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    Method and apparatus for automatic registration and visualization of occluded targets using ladar data
    3.
    发明申请
    Method and apparatus for automatic registration and visualization of occluded targets using ladar data 有权
    使用拉达数据自动注册和闭塞目标可视化的方法和装置

    公开(公告)号：US20050243323A1

    公开(公告)日：2005-11-03

    申请号：US10825946

    申请日：2004-04-16

    申请人： Stephen Hsu ,  Supun Samarasekera ,  Rakesh Kumar ,  Wen-Yi Zhao ,  Keith Hanna

    发明人： Stephen Hsu ,  Supun Samarasekera ,  Rakesh Kumar ,  Wen-Yi Zhao ,  Keith Hanna

    IPC分类号： G01B9/02 ,  G01B11/14 ,  G01C3/08 ,  G01J3/45 ,  G06T20060101

    CPC分类号： G06T5/20 ,  G01S17/89 ,  G06K9/3241 ,  G06T5/002 ,  G06T7/30 ,  G06T7/33 ,  G06T2200/04 ,  G06T2207/10028 ,  G06T2207/20016 ,  G06T2207/30212 ,  G06T2207/30236

    摘要： A method and apparatus for high-resolution 3D imaging ladar system which can penetrate foliage and camouflage to sample fragments of concealed surfaces of interest is disclosed. Samples collected while the ladar moves can be integrated into a coherent object shape. In one embodiment, a system and method for automatic data-driven registration of ladar frames, comprises a coarse search stage, a pairwise fine registration stage using an iterated closest points algorithm, and a multi-view registration strategy. After alignment and aggregation, it is often difficult for human observers to find, assess and recognize objects from a point cloud display. Basic display manipulations, surface fitting techniques, and clutter suppression to enhance visual exploitation of 3D imaging ladar data may be utilized.

    摘要翻译： 公开了一种用于高分辨率3D成像系统的方法和装置，其可以穿透叶子并伪装成对所关注的隐藏表面的碎片进行采样。 收集的样本可以集成到一个连贯的物体形状。 在一个实施例中，用于自动数据驱动的装载帧的注册的系统和方法包括粗搜索阶段，使用迭代最近点算法的成对精细注册阶段和多视图注册策略。 对齐和聚合后，人类观察者往往难以从点云显示中发现，评估和识别物体。 可以利用基本的显示操作，表面拟合技术和杂波抑制来增强3D成像数据的视觉利用。

    Method and apparatus for performing three-dimensional computer modeling
    5.
    发明申请
    Method and apparatus for performing three-dimensional computer modeling 有权
    执行三维计算机建模的方法和装置

    公开(公告)号：US20060061566A1

    公开(公告)日：2006-03-23

    申请号：US11206665

    申请日：2005-08-18

    申请人： Vivek Verma ,  Rakesh Kumar ,  Stephen Hsu ,  Harpreet Sawhney

    发明人： Vivek Verma ,  Rakesh Kumar ,  Stephen Hsu ,  Harpreet Sawhney

    IPC分类号： G06T15/00 ,  G09G5/00

    CPC分类号： G06T17/20 ,  G06T17/00

    摘要： A method and apparatus for automatically generating a three-dimensional computer model from a “point cloud” of a scene produced by a laser radar (LIDAR) system. Given a point cloud of an indoor or outdoor scene, the method extracts certain structures from the imaged scene, i.e., ceiling, floor, furniture, rooftops, ground, and the like, and models these structures with planes and/or prismatic structures to achieve a three-dimensional computer model of the scene. The method may then add photographic and/or synthetic texturing to the model to achieve a realistic model.

    摘要翻译： 一种用于由激光雷达（LIDAR）系统产生的场景的“点云”自动生成三维计算机模型的方法和装置。 给定室内或室外场景的点云，该方法从成像场景（即，天花板，地板，家具，屋顶，地面等）中提取某些结构，并且利用平面和/或棱柱结构对这些结构进行建模以实现 一个三维计算机模型的现场。 然后，该方法可以向模型添加照相和/或合成纹理，以实现真实的模型。

    Method and apparatus for decomposing semiconductor device patterns into phase and chrome regions for chromeless phase lithography
    6.
    发明授权
    Method and apparatus for decomposing semiconductor device patterns into phase and chrome regions for chromeless phase lithography 有权
    将半导体器件图案分解为无铬相光刻的相位和铬区域的方法和装置

    公开(公告)号：US07549140B2

    公开(公告)日：2009-06-16

    申请号：US11035737

    申请日：2005-01-18

    申请人： Doug Van Den Broeke ,  Jang Fung Chen ,  Thomas Laidig ,  Kurt E. Wampler ,  Stephen Hsu

    发明人： Doug Van Den Broeke ,  Jang Fung Chen ,  Thomas Laidig ,  Kurt E. Wampler ,  Stephen Hsu

    IPC分类号： G06F17/50 ,  G06F19/00 ,  G21K5/00 ,  G03F1/00

    CPC分类号： G03F1/34 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70466 ,  G03F7/70941

    摘要： A method of generating a mask of use in printing a target pattern on a substrate. The method includes the steps of (a) determining a maximum width of features to be imaged on the substrate utilizing phase-structures formed in the mask; (b) identifying all features contained in the target pattern having a width which is equal to or less than the maximum width; (c) extracting all features having a width which is equal to or less than the maximum width from the target pattern; (d) forming phase-structures in the mask corresponding to all features identified in step (b); and (e) forming opaque structures in the mask for all features remaining in target pattern after performing step (c).

    摘要翻译： 一种生成用于在基板上印刷目标图案的掩模的方法。 该方法包括以下步骤：（a）使用形成在掩模中的相位结构来确定要在基板上成像的特征的最大宽度; （b）识别具有等于或小于最大宽度的宽度的目标图案中包含的所有特征; （c）从目标图案提取具有等于或小于最大宽度的宽度的所有特征; （d）在对应于在步骤（b）中识别的所有特征的掩模中形成相位结构; 和（e）在执行步骤（c）之后，在掩模中形成不透明结构以保持目标图案中的所有特征。

    Method for performing transmission tuning of a mask pattern to improve process latitude
    7.
    发明申请
    Method for performing transmission tuning of a mask pattern to improve process latitude 失效
    用于执行掩模图案的传输调谐以提高处理纬度的方法

    公开(公告)号：US20050196682A1

    公开(公告)日：2005-09-08

    申请号：US10981762

    申请日：2004-11-05

    申请人： Stephen Hsu ,  Jang Chen ,  Xuelong Shi ,  Douglas Van Den Broeke

    发明人： Stephen Hsu ,  Jang Chen ,  Xuelong Shi ,  Douglas Van Den Broeke

    IPC分类号： G03F1/08 ,  G03B27/72 ,  G03F1/14 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  G06F17/50 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F1/36 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70441

    摘要： A method of generating a mask for use in a photolithography process. The method includes the steps of determining a target mask pattern having a plurality of features to be imaged and an illumination system to be utilized to image the mask; identifying a critical pitch within the target pattern and optimizing illumination settings of the illumination system for imaging the critical pitch; identifying a forbidden pitch within the target pattern; and modifying the transmittance of the features having a pitch equal to or substantially equal to the forbidden pitch such that the exposure latitude of the features equal to or substantially equal to the forbidden pitch is increased.

    摘要翻译： 一种生成用于光刻工艺的掩模的方法。 该方法包括以下步骤：确定具有要成像的多个特征的目标掩模图案和要用于对掩模进行成像的照明系统; 识别所述目标图案内的临界音调并且优化所述照明系统的照明设置以对所述关键音调成像; 识别目标模式内的禁止音高; 以及修改具有等于或基本上等于禁止间距的间距的特征的透射率，使得等于或基本上等于禁止间距的特征的曝光宽容度增加。

    Self-Repairing and Self-Sustaining Autonomous Machines
    10.
    发明申请
    Self-Repairing and Self-Sustaining Autonomous Machines 审中-公开
    自修自维自动机

    公开(公告)号：US20140050844A1

    公开(公告)日：2014-02-20

    申请号：US14000525

    申请日：2012-02-21

    申请人： Stephen Hsu

    发明人： Stephen Hsu

    IPC分类号： B23P6/00

    摘要： The metallurgical composition of a machine surface may be determined. Based on the composition of the surface layer and its substrate materials, a mixture of pure metal nanoparticles, each coated with a monomolecular organic layer adsorbed on its surface can be mixed with catalysts, reaction initiators, and/or other necessary ingredients for the repair action of the machine surface, depending on the specific machine, operational type, and/or the nature of the damage. The nanoparticles are applied to the machine surface, the organic monolayer wears away from the nanoparticles under shear stresses and the nanoparticles adhere to the machine surface to form a repair layer on the machine surface, thereby providing a repaired surface.

    摘要翻译： 可以确定机器表面的冶金组成。 基于表面层及其基材的组成，可以将吸附在其表面上的单分子有机层各自的纯金属纳米粒子的混合物与用于修复动作的催化剂，反应引发剂和/或其它必需成分混合 的机器表面，具体取决于具体的机器，操作类型和/或损坏的性质。 将纳米颗粒施加到机器表面，有机单层在剪切应力下磨损纳米颗粒，并且纳米颗粒粘附到机器表面以在机器表面上形成修复层，从而提供修复的表面。