公开(公告)号：US20060109463A1

公开(公告)日：2006-05-25

申请号：US10993416

申请日：2004-11-22

申请人： Arie Boef ,  Jacobus Burghoorn ,  Mircea Dusa ,  Antoine Kiers ,  Maurits Schaar

发明人： Arie Boef ,  Jacobus Burghoorn ,  Mircea Dusa ,  Antoine Kiers ,  Maurits Schaar

IPC分类号： G01B11/00

CPC分类号： G03F9/708 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70675 ,  G03F7/70991 ,  G03F9/7084

摘要： An apparatus and method for improved latent overlay metrology is disclosed. In an embodiment, a scatterometer and an overexposed overlay target are used to obtain more robust overlay measurement.

摘要翻译： 公开了一种用于改进潜重叠计量的装置和方法。 在一个实施例中，使用散射仪和曝光过度的覆盖目标来获得更坚固的覆盖测量。

公开(公告)号：US20060066855A1

公开(公告)日：2006-03-30

申请号：US11203418

申请日：2005-08-15

申请人： Arie Boef ,  Arno Bleeker ,  Youri Laurentius Maria Van Dommelen ,  Mircea Dusa ,  Antoine Kiers ,  Paul Luehrmann ,  Henricus Pellemans ,  Maurits Schaar ,  Cedric Grouwstra ,  Markus Van Kraaij

发明人： Arie Boef ,  Arno Bleeker ,  Youri Laurentius Maria Van Dommelen ,  Mircea Dusa ,  Antoine Kiers ,  Paul Luehrmann ,  Henricus Pellemans ,  Maurits Schaar ,  Cedric Grouwstra ,  Markus Van Kraaij

IPC分类号： G01B11/00

CPC分类号： G01N21/8806 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/7065 ,  G03F9/7034

摘要： An apparatus and method to determine a property of a substrate by measuring, in the pupil plane of a high numerical aperture lens, an angle-resolved spectrum as a result of radiation being reflected off the substrate. The property may be angle and wavelength dependent and may include the intensity of TM- and TE-polarized radiation and their relative phase difference.

公开(公告)号：US20060139592A1

公开(公告)日：2006-06-29

申请号：US11269881

申请日：2005-11-09

申请人： Arie Den Boef ,  Jacobus Burghoorn ,  Mircea Dusa ,  Antoine Kiers ,  Maurits Van Der Schaar

发明人： Arie Den Boef ,  Jacobus Burghoorn ,  Mircea Dusa ,  Antoine Kiers ,  Maurits Van Der Schaar

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F9/708 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70675 ,  G03F7/70991 ,  G03F9/7084

摘要： An apparatus and method for improved latent overlay metrology is disclosed. In an embodiment, a scatterometer and an overexposed overlay target are used to obtain more robust overlay measurement. Overlay metrology and exposure may be done in parallel.

摘要翻译： 公开了一种用于改进潜重叠计量的装置和方法。 在一个实施例中，使用散射仪和曝光过度的覆盖目标来获得更坚固的覆盖测量。 叠加计量和曝光可以并行进行。

公开(公告)号：US20070052948A1

公开(公告)日：2007-03-08

申请号：US11594075

申请日：2006-11-08

申请人： Arie Den Boef ,  Hans Van Der Laan ,  Antonius Van Dijsseldonk ,  Mircea Dusa ,  Antoine Kiers

发明人： Arie Den Boef ,  Hans Van Der Laan ,  Antonius Van Dijsseldonk ,  Mircea Dusa ,  Antoine Kiers

IPC分类号： G01B9/00

CPC分类号： G03F7/706

摘要： In a method according to one embodiment of the invention, aberrations in a lithographic apparatus are detected by printing a test pattern having at least one degree of symmetry and being sensitive to a particular aberration in the apparatus, and using a scatterometer to derive information concerning the aberration. The test structure may comprise a two-bar grating, in which case the inner and outer duty ratios can be reconstructed to derive information indicative of comatic aberration. Alternatively, a hexagonal array of dots can be used, such that scatterometry data can be used to reconstruct dot diameters indicative of 3-wave aberration.

公开(公告)号：US20060192936A1

公开(公告)日：2006-08-31

申请号：US11353235

申请日：2006-02-14

申请人： Koen Schenau ,  Maurice Henricus Janssen ,  Antoine Kiers ,  Hans Laan ,  Peter Vanoppen

发明人： Koen Schenau ,  Maurice Henricus Janssen ,  Antoine Kiers ,  Hans Laan ,  Peter Vanoppen

IPC分类号： G03B27/72

CPC分类号： G03F7/705 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/7085

摘要： A lithographic apparatus includes an illuminator configured to condition a beam of radiation and a support configured to hold a patterning device. The patterning device is configured to pattern the beam of radiation according to a desired pattern. The lithographic apparatus also includes a substrate table configured to hold a substrate and a projection system configured to project the patterned beam onto a target portion of the substrate to form a patterned image on the substrate. The apparatus further includes a sensor configured and arranged to intercept a portion of the beam and to measure a transmission of the beam through at least a portion of the patterning device.

摘要翻译： 光刻设备包括被配置为调节辐射束的照明器和被配置为保持图案形成装置的支撑件。 图案形成装置被配置成根据期望的图案对辐射束进行图案化。 光刻设备还包括被配置为保持衬底的衬底台和配置成将图案化的光束投影到衬底的目标部分上以在衬底上形成图案化图像的投影系统。 所述装置还包括被配置和布置成拦截所述光束的一部分并且测量所述光束通过所述图案形成装置的至少一部分的透射的传感器。

公开(公告)号：US20050185174A1

公开(公告)日：2005-08-25

申请号：US10853724

申请日：2004-05-26

申请人： Hans Laan ,  Rene Carpaij ,  Hugo Cramer ,  Antoine Kiers

发明人： Hans Laan ,  Rene Carpaij ,  Hugo Cramer ,  Antoine Kiers

IPC分类号： G01N21/27 ,  G01N21/47 ,  G01N21/95 ,  G01N21/956 ,  G03F7/20 ,  H01L21/66 ,  G01J1/10

CPC分类号： G03F7/70683 ,  G01N21/274 ,  G01N21/278 ,  G01N21/47 ,  G01N21/4785 ,  G01N21/4788 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/95615 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70641

摘要： A method according to an embodiment includes obtaining calibration measurement data, with an optical detection apparatus, from a plurality of marker structure sets provided on a calibration substrate. Each marker structure set includes at least one calibration marker structure created using different known values of the process parameter. The method includes obtaining measurement data, with the optical detection apparatus, from at least one marker structure provided on a substrate and exposed using an unknown value of the process parameter; and determining the unknown value of the process parameter from the obtained measurement data by employing regression coefficients in a model based on the known values of the process parameter and the calibration measurement data.

摘要翻译： 根据实施例的方法包括从设置在校准基板上的多个标记结构集合，利用光学检测装置获得校准测量数据。 每个标记结构集包括使用过程参数的不同已知值创建的至少一个校准标记结构。 该方法包括使用光学检测装置从设置在基板上的至少一个标记结构获得测量数据，并使用未知的工艺参数值进行曝光; 以及基于所述过程参数和所述校准测量数据的已知值，通过使用模型中的回归系数，从所获得的测量数据中确定所述过程参数的未知值。

公开(公告)号：US20070222979A1

公开(公告)日：2007-09-27

申请号：US10590352

申请日：2005-02-22

申请人： Hans Van Der Laan ,  Rene Carpaij ,  Hugo Cramer ,  Antoine Kiers

发明人： Hans Van Der Laan ,  Rene Carpaij ,  Hugo Cramer ,  Antoine Kiers

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G01N21/278 ,  G01N21/274 ,  G01N21/4785 ,  G01N21/4788 ,  G01N2021/95615 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/70683

摘要： A method according to an embodiment includes obtaining calibration measurement data, with an optical detection apparatus, from a plurality of marker structure sets provided on a calibration substrate. Each marker structure set includes at least one calibration marker structure created using different known values of the process parameter. The method includes obtaining measurement data, with the optical detection apparatus, from at least one marker structure provided on a substrate and exposed using an unknown value of the process parameter; and determining the unknown value of the process parameter from the obtained measurement data by employing regression coefficients in a model based on the known values of the process parameter and the calibration measurement data.

摘要翻译： 根据实施例的方法包括从设置在校准基板上的多个标记结构集合，利用光学检测装置获得校准测量数据。 每个标记结构集包括使用过程参数的不同已知值创建的至少一个校准标记结构。 该方法包括使用光学检测装置从设置在基板上的至少一个标记结构获得测量数据，并使用未知的工艺参数值进行曝光; 以及基于所述过程参数和所述校准测量数据的已知值，通过使用模型中的回归系数，从所获得的测量数据中确定所述过程参数的未知值。