公开(公告)号：US06927178B2

公开(公告)日：2005-08-09

申请号：US10732904

申请日：2003-12-10

申请人： Bok Hoen Kim ,  Sudha Rathi ,  Sang H. Ahn ,  Christopher D. Bencher ,  Yuxiang May Wang ,  Hichem M'Saad ,  Mario D. Silvetti ,  Miguel Fung ,  Keebum Jung ,  Lei Zhu

发明人： Bok Hoen Kim ,  Sudha Rathi ,  Sang H. Ahn ,  Christopher D. Bencher ,  Yuxiang May Wang ,  Hichem M'Saad ,  Mario D. Silvetti ,  Miguel Fung ,  Keebum Jung ,  Lei Zhu

IPC分类号： C23C16/40 ,  H01L21/027 ,  H01L21/311 ,  H01L21/314 ,  H01L21/316 ,  H01L21/768 ,  H01L21/31 ,  H01L21/469

CPC分类号： H01L21/76828 ,  C23C16/401 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/022 ,  H01L21/02211 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/314 ,  H01L21/31633 ,  H01L21/7681 ,  H01L21/76826 ,  Y10S438/952

摘要： Methods are provided for depositing a dielectric material. The dielectric material may be used for an anti-reflective coating or as a hardmask. In one aspect, a method is provided for processing a substrate including introducing a processing gas comprising a silane-based compound and an oxygen and carbon containing compound to the processing chamber and reacting the processing gas to deposit a nitrogen-free dielectric material on the substrate. The dielectric material comprises silicon and oxygen. In another aspect, the dielectric material forms one or both layers in a dual layer anti-reflective coating.

摘要翻译： 提供了沉积电介质材料的方法。 电介质材料可用于抗反射涂层或硬掩模。 一方面，提供了一种处理基板的方法，包括将包含硅烷类化合物和含氧和碳的化合物的处理气体引入处理室，并使处理气体在基板上沉积无氮介电材料 。 介电材料包括硅和氧。 在另一方面，电介质材料在双层抗反射涂层中形成一层或两层。

公开(公告)号：US07105460B2

公开(公告)日：2006-09-12

申请号：US10193489

申请日：2002-07-11

申请人： Bok Hoen Kim ,  Sudha Rathi ,  Sang H. Ahn ,  Christopher D. Bencher ,  Yuxiang May Wang ,  Hichem M'Saad ,  Mario D. Silvetti

发明人： Bok Hoen Kim ,  Sudha Rathi ,  Sang H. Ahn ,  Christopher D. Bencher ,  Yuxiang May Wang ,  Hichem M'Saad ,  Mario D. Silvetti

IPC分类号： H01L21/31

CPC分类号： H01L21/76834 ,  C23C16/401 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02211 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/314 ,  H01L21/31633 ,  H01L21/7681 ,  H01L21/76826 ,  H01L21/76828 ,  H01L21/76829

摘要： Methods are provided for depositing a dielectric material. The dielectric material may be used for an anti-reflective coating or as a hardmask. In one aspect, a method is provided for processing a substrate including introducing a processing gas comprising a silane-based compound and an organosilicon compound to the processing chamber and reacting the processing gas to deposit a nitrogen-free dielectric material on the substrate. The dielectric material comprises silicon and oxygen.

摘要翻译： 提供了沉积电介质材料的方法。 电介质材料可用于抗反射涂层或硬掩模。 一方面，提供了一种处理基板的方法，包括将包含硅烷类化合物和有机硅化合物的处理气体引入处理室，并使处理气体在基板上沉积无氮介电材料。 介电材料包括硅和氧。

公开(公告)号：US09646859B2

公开(公告)日：2017-05-09

申请号：US12771969

申请日：2010-04-30

申请人： Hui Chen ,  Allen L. D'Ambra ,  Sen-Hou Ko ,  Yufei Chen ,  Adrian Blank ,  Mario D. Silvetti ,  Gerald J. Alonzo ,  Lakshmanan Karuppiah

发明人： Hui Chen ,  Allen L. D'Ambra ,  Sen-Hou Ko ,  Yufei Chen ,  Adrian Blank ,  Mario D. Silvetti ,  Gerald J. Alonzo ,  Lakshmanan Karuppiah

IPC分类号： H01L21/67

CPC分类号： H01L21/67046 ,  H01L21/67051

摘要： Embodiments of the present invention relates to an apparatus and method for cleaning a substrate using a disk brush. One embodiment provides a substrate cleaner comprising a substrate chuck disposed in the processing volume, and a brush assembly disposed in the processing volume, wherein the brush assembly comprises a disk brush movably disposed opposing the substrate chuck, and a processing surface of the disk brush contacts a surface of the substrate on the substrate chuck.

公开(公告)号：US20110265816A1

公开(公告)日：2011-11-03

申请号：US12771969

申请日：2010-04-30

申请人： Hui Chen ,  Allen L. D'Ambra ,  Sen-Hou Ko ,  Yufei Chen ,  Adrian Blank ,  Mario D. Silvetti ,  Gerald J. Alonzo ,  Lakshmanan Karuppiah

发明人： Hui Chen ,  Allen L. D'Ambra ,  Sen-Hou Ko ,  Yufei Chen ,  Adrian Blank ,  Mario D. Silvetti ,  Gerald J. Alonzo ,  Lakshmanan Karuppiah

IPC分类号： B08B7/00

CPC分类号： H01L21/67046 ,  H01L21/67051

摘要： Embodiments of the present invention relates to an apparatus and method for cleaning a substrate using a disk brush. One embodiment provides a substrate cleaner comprising a substrate chuck disposed in the processing volume, and a brush assembly disposed in the processing volume, wherein the brush assembly comprises a disk brush movably disposed opposing the substrate chuck, and a processing surface of the disk brush contacts a surface of the substrate on the substrate chuck.

摘要翻译： 本发明的实施例涉及使用盘刷清洁衬底的装置和方法。 一个实施例提供一种基板清洁器，其包括设置在处理体积中的基板卡盘和设置在处理容积中的刷子组件，其中刷子组件包括可移动地布置成与基板卡盘相对的盘刷，以及盘刷触头的处理表面 基板卡盘上的基板的表面。