公开(公告)号：US20060139592A1

公开(公告)日：2006-06-29

申请号：US11269881

申请日：2005-11-09

申请人： Arie Den Boef ,  Jacobus Burghoorn ,  Mircea Dusa ,  Antoine Kiers ,  Maurits Van Der Schaar

发明人： Arie Den Boef ,  Jacobus Burghoorn ,  Mircea Dusa ,  Antoine Kiers ,  Maurits Van Der Schaar

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F9/708 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70675 ,  G03F7/70991 ,  G03F9/7084

摘要： An apparatus and method for improved latent overlay metrology is disclosed. In an embodiment, a scatterometer and an overexposed overlay target are used to obtain more robust overlay measurement. Overlay metrology and exposure may be done in parallel.

摘要翻译： 公开了一种用于改进潜重叠计量的装置和方法。 在一个实施例中，使用散射仪和曝光过度的覆盖目标来获得更坚固的覆盖测量。 叠加计量和曝光可以并行进行。

公开(公告)号：US20060103033A1

公开(公告)日：2006-05-18

申请号：US10986179

申请日：2004-11-12

申请人： Richard Johannes Van Haren ,  Arie Den Boef ,  Jacobus Burghoorn ,  Maurits Van Der Schaar ,  Bartolomeus Rijpers

发明人： Richard Johannes Van Haren ,  Arie Den Boef ,  Jacobus Burghoorn ,  Maurits Van Der Schaar ,  Bartolomeus Rijpers

IPC分类号： H01L23/544

CPC分类号： H01L23/544 ,  G03F7/70633 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7065 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7092 ,  H01L2223/54453 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： The invention includes a lithographic system having a first source for generating radiation with a first wavelength and an alignment system with a second source for generating radiation with a second wavelength. The second wavelength is larger than the first wavelength. A marker structure is provided having a first layer and a second layer. The second layer is present either directly or indirectly on top of said first layer. The first layer has a first periodic structure and the second layer has a second periodic structure. At least one of the periodic structures has a plurality of features in at least one direction with a dimension smaller than 400 nm. Additionally, a combination of the first and second periodic structure forms a diffractive structure arranged to be illuminated by radiation with the second wavelength.

公开(公告)号：US20060109463A1

公开(公告)日：2006-05-25

申请号：US10993416

申请日：2004-11-22

申请人： Arie Boef ,  Jacobus Burghoorn ,  Mircea Dusa ,  Antoine Kiers ,  Maurits Schaar

发明人： Arie Boef ,  Jacobus Burghoorn ,  Mircea Dusa ,  Antoine Kiers ,  Maurits Schaar

IPC分类号： G01B11/00

CPC分类号： G03F9/708 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70675 ,  G03F7/70991 ,  G03F9/7084

摘要： An apparatus and method for improved latent overlay metrology is disclosed. In an embodiment, a scatterometer and an overexposed overlay target are used to obtain more robust overlay measurement.

摘要翻译： 公开了一种用于改进潜重叠计量的装置和方法。 在一个实施例中，使用散射仪和曝光过度的覆盖目标来获得更坚固的覆盖测量。

公开(公告)号：US20100068830A1

公开(公告)日：2010-03-18

申请号：US12611428

申请日：2009-11-03

申请人： Richard Johannes Franciscus VAN HAREN ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Jacobus Burghoorn ,  Maurits Van Der Schaar ,  Bartolomeus Petrus Rijpers

发明人： Richard Johannes Franciscus VAN HAREN ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Jacobus Burghoorn ,  Maurits Van Der Schaar ,  Bartolomeus Petrus Rijpers

IPC分类号： H01L21/66 ,  G21K5/00 ,  H01L21/26

CPC分类号： H01L23/544 ,  G03F7/70633 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7065 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7092 ,  H01L2223/54453 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： The invention includes a lithographic system having a first source for generating radiation with a first wavelength and an alignment system with a second source for generating radiation with a second wavelength. The second wavelength is larger than the first wavelength. A marker structure is provided having a first layer and a second layer. The second layer is present either directly or indirectly on top of said first layer. The first layer has a first periodic structure and the second layer has a second periodic structure. At least one of the periodic structures has a plurality of features in at least one direction with a dimension smaller than 400 nm. Additionally, a combination of the first and second periodic structure forms a diffractive structure arranged to be illuminated by radiation with the second wavelength.

摘要翻译： 本发明包括具有用于产生具有第一波长的辐射的第一源和具有用于产生具有第二波长的辐射的第二源的对准系统的光刻系统。 第二波长大于第一波长。 提供了具有第一层和第二层的标记结构。 第二层直接或间接地存在于所述第一层的顶部。 第一层具有第一周期性结构，第二层具有第二周期性结构。 至少一个周期性结构在尺寸小于400nm的至少一个方向上具有多个特征。 另外，第一和第二周期结构的组合形成被布置为被具有第二波长的辐射照射的衍射结构。

公开(公告)号：US20090066921A1

公开(公告)日：2009-03-12

申请号：US12269390

申请日：2008-11-12

申请人： Maurits Van Der Schaar ,  Jacobus Burghoorn ,  Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Everhardus Cornelis Mos ,  Rene Monshouwer

发明人： Maurits Van Der Schaar ,  Jacobus Burghoorn ,  Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Everhardus Cornelis Mos ,  Rene Monshouwer

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/105 ,  G03F7/168 ,  G03F9/708 ,  G03F9/7084

摘要： A method of producing a marker on a substrate includes projecting a patterned beam on a layer of resist disposed on a substrate in a lithographic apparatus to create a latent marker; and locally heating the substrate at the marker location in the lithographic apparatus to transform the latent marker into a detectable marker.

摘要翻译： 在衬底上产生标记的方法包括将图案化的光束投影到设置在光刻设备中的衬底的抗蚀剂层上以产生潜在标记; 并且在光刻设备中的标记位置处局部加热衬底，以将潜在标记转变成可检测标记。

公开(公告)号：US07476490B2

公开(公告)日：2009-01-13

申请号：US10875605

申请日：2004-06-25

申请人： Maurits Van Der Schaar ,  Jacobus Burghoorn ,  Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Everhardus Cornelis Mos ,  Rene Monshouwer

发明人： Maurits Van Der Schaar ,  Jacobus Burghoorn ,  Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Everhardus Cornelis Mos ,  Rene Monshouwer

IPC分类号： G03C9/00

CPC分类号： G03F7/105 ,  G03F7/168 ,  G03F9/708 ,  G03F9/7084

摘要： A method of producing a marker on a substrate includes projecting a patterned beam on a layer of resist disposed on a substrate in a lithographic apparatus to create a latent marker; and locally heating the substrate at the marker location in the lithographic apparatus to transform the latent marker into a detectable marker.

摘要翻译： 在衬底上产生标记的方法包括将图案化的光束投影到设置在光刻设备中的衬底的抗蚀剂层上以产生潜在标记; 并且在光刻设备中的标记位置处局部加热衬底，以将潜在标记转变成可检测标记。

公开(公告)号：US08264664B2

公开(公告)日：2012-09-11

申请号：US12269390

申请日：2008-11-12

申请人： Maurits Van Der Schaar ,  Jacobus Burghoorn ,  Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Everhardus Cornelis Mos ,  Rene Monshouwer

发明人： Maurits Van Der Schaar ,  Jacobus Burghoorn ,  Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Everhardus Cornelis Mos ,  Rene Monshouwer

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/105 ,  G03F7/168 ,  G03F9/708 ,  G03F9/7084

摘要： A method of producing a marker on a substrate includes projecting a patterned beam on a layer of resist disposed on a substrate in a lithographic apparatus to create a latent marker; and locally heating the substrate at the marker location in the lithographic apparatus to transform the latent marker into a detectable marker.

摘要翻译： 在衬底上产生标记的方法包括将图案化的光束投影到设置在光刻设备中的衬底的抗蚀剂层上以产生潜在标记; 并且在光刻设备中的标记位置处局部加热衬底，以将潜在标记转变成可检测标记。

公开(公告)号：US07879682B2

公开(公告)日：2011-02-01

申请号：US12611428

申请日：2009-11-03

申请人： Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Jacobus Burghoorn ,  Maurits Van Der Schaar ,  Bart Rijpers

发明人： Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Jacobus Burghoorn ,  Maurits Van Der Schaar ,  Bart Rijpers

IPC分类号： H01L21/76 ,  H01L21/78 ,  H01L21/46 ,  H01L23/544 ,  G01B11/00

CPC分类号： H01L23/544 ,  G03F7/70633 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7065 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7092 ,  H01L2223/54453 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： The invention includes a lithographic system having a first source for generating radiation with a first wavelength and an alignment system with a second source for generating radiation with a second wavelength. The second wavelength is larger than the first wavelength. A marker structure is provided having a first layer and a second layer. The second layer is present either directly or indirectly on top of said first layer. The first layer has a first periodic structure and the second layer has a second periodic structure. At least one of the periodic structures has a plurality of features in at least one direction with a dimension smaller than 400 nm. Additionally, a combination of the first and second periodic structure forms a diffractive structure arranged to be illuminated by radiation with the second wavelength.

摘要翻译： 本发明包括具有用于产生具有第一波长的辐射的第一源和具有用于产生具有第二波长的辐射的第二源的对准系统的光刻系统。 第二波长大于第一波长。 提供了具有第一层和第二层的标记结构。 第二层直接或间接地存在于所述第一层的顶部。 第一层具有第一周期性结构，第二层具有第二周期性结构。 至少一个周期性结构在尺寸小于400nm的至少一个方向上具有多个特征。 另外，第一和第二周期结构的组合形成被布置为被具有第二波长的辐射照射的衍射结构。

公开(公告)号：US07629697B2

公开(公告)日：2009-12-08

申请号：US10986179

申请日：2004-11-12

申请人： Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Jacobus Burghoorn ,  Maurits Van Der Schaar ,  Bartolomeus Petrus Rijpers

发明人： Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Jacobus Burghoorn ,  Maurits Van Der Schaar ,  Bartolomeus Petrus Rijpers

IPC分类号： H01L23/544 ,  H01L21/76 ,  H01L21/78 ,  H01L21/46 ,  G01B11/00

CPC分类号： H01L23/544 ,  G03F7/70633 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7065 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7092 ,  H01L2223/54453 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： The invention includes a lithographic system having a first source for generating radiation with a first wavelength and an alignment system with a second source for generating radiation with a second wavelength. The second wavelength is larger than the first wavelength. A marker structure is provided having a first layer and a second layer. The second layer is present either directly or indirectly on top of said first layer. The first layer has a first periodic structure and the second layer has a second periodic structure. At least one of the periodic structures has a plurality of features in at least one direction with a dimension smaller than 400 nm. Additionally, a combination of the first and second periodic structure forms a diffractive structure arranged to be illuminated by radiation with the second wavelength.

摘要翻译： 本发明包括具有用于产生具有第一波长的辐射的第一源和具有用于产生具有第二波长的辐射的第二源的对准系统的光刻系统。 第二波长大于第一波长。 提供了具有第一层和第二层的标记结构。 第二层直接或间接地存在于所述第一层的顶部。 第一层具有第一周期性结构，第二层具有第二周期性结构。 至少一个周期性结构在尺寸小于400nm的至少一个方向上具有多个特征。 另外，第一和第二周期结构的组合形成被布置为被具有第二波长的辐射照射的衍射结构。

公开(公告)号：US20060008714A1

公开(公告)日：2006-01-12

申请号：US10875605

申请日：2004-06-25

申请人： Maurits Van Der Schaar ,  Jacobus Burghoorn ,  Richard Franciscus Van Haren ,  Everhardus Mos ,  Rene Monshouwer

发明人： Maurits Van Der Schaar ,  Jacobus Burghoorn ,  Richard Franciscus Van Haren ,  Everhardus Mos ,  Rene Monshouwer

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/105 ,  G03F7/168 ,  G03F9/708 ,  G03F9/7084

摘要： A method of producing a marker on a substrate includes projecting a patterned beam on a layer of resist disposed on a substrate in a lithographic apparatus to create a latent marker; and locally heating the substrate at the marker location in the lithographic apparatus to transform the latent marker into a detectable marker.