 支架连接器组件（62）将装置支架（24）连接到支架（60）上。 此外，台架组件（10）可以包括相对于设备台（20）旋转设备保持器（24）的保持器移动器（120）。 另外，台架组件（10）可以包括流体连接器（94），其连接与装置台（20）流体连通的装置保持器（24）。

公开(公告)号：US06885430B2

公开(公告)日：2005-04-26

申请号：US10458373

申请日：2003-06-11

申请人： Keiichi Tanaka ,  Mike Binnard ,  Andrew J. Hazelton

发明人： Keiichi Tanaka ,  Mike Binnard ,  Andrew J. Hazelton

IPC分类号： G03B27/62 ,  G03F7/20 ,  G03B27/32 ,  G03B27/42 ,  G03B27/58

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03B27/62 ,  G03F7/70708 ,  G03F7/70766 ,  G03F7/709

摘要： A stage assembly includes a stage base, a stage, a stage mover assembly, a reaction mass assembly, a reaction mover assembly, and a control system. The stage mover assembly moves the stage relative to the stage base. The reaction mass assembly reduces the reaction forces created by the stage mover assembly that are transferred to the stage base. The reaction mover assembly adjusts the position of the reaction mass assembly relative to the stage base. The control system controls and directs current to the reaction mover assembly in a way that minimizes the influence of disturbances created by the reaction mover assembly on the stage assembly. The timing and/or the amount of current from the control system directed to the reaction mover assembly is varied to minimize the influence of the disturbances created by the reaction mover assembly on the stage assembly.

摘要翻译： 舞台组件包括舞台基座，舞台，舞台动子组件，反作用组件，反作用动力组件和控制系统。 平台移动器组件相对于舞台底座移动舞台。 反应物料组件减少由载物台组件产生的反应力，这些反作用力被传递到载物台底部。 反应动子组件调整反应物料组件相对于载物台的位置。 控制系统以最小化由反应动子组件产生在舞台组件上的扰动的影响的方式来控制和引导电流到反应动子组件。 改变来自引导到反应动子组件的控制系统的时间和/或电流量，以最小化由反应动子组件产生在舞台组件上的干扰的影响。

公开(公告)号：US06593997B1

公开(公告)日：2003-07-15

申请号：US09713911

申请日：2000-11-16

申请人： Doug Watson ,  Andrew J. Hazelton ,  Mike Binnard

发明人： Doug Watson ,  Andrew J. Hazelton ,  Mike Binnard

IPC分类号： G03B2742

CPC分类号： G03F7/70708 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70766

摘要： A stage assembly (10) for moving and positioning a device (26) is provided herein. The stage assembly (10) includes a stage base (12), a stage (14), a stage mover assembly (16), and a reaction assembly (18). The stage mover assembly (16) moves the stage (14) along an X axis and along a Y axis relative to the stage base (12). The reaction assembly (18) is coupled to the stage mover assembly (16). Uniquely, the reaction assembly (18) counteracts and reduces the reaction forces created by the stage mover assembly (16) in two degrees of freedom that are transferred to a reaction base (102). With this design, stage mover assembly (16) has less influence upon the position of the stage base (12). These features allow for more accurate positioning of the device (26) by the stage assembly (10) and better performance of the stage assembly (10).

摘要翻译： 本文提供了用于移动和定位装置（26）的平台组件（10）。 舞台组件（10）包括舞台基座（12），舞台（14），舞台推动器组件（16）和反作用组件（18）。 台架动子组件（16）使台架（14）沿着X轴线并相对于舞台底座（12）沿着Y轴移动。 反应组件（18）联接到载物台移动器组件（16）。 独特地，反应组件（18）在转移到反应基体（102）的两个自由度上抵消并减少由载物台移动器组件（16）产生的反作用力。 通过这种设计，平台移动器组件（16）对舞台底座（12）的位置的影响较小。 这些特征允许通过平台组件（10）更准确地定位设备（26）并且使台架组件（10）具有更好的性能。

公开(公告)号：US06958808B2

公开(公告)日：2005-10-25

申请号：US10458384

申请日：2003-06-11

申请人： Keiichi Tanaka ,  Mike Binnard ,  Andrew J. Hazelton

发明人： Keiichi Tanaka ,  Mike Binnard ,  Andrew J. Hazelton

IPC分类号： G03B27/62 ,  G03F7/20 ,  G03B27/42 ,  G03B27/58

CPC分类号： G03B27/62 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70708 ,  G03F7/70766 ,  G03F7/709

摘要： A stage assembly for moving and positioning a device is provided herein. The stage assembly includes a stage base, a stage, a stage mover assembly, a reaction mass assembly, a reaction mover assembly, and a control system. The stage mover assembly moves the stage relative to the stage base. The reaction mass assembly reduces the reaction forces created by the stage mover assembly that are transferred to the stage base. The reaction mover assembly adjusts the position of the reaction mass assembly relative to the stage base. Uniquely, the control system controls and directs current to the reaction mover assembly in a way that minimizes the influence of disturbances created by the reaction mover assembly on the stage assembly. More specifically, the timing and/or the amount of current from the control system directed to the reaction mover assembly is varied to minimize the influence of the disturbances created by the reaction mover assembly on the stage assembly. With this design, the reaction mover assembly has less influence upon the position of the stage base. This allows for more accurate positioning of the device by the stage assembly and better performance of the stage assembly.

摘要翻译： 本文提供了用于移动和定位设备的台架组件。 舞台组件包括舞台基座，舞台，舞台推动器组件，反作用组件，反作用器组件和控制系统。 平台移动器组件相对于舞台底座移动舞台。 反应物料组件减少由载物台组件产生的反应力，这些反作用力被传递到载物台底部。 反应动子组件调整反应物料组件相对于载物台的位置。 独特地，控制系统以最小化由反应动子组件产生在舞台组件上的扰动的影响的方式来控制和引导电流到反应动子组件。 更具体地，改变来自引导到反应动子组件的控制系统的时间和/或电流量，以最小化由反应动子组件产生在舞台组件上的干扰的影响。 通过这种设计，反作用器组件对舞台底座的位置的影响较小。 这允许通过平台组件更好地定位设备并且更好地实现舞台组件的性能。

公开(公告)号：US06313550B1

公开(公告)日：2001-11-06

申请号：US09496839

申请日：2000-02-02

申请人： Mike Binnard ,  Andrew J. Hazelton

发明人： Mike Binnard ,  Andrew J. Hazelton

IPC分类号： H02K4100

CPC分类号： H02K41/031 ,  H02K9/197 ,  H02K2201/18

摘要： A coil assembly (14) used with a magnet assembly (12) for a linear or planar electric motor (10) is provided herein. The coil assembly (14) includes a plurality of coils (18) attached to a coil base (16) with a plurality of coil supports (22). The coil supports (22) secure the coils (18) to the coil base (16) with the coils (18) spaced apart from a first surface (23) of the coil base (16). As a result thereof, both sides (32), (34) of each coil (18) are exposed for cooling. Further, the coil supports (22) allow the coils (18) to expand laterally with minimal stress and thermal deformation. The coil assembly (14) can also include a plurality of spaced apart covers (62). Each cover (62) fits over one of the coils (18) and is secured to the coil base (16). A fluid (24) can be directed into a fluid passageway (58) around each coil (18) to cool each coil (18).

摘要翻译： 本发明提供了一种与用于线性或平面电动机（10）的磁体组件（12）一起使用的线圈组件（14）。 线圈组件（14）包括多个线圈（18），其连接到具有多个线圈支撑件（22）的线圈座（16）上。 线圈支撑件（22）将线圈（18）固定到线圈座（16）上，线圈（18）与线圈座（16）的第一表面（23）间隔开。 结果，每个线圈（18）的两侧（32），（34）被暴露以进行冷却。 此外，线圈支撑件（22）允许线圈（18）以最小的应力和热变形横向膨胀。 线圈组件（14）还可以包括多个间隔开的盖（62）。 每个盖（62）装配在一个线圈（18）上并且固定到线圈座（16）上。 流体（24）可被引导到围绕每个线圈（18）的流体通道（58）中以冷却每个线圈（18）。

公开(公告)号：US06757053B1

公开(公告)日：2004-06-29

申请号：US09714747

申请日：2000-11-16

申请人： Andrew J. Hazelton ,  Mike Binnard

发明人： Andrew J. Hazelton ,  Mike Binnard

IPC分类号： G03B2758

CPC分类号： G03F7/70733 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70766

摘要： A stage assembly (10) for moving and positioning a device (26) is provided herein. The stage assembly (10) includes a stage base (12), a stage (14), a stage mover assembly (16), and a reaction mass assembly (18). The stage mover assembly (16) moves the stage (14) along an X axis and along a Y axis relative to the stage base (12). The reaction mass assembly (18) is coupled to the stage mover assembly (16). Uniquely, the reaction mass assembly (18) reduces the reaction forces created by the stage mover assembly (16) in three degrees of freedom that are transferred to the stage base (12). With this design, stage mover assembly (16) has less influence upon the position of the stage base (12). These features allow for more accurate positioning of the device (26) by the stage assembly (10) and better performance of the stage assembly (10).

摘要翻译： 本文提供了用于移动和定位装置（26）的平台组件（10）。 舞台组件（10）包括舞台底座（12），舞台（14），舞台推动器组件（16）和反作用组件（18）。 台架动子组件（16）使台架（14）沿着X轴线并相对于舞台底座（12）沿着Y轴移动。 反应质量组件（18）联接到载物台移动器组件（16）。 独特地，反应物料组件（18）以三个自由度将由载物台移动器组件（16）产生的反作用力减小到传递到载物台基座（12）上。 通过这种设计，平台移动器组件（16）对舞台底座（12）的位置的影响较小。 这些特征允许通过平台组件（10）更准确地定位设备（26）并且使台架组件（10）具有更好的性能。

公开(公告)号：US20120019792A1

公开(公告)日：2012-01-26

申请号：US13200982

申请日：2011-10-06

申请人： W. Thomas Novak ,  Andrew J. Hazelton ,  Douglas C. Watson

发明人： W. Thomas Novak ,  Andrew J. Hazelton ,  Douglas C. Watson

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A liquid immersion lithography apparatus includes a stage on which a wafer is held. A projection system projects a pattern image to an exposure region through an immersion liquid to expose the wafer on the stage. A plurality of supply openings are arranged to surround the exposure region, via which the liquid is supplied from above the exposure region. A plurality of recovery openings are arranged to surround the exposure region, via which the liquid is collected from above the exposure region. A part of the supply openings are selected so as to supply the liquid ahead of the exposure region in a direction in which the stage moves.

摘要翻译： 液浸光刻设备包括其上保持晶片的台。 投影系统通过浸没液将图案图像投影到曝光区域，以露出台上的晶片。 多个供应开口布置成围绕曝光区域，液体从曝光区域的上方供应。 多个恢复开口被布置成围绕曝光区域，通过该曝光区域从曝光区域上方收集液体。 选择供给开口的一部分，以便在台架移动的方向上将曝光区域前方的液体供给。

公开(公告)号：US07929111B2

公开(公告)日：2011-04-19

申请号：US11819447

申请日：2007-06-27

申请人： W. Thomas Novak ,  Andrew J. Hazelton ,  Douglas C. Watson

发明人： W. Thomas Novak ,  Andrew J. Hazelton ,  Douglas C. Watson

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70866 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/7095

摘要： A lithographic projection apparatus that is arranged to project a pattern from a patterning device onto a substrate using a projection system has a liquid supply system arranged to supply a liquid to a space between the projection system and the substrate. The apparatus also includes a liquid collecting system that includes a liquid collection member having a mesh member through which a liquid is collected from a surface of an object opposite to the liquid collection member.

摘要翻译： 布置成使用投影系统从图案形成装置将图案投影到基板上的光刻投影装置具有布置成将液体供应到投影系统和基板之间的空间的液体供应系统。 该装置还包括液体收集系统，该液体收集系统包括具有网状构件的液体收集构件，通过该网状构件从与液体收集构件相对的物体的表面收集液体。

公开(公告)号：US07869000B2

公开(公告)日：2011-01-11

申请号：US11048405

申请日：2005-01-31

申请人： Yoichi Arai ,  Andrew J. Hazelton ,  Michael Binnard ,  W. Thomas Novak ,  Douglas C. Watson ,  Kirk Lok

发明人： Yoichi Arai ,  Andrew J. Hazelton ,  Michael Binnard ,  W. Thomas Novak ,  Douglas C. Watson ,  Kirk Lok

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70716

摘要： A stage assembly (220) that moves a work piece (200) along a first axis, along a second axis and along a third axis includes a first stage (238), a first mover assembly (242) that moves the first stage (238) along the first axis, a second stage (240) that retains the work piece (200), a second mover assembly (244), and a non-contact bearing (257). The second mover assembly (244) moves the second stage (240) relative to the first stage (238) along the first axis, along the second axis, and along the third axis. The non-contact bearing (257) supports the mass of the second stage (240). Further, the non-contact bearing (257) allows the second stage (240) to move relative to the first stage (238) along the first axis and along the second axis. The second mover assembly (244) can move the second stage (240) with at least four degrees of movement.

摘要翻译： 沿着第二轴线沿着第三轴线沿着第一轴线移动工件（200）的台架组件（220）包括第一阶段（238），第一移动器组件（242），其使第一阶段（238）移动 ），保持所述工件（200）的第二级（240），第二移动器组件（244）和非接触式轴承（257）。 第二移动器组件（244）沿着第一轴线沿着第二轴线和第三轴线相对于第一阶段（238）移动第二阶段（240）。 非接触轴承（257）支撑第二级（240）的质量。 此外，非接触式轴承（257）允许第二级（240）相对于第一级（238）沿着第一轴线并沿着第二轴线移动。 第二移动器组件（244）可以以至少四个移动程度移动第二平台（240）。

公开(公告)号：US07462958B2

公开(公告)日：2008-12-09

申请号：US11067813

申请日：2005-02-28

申请人： Andrew J. Hazelton

发明人： Andrew J. Hazelton

IPC分类号： H02K41/00 ,  H02N2/00

CPC分类号： G03F7/70816 ,  G03F7/70758 ,  H02K41/0354 ,  H02K2201/18 ,  H02N15/02

摘要： Methods and apparatus which are suitable for actuating a stage relative to a z-axis and supporting the weight of the stage against the force of gravity are disclosed. According to one aspect of the present invention, an actuator device includes a first arrangement, a magnetic system, a piston, and a guide bearing arrangement. The first arrangement includes a yoke and a center pole, and the magnetic system includes a magnet that is coupled to the yoke as well as a coil which cooperate to function as a voice coil motor. The piston supports at least a weight associated with the first arrangement, and the guide bearing arrangement includes a planar air bearing that enables the device to move over an external surface.

摘要翻译： 公开了适于致动相对于z轴的台阶并且抵抗重力支撑台的重量的方法和装置。 根据本发明的一个方面，致动器装置包括第一装置，磁性系统，活塞和导向轴承装置。 第一装置包括轭和中心极，并且磁系统包括耦合到轭的磁体以及配合用作音圈电动机的线圈。 所述活塞至少支撑与所述第一装置相关的重物，并且所述导向轴承装置包括能够使所述装置在外表面上移动的平面空气轴承。