公开(公告)号：US20080157667A1

公开(公告)日：2008-07-03

申请号：US11964993

申请日：2007-12-27

申请人： DONG-YOL YANG ,  Seung-Min Ryu ,  Suk-Hea Park ,  Jong-Seo Choi ,  Kwi-Seok Choi ,  Beom-Wook Lee

发明人： DONG-YOL YANG ,  Seung-Min Ryu ,  Suk-Hea Park ,  Jong-Seo Choi ,  Kwi-Seok Choi ,  Beom-Wook Lee

IPC分类号： H01J1/62 ,  H01J9/02

CPC分类号： H01J9/242 ,  B29C33/3857 ,  B29C33/42 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  H01J2211/36

摘要： A method of manufacturing a soft mold to shape a barrier rib, a method of manufacturing a barrier rib and a lower panel, and a plasma display panel (PDP) including the same. The method of manufacturing the soft mold includes: providing a metal mold on which a barrier rib pattern is formed, by alternating channels and projections; disposing a polymer sheet opposite the metal mold; pressing the metal mold into the polymer sheet, to form the soft mold, which has an inverted image of the barrier rib pattern formed on the surface thereof; and releasing the soft mold from the metal mold.

摘要翻译： 制造用于形成障壁的软模的方法，制造隔壁和下板的方法以及包括该障碍的等离子体显示面板（PDP）的方法。 制造软模的方法包括：通过交替的通道和突起来提供形成有障壁图案的金属模; 设置与金属模具相对的聚合物片材; 将金属模具压入聚合物片材中，形成柔软的模具，该模具在其表面上形成有隔壁图案的倒置图像; 并从金属模具中释放软模具。

公开(公告)号：US20080303437A1

公开(公告)日：2008-12-11

申请号：US11872986

申请日：2007-10-16

申请人： DONG-YOL YANG ,  Seung-Min Ryu ,  Suk-Hee Park ,  Jong-seo Choi ,  Kwi-Seok Choi ,  Beom-wook Lee

发明人： DONG-YOL YANG ,  Seung-Min Ryu ,  Suk-Hee Park ,  Jong-seo Choi ,  Kwi-Seok Choi ,  Beom-wook Lee

IPC分类号： H01J17/49 ,  H01J9/02

CPC分类号： H01J9/242 ,  H01J11/12 ,  H01J11/36

摘要： A method of manufacturing a lower panel for a plasma display panel using X-rays which includes preparing a base substrate; forming a barrier rib material layer on the base substrate; defining barrier rib patterns by scanning X-rays on the barrier rib material layer; and developing the barrier rib material layer to form barrier ribs. Fine-pitch patterning of the barrier ribs can be achieved with high precision by using X-rays.

摘要翻译： 一种使用X射线制造等离子体显示面板的下面板的方法，包括准备基底基板; 在基底基板上形成隔壁材料层; 通过扫描阻挡肋材料层上的X射线来限定障壁图案; 并且形成障壁材料层以形成隔壁。 通过使用X射线可以高精度地实现障壁的细间距图案化。

公开(公告)号：US20090035516A1

公开(公告)日：2009-02-05

申请号：US12219983

申请日：2008-07-31

申请人： Youn-Joung Cho ,  Jung-Ho Lee ,  Jun-Hyun Cho ,  Seung-Min Ryu ,  Kyoo-Chul Cho ,  Jung-Sik Choi

发明人： Youn-Joung Cho ,  Jung-Ho Lee ,  Jun-Hyun Cho ,  Seung-Min Ryu ,  Kyoo-Chul Cho ,  Jung-Sik Choi

IPC分类号： B32B3/24 ,  C01B35/14 ,  B05D3/00 ,  C23C16/455 ,  C23C16/00 ,  B05D3/02 ,  B05D5/12

CPC分类号： C23C16/18 ,  C07F5/00 ,  C07F5/069 ,  C23C16/20 ,  Y10T428/24331

摘要： Disclosed are an organometallic precursor that may be used in manufacturing a semiconductor device, a thin film having the same, a metal wiring including the thin film, a method of forming a thin film and a method of manufacturing a metal wiring. An organometallic precursor including a central metal, a borohydride ligand and an amine ligand for reducing a polarity of the organometallic precursor may be provided onto a substrate, and may be thermally decomposed to form a thin film on the substrate. The organometallic precursor having a reduced polarity may be provided to a chamber with a constant flow rate, and thus stability and/or efficiency of a semiconductor manufacturing process may be improved.

摘要翻译： 公开了可用于制造半导体器件的有机金属前体，具有该有机金属前体的薄膜，包括该薄膜的金属布线，薄膜形成方法以及金属布线的制造方法。 包括用于降低有机金属前体极性的中心金属，硼氢化物配体和胺配体的有机金属前驱体可以提供到基底上，并且可以被热分解以在基底上形成薄膜。 具有降低的极性的有机金属前体可以以恒定的流速提供给室，因此可以提高半导体制造工艺的稳定性和/或效率。

公开(公告)号：US20060030484A1

公开(公告)日：2006-02-09

申请号：US11197265

申请日：2005-08-05

申请人： Jae-Hwan Kim ,  Seung-Min Ryu

发明人： Jae-Hwan Kim ,  Seung-Min Ryu

IPC分类号： B41M5/40

CPC分类号： B41M5/30 ,  B41M5/40 ,  B41M5/42 ,  B41M2205/04 ,  B41M2205/36 ,  B41M2205/38

摘要： A multicolor recording medium, recording method and device using the same are disclosed. The multicolor recording medium includes a substrate having top and bottom surfaces and a photosensitive decoloring layer. A low-temperature thermosensitive coloring layer is disposed on the top surface of the substrate. A high-temperature thermosensitive coloring layer is disposed on the low-temperature thermosensitive coloring layer.

摘要翻译： 公开了一种多色记录介质，记录方法和使用其的装置。 多色记录介质包括具有顶表面和底表面的基底和感光褪色层。 低温热敏着色层设置在基板的顶表面上。 高温热敏着色层设置在低温热敏着色层上。

公开(公告)号：US20080213940A1

公开(公告)日：2008-09-04

申请号：US11985672

申请日：2007-11-16

申请人： Jung-Ho Lee ,  Jun-Hyun Cho ,  Youn-Joung Cho ,  Seung-Min Ryu ,  Kyoo-Chul Cho ,  Jung-Sik Choi

发明人： Jung-Ho Lee ,  Jun-Hyun Cho ,  Youn-Joung Cho ,  Seung-Min Ryu ,  Kyoo-Chul Cho ,  Jung-Sik Choi

IPC分类号： H01L21/20 ,  H01L21/00

CPC分类号： C23C16/405 ,  C23C16/45553 ,  H01L21/02178 ,  H01L21/02181 ,  H01L21/02186 ,  H01L21/02189 ,  H01L21/0228 ,  H01L21/3141 ,  H01L21/3142 ,  H01L21/31604 ,  H01L21/3162 ,  H01L21/31641 ,  H01L21/31645

摘要： Provided herein are methods of forming a metal oxide layer that include providing an organometallic compound and an oxidizing agent to the substrate to form the metal oxide layer on the substrate. The organometallic compound may have the general formula of M(NR1R2)3R3, wherein M is a metal; R1 and R2 are each independently hydrogen or alkyl; and R3 is selected from the group consisting of alkyl, cycloalkyl, heterocycloalkyl, aryl and heteroaryl.

摘要翻译： 本文提供形成金属氧化物层的方法，其包括向基板提供有机金属化合物和氧化剂以在基板上形成金属氧化物层。 有机金属化合物可以具有通式M（NR 1，R 2）3 N 3 R 3，其中M 是金属; R 1和R 2各自独立地为氢或烷基; 和R 3选自烷基，环烷基，杂环烷基，芳基和杂芳基。

公开(公告)号：US08268397B2

公开(公告)日：2012-09-18

申请号：US12219983

申请日：2008-07-31

申请人： Youn-Joung Cho ,  Jung-Ho Lee ,  Jun-Hyun Cho ,  Seung-Min Ryu ,  Kyoo-Chul Cho ,  Jung-Sik Choi

发明人： Youn-Joung Cho ,  Jung-Ho Lee ,  Jun-Hyun Cho ,  Seung-Min Ryu ,  Kyoo-Chul Cho ,  Jung-Sik Choi

IPC分类号： B05D1/36 ,  C23C16/00

CPC分类号： C23C16/18 ,  C07F5/00 ,  C07F5/069 ,  C23C16/20 ,  Y10T428/24331

摘要： Disclosed are an organometallic precursor that may be used in manufacturing a semiconductor device, a thin film having the same, a metal wiring including the thin film, a method of forming a thin film and a method of manufacturing a metal wiring. An organometallic precursor including a central metal, a borohydride ligand and an amine ligand for reducing a polarity of the organometallic precursor may be provided onto a substrate, and may be thermally decomposed to form a thin film on the substrate. The organometallic precursor having a reduced polarity may be provided to a chamber with a constant flow rate, and thus stability and/or efficiency of a semiconductor manufacturing process may be improved.

摘要翻译： 公开了可用于制造半导体器件的有机金属前体，具有该有机金属前体的薄膜，包括该薄膜的金属布线，薄膜形成方法以及金属布线的制造方法。 包括用于降低有机金属前体极性的中心金属，硼氢化物配体和胺配体的有机金属前驱体可以提供到基底上，并且可以被热分解以在基底上形成薄膜。 具有降低的极性的有机金属前体可以以恒定的流速提供给室，因此可以提高半导体制造工艺的稳定性和/或效率。

公开(公告)号：US20100047988A1

公开(公告)日：2010-02-25

申请号：US12542813

申请日：2009-08-18

申请人： Youn-Joung Cho ,  Youn-Soo Kim ,  Kyu-Ho Cho ,  Jung-Ho Lee ,  Jae-Hyoung Choi ,  Seung-Min Ryu

发明人： Youn-Joung Cho ,  Youn-Soo Kim ,  Kyu-Ho Cho ,  Jung-Ho Lee ,  Jae-Hyoung Choi ,  Seung-Min Ryu

IPC分类号： H01L21/02 ,  C07F7/00 ,  H01L21/28

CPC分类号： H01L27/10852 ,  C23C16/18 ,  C23C16/405 ,  C23C16/45553 ,  H01L28/60

摘要： In a method of forming a layer, a precursor including a metal and a ligand coordinating to the metal is stabilized by contacting the precursor with an electron donating compound to provide a stabilized precursor into a substrate. A reactant is introduced into the substrate to bind to the metal in the stabilized precursor. The precursor stabilized by the electron donating compound has an improved thermal stability and thus the precursor is not dissociated at a high temperature atmosphere, and the layer having a uniform thickness is formed on the substrate.

摘要翻译： 在形成层的方法中，通过使前体与给电子化合物接触来稳定包含与金属配位的配体的前体，从而将稳定的前体提供到基底中。 将反应物引入底物中以与稳定的前体中的金属结合。 由给电子化合物稳定的前体具有改善的热稳定性，因此前体在高温气氛下不解离，并且在基板上形成具有均匀厚度的层。

公开(公告)号：US20080057224A1

公开(公告)日：2008-03-06

申请号：US11790445

申请日：2007-04-25

申请人： Youn-Joung Cho ,  Jung-Ho Lee ,  Jun-Hyun Cho ,  Seung-Min Ryu ,  Kyoo-Chul Cho ,  Jung-Sik Choi

发明人： Youn-Joung Cho ,  Jung-Ho Lee ,  Jun-Hyun Cho ,  Seung-Min Ryu ,  Kyoo-Chul Cho ,  Jung-Sik Choi

IPC分类号： C23C8/00

CPC分类号： C23C8/80 ,  C23C4/123 ,  C23C8/02

摘要： A method of manufacturing a thin film includes providing a metal organic precursor onto a substrate where the metal organic precursor is heated to a temperature of about 60° C. to about 95° C. and has a saturated vapor pressure of about 1 Torr to about 5 Torr. An oxidizing agent including oxygen for oxidizing the metal organic precursor is provided onto the substrate. The metal organic precursor and the oxidizing agent are chemically reacted to form the thin film including metal oxide. The thin film is easily available in a gate insulation layer of a gate structure, a dielectric layer of a capacitor, and similar circuit components.

摘要翻译： 制造薄膜的方法包括将金属有机前体提供到基底上，其中将金属有机前体加热至约60℃至约95℃的温度，并具有约1托至约 5乇 将包含用于氧化金属有机前体的氧的氧化剂提供到基底上。 金属有机前体和氧化剂在化学上反应以形成包括金属氧化物的薄膜。 该薄膜可容易地用于栅极结构的栅极绝缘层，电容器的介电层和类似的电路部件。

公开(公告)号：US06383702B1

公开(公告)日：2002-05-07

申请号：US09689742

申请日：2000-10-13

申请人： Seung-Min Ryu ,  Seung-Soon Jang ,  Soon-Nam Kim ,  Jong-Moon Eun ,  Hee-Won Jung ,  Moon-Soo Park ,  Soon-Gil Hong

发明人： Seung-Min Ryu ,  Seung-Soon Jang ,  Soon-Nam Kim ,  Jong-Moon Eun ,  Hee-Won Jung ,  Moon-Soo Park ,  Soon-Gil Hong

IPC分类号： G03G9087

CPC分类号： G03G9/08702 ,  G03G9/0804 ,  G03G9/0806 ,  G03G9/08704 ,  G03G9/08711 ,  G03G9/08773 ,  G03G9/08782

摘要： A dry toner of polymerization type for electronic photography for forming an image on a recordable medium is synthesized during a polymerization process by adding a hydrophobic silica system compound having both hydrophobic groups and hydrophilic groups and having the following chemical structure formula: the silica system compound being a stabilizer in a polymerization composition.

摘要翻译： 在聚合过程中，通过加入具有疏水性基团和亲水基团的疏水性二氧化硅系化合物并具有以下化学结构式，合成了用于在可记录介质上形成图像的电子摄影用聚合类型的干燥调色剂：二氧化硅系化合物为 聚合组合物中的稳定剂。

公开(公告)号：US20110045183A1

公开(公告)日：2011-02-24

申请号：US12704755

申请日：2010-02-12

申请人： Youn-Joung Cho ,  Youn-Soo Kim ,  Kyu-Ho Cho ,  Jung-Ho Lee ,  Jae-Hyoung Choi ,  Seung-Min Ryu

发明人： Youn-Joung Cho ,  Youn-Soo Kim ,  Kyu-Ho Cho ,  Jung-Ho Lee ,  Jae-Hyoung Choi ,  Seung-Min Ryu

IPC分类号： C23C16/06 ,  C23C16/44

CPC分类号： C23C16/18 ,  C23C16/405 ,  C23C16/45553 ,  H01L27/10852 ,  H01L28/40 ,  H01L28/91

摘要： In a method of forming a layer, a precursor including a metal and a ligand chelating to the metal is stabilized by contacting the precursor with an electron donating compound to provide a stabilized precursor onto a substrate. A reactant is introduced onto the substrate to bind to the metal in the stabilized precursor. The precursor stabilized by the electron donating compound has an improved thermal stability and thus the precursor is not dissociated at a high temperature atmosphere, and the layer having a uniform thickness is formed on the substrate.

摘要翻译： 在形成层的方法中，通过使前体与给电子化合物接触来使包含金属和与金属螯合的配体的前体稳定化，以将稳定的前体提供到基底上。 将反应物引入到底物上以与稳定的前体中的金属结合。 通过给电子化合物稳定的前体具有改善的热稳定性，因此前体在高温气氛下不解离，并且在基板上形成具有均匀厚度的层。