公开(公告)号：US20190354015A1

公开(公告)日：2019-11-21

申请号：US16525526

申请日：2019-07-29

申请人： Owendi Ongayi ,  Vipul Jain ,  Suzanne Coley ,  Anthony Zampini

发明人： Owendi Ongayi ,  Vipul Jain ,  Suzanne Coley ,  Anthony Zampini

IPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/16

摘要： Organic coating compositions, particularly antireflective coating compositions, are provided that comprise that comprise a component that comprises one or more uracil moieties. Preferred compositions of the invention are useful to reduce reflection of exposing radiation from a substrate back into an overcoated photoresist layer and/or function as a planarizing, conformal or via-fill layer.

公开(公告)号：US09696627B2

公开(公告)日：2017-07-04

申请号：US12966928

申请日：2010-12-13

申请人： Deyan Wang ,  Jinrong Liu ,  Cong Liu ,  Doris Kang ,  Anthony Zampini ,  Cheng-Bai Xu

发明人： Deyan Wang ,  Jinrong Liu ,  Cong Liu ,  Doris Kang ,  Anthony Zampini ,  Cheng-Bai Xu

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/322

摘要： New photoresist compositions are provided that are useful for immersion lithography. Preferred photoresist compositions of the invention comprise one or more materials that have base-reactive groups. Particularly preferred photoresists of the invention can exhibit reduced leaching of resist materials into an immersion fluid contacting the resist layer during immersion lithography processing.

公开(公告)号：US09429844B2

公开(公告)日：2016-08-30

申请号：US11712160

申请日：2007-02-28

申请人： Anthony Zampini ,  Gerald B. Wayton

发明人： Anthony Zampini ,  Gerald B. Wayton

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  C08L35/00 ,  C09D135/00 ,  C08L33/06 ,  C08L67/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08L33/066 ,  C08L35/00 ,  C08L67/00 ,  C08L2312/00 ,  C09D133/064 ,  C09D133/066 ,  C09D133/12 ,  C09D135/00 ,  C09D145/00 ,  C09D167/02 ,  G03F7/094 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2041 ,  H01L21/0276 ,  C08L2666/18 ,  C08L2666/04

摘要： Organic coating composition are provided including antireflective coating compositions that can reduce reflection of exposing radiation from a substrate back into an overcoated photoresist layer and/or function as a planarizing or via-fill layer. Preferred organic coating compositions of the invention comprise one or more resins that can harden upon thermal treatment without generation of a cleavage product. Particularly preferred organic coating compositions of the invention comprise one or more components that comprise anhydride and hydroxy moieties.

摘要翻译： 提供了有机涂料组合物，包括抗反射涂料组合物，其可以减少从衬底暴露辐射的反射回到外涂光致抗蚀剂层和/或作为平坦化或通孔填充层的功能。 本发明的优选的有机涂料组合物包含一种或多种可以在不产生裂解产物的情况下硬化的树脂。 本发明特别优选的有机涂料组合物包含一种或多种包含酸酐和羟基部分的组分。

公开(公告)号：US08455178B2

公开(公告)日：2013-06-04

申请号：US11904028

申请日：2007-09-25

申请人： Anthony Zampini ,  Michael K. Gallagher ,  Vipul Jain ,  Owendi Ongayi

发明人： Anthony Zampini ,  Michael K. Gallagher ,  Vipul Jain ,  Owendi Ongayi

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/26

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/0392

摘要： Underlying coating compositions are provided that comprise one or more resins comprising one or more modified imide groups. These coating compositions are particularly useful as antireflective layers for an overcoated photoresist layer. Preferred systems can be thermally treated to increase hydrophilicity of the composition coating layer to inhibit undesired intermixing with an overcoated organic composition layer, while rendering the composition coating layer removable with aqueous alkaline photoresist developer.

摘要翻译： 提供了包含一种或多种包含一种或多种改性酰亚胺基团的树脂的底涂层组合物。 这些涂料组合物特别可用作外涂光致抗蚀剂层的抗反射层。 优选的体系可以被热处理以增加组合物涂层的亲水性，以抑制与外涂有机组合物层的不期望的混合，同时使含水碱性光致抗蚀剂显影剂可除去组合物涂层。

公开(公告)号：US20080248331A1

公开(公告)日：2008-10-09

申请号：US12080944

申请日：2008-04-07

申请人： Michael K. Gallagher ,  Anthony Zampini

发明人： Michael K. Gallagher ,  Anthony Zampini

IPC分类号： B32B9/04 ,  B05D1/36 ,  G03F7/00 ,  C08G73/00

CPC分类号： G03F7/091

摘要： The invention relates to organic coating compositions useful for photolithographic processes including the manufacture of semiconductors and other electronic devices. Compositions of the invention comprise component that comprise a nitrile-containing component, such as a resin component that contains nitrile moieties. Compositions of the invention are particularly useful as an underlayer material in two, three, four or more layer pattern forming processes.

摘要翻译： 本发明涉及可用于光刻工艺的有机涂料组合物，包括制造半导体和其它电子器件。 本发明的组合物包含包含含腈组分的组分，例如含有腈部分的树脂组分。 本发明的组合物特别可用作两层，三层，四层或更多层图案形成工艺中的底层材料。

公开(公告)号：US06844270B2

公开(公告)日：2005-01-18

申请号：US09994130

申请日：2001-11-26

申请人： Anthony Zampini ,  Sungseo Cho

发明人： Anthony Zampini ,  Sungseo Cho

IPC分类号： G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  H01L21/31 ,  H01L21/469

CPC分类号： G03F7/0392 ,  H01L21/0271 ,  Y10S438/948

摘要： The present invention includes polyacetal polymers and photoresist compositions that include the polymers as a resin binder component. Photoresists of the invention include chemically-amplified positive-acting resists that can be effectively imaged at short wavelengths such as sub-300 nm, particularly 157 nm.

摘要翻译： 本发明包括聚缩醛聚合物和光致抗蚀剂组合物，其包括作为树脂粘合剂组分的聚合物。 本发明的光刻胶包括可以在短波长例如亚300nm，特别是157nm下有效成像的化学放大的正性抗蚀剂。

公开(公告)号：US5932389A

公开(公告)日：1999-08-03

申请号：US027450

申请日：1998-02-20

申请人： Anthony Zampini

发明人： Anthony Zampini

IPC分类号： G03C1/52

CPC分类号： C08G8/12 ,  C08G8/10 ,  G03F7/0236

摘要： This invention relates to alternating and block copolymer resins of uniform and controlled chain length and methods for preparing the same. The alternating copolymer resins are formed from the reaction of a bisoxymethylphenol, a reactive phenolic compound and a monooxymethylphenol. The alternating copolymer may then be further reacted with a second reactive compound in the presence of an aldehyde to form the substantially blocked copolymer. The resins of the invention are characterized by a low molecular weight distribution. The resins are useful for the formulation of high resolution photoresist materials.

摘要翻译： 本发明涉及均匀和受控链长度的交替和嵌段共聚物树脂及其制备方法。 交替共聚物树脂是由二氧化甲基苯酚，反应性酚类化合物和单氧基甲基苯酚的反应形成的。 然后可以在醛的存在下将交替共聚物与第二反应性化合物进一步反应以形成基本上封闭的共聚物。 本发明的树脂的特征在于低分子量分布。 这些树脂可用于制备高分辨率光致抗蚀剂材料。

公开(公告)号：US5178986A

公开(公告)日：1993-01-12

申请号：US902458

申请日：1992-06-19

申请人： Anthony Zampini ,  David C. Madoux ,  Peter Trefonas, III ,  Charles R. Szmanda

发明人： Anthony Zampini ,  David C. Madoux ,  Peter Trefonas, III ,  Charles R. Szmanda

IPC分类号： G03F7/022

CPC分类号： G03F7/022

摘要： A radiation sensitive oligomeric compound is described as the photoactive component with a base soluble phenolic matrix resin to provide improved photo-resist composition having high light-sensitivity, high resolution, excellent developer resistance and excellent resistance to thermal flow.

摘要翻译： 辐射敏感低聚化合物被描述为具有碱溶性酚基树脂的光活性组分，以提供具有高光敏性，高分辨率，优异的显影剂抗性和优异的耐热流动性的改进的光致抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US4530703A

公开(公告)日：1985-07-23

申请号：US509636

申请日：1983-06-30

申请人： Raymond F. Malon ,  Anthony Zampini

发明人： Raymond F. Malon ,  Anthony Zampini

IPC分类号： C08K3/28 ,  B01D53/22 ,  B01D69/08 ,  B01D71/52 ,  B01D71/66 ,  B01D71/68 ,  C08G65/48 ,  C08K5/16 ,  C08L71/12

CPC分类号： C08G65/485 ,  B01D69/08 ,  B01D71/52 ,  B01D71/68 ,  C08L71/126

摘要： Covalently-bonded, cross-linked polymeric gas separation membranes of a polyarylene oxide precursor and a chemical cross-linking agent. Apparatus and processes utilizing such membranes for selectively separating at least one gas from a gaseous mixture by permeation.Membranes include substituted phenylene oxide polymers cross-linked with ammonia.

摘要翻译： 聚环氧丙烷前体和化学交联剂的共价键合的交联聚合物气体分离膜。 使用这种膜的装置和方法用于通过渗透从气态混合物中选择性分离至少一种气体。 膜包括与氨交联的取代的苯醚聚合物。

公开(公告)号：US4468500A

公开(公告)日：1984-08-28

申请号：US509611

申请日：1983-06-30

申请人： Raymond F. Malon ,  Anthony Zampini

发明人： Raymond F. Malon ,  Anthony Zampini

IPC分类号： B01D71/52 ,  C08G65/48

CPC分类号： B01D71/52 ,  C08G65/485

摘要： Cross-linked polyphenylene oxide compositions comprise the reaction product of haloacylated polyphenylene oxide and a primary monoamine. The polyphenylene oxide chains are cross-linked by amino ketone bonding. Such cross-linked polymers are useful as membranes, for instance gas separation membranes.

摘要翻译： 交联聚苯醚组合物包含卤代酰化聚苯醚与伯胺的反应产物。 聚苯醚链通过氨基酮键交联。 这种交联聚合物可用作膜，例如气体分离膜。