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    Photoresist composition comprising an alkali-soluble resin, a quinone diazide compound and a vinyl ether
    1.
    发明授权
    Photoresist composition comprising an alkali-soluble resin, a quinone diazide compound and a vinyl ether 失效
    包含碱溶性树脂，醌二叠氮化合物和乙烯基醚的光致抗蚀剂组合物

    公开(公告)号：US5648194A

    公开(公告)日：1997-07-15

    申请号：US510709

    申请日：1995-08-03

    申请人： Daniel Y. Pai ,  Robert E. Hawkins

    发明人： Daniel Y. Pai ,  Robert E. Hawkins

    IPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/023 ,  G03F7/028

    CPC分类号： G03F7/0226

    摘要： A photoresist composition comprising an alkali soluble resin, an o-naphthoquinone diazide sulfonic acid ester photoactive compound, and a vinyl ether compound. The o-naphthoquinone diazide sulfonic acid ester is replaced in part with the vinyl ether composition to decrease the concentration of the photoactive compound while increasing the photospeed of the composition.

    摘要翻译： 包含碱溶性树脂，邻萘醌二叠氮磺酸酯光敏化合物和乙烯基醚化合物的光致抗蚀剂组合物。 邻萘醌二叠氮磺酸酯部分地被乙烯基醚组合物替代，以降低光活性化合物的浓度，同时增加组合物的感光速度。

    Method of forming a relief image comprising amphoteric compositions
    2.
    发明授权
    Method of forming a relief image comprising amphoteric compositions 失效
    形成包含两性组合物的浮雕图像的方法

    公开(公告)号：US5314789A

    公开(公告)日：1994-05-24

    申请号：US770016

    申请日：1991-10-01

    申请人： Robert E. Hawkins ,  Daniel Y. Pai

    发明人： Robert E. Hawkins ,  Daniel Y. Pai

    IPC分类号： C25D13/06 ,  C09D5/44 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/032 ,  G03F7/038 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30 ,  H05K3/00 ,  H05K3/06 ,  G03C1/73

    CPC分类号： G03F7/164 ,  C09D5/44 ,  G03F7/032 ,  G03F7/038 ,  Y10S430/136

    摘要： The invention provides radiation sensitive compositions that comprise an amphoteric polymer, the polymer comprising at least two distinct carrier groups so that the polymer is positively polarized or negatively polarized upon treatment with an acid or base, respectively, enabling the compositions to be electrodeposited either anaphoretically or cataphoretically. Employing this amphoteric polymer in a radiation sensitive composition also allows the use of either an acid or base solution to image and remove the deposited composition irrespective of whether the composition was applied cataphoretically or anaphoretically. The compositions of the invention are also suitably formulated as liquid coating compositions or used to form dry film resists.

    摘要翻译： 本发明提供了包含两性聚合物的辐射敏感组合物，该聚合物包含至少两个不同的载体基团，使得聚合物分别在用酸或碱处理时被正极化或负极化，使得组合物可以电吸附或电沉积 阴道地 在辐射敏感组合物中使用该两性聚合物还允许使用酸或碱溶液来成像和除去沉积的组合物，而不管组合物是用阴离子还是阴离子施用。 本发明的组合物也适当地配制成液体涂料组合物或用于形成干膜抗蚀剂。

    Acid labile photoactive composition
    7.
    发明授权
    Acid labile photoactive composition 失效
    酸不稳定光敏组合物

    公开(公告)号：US5917024A

    公开(公告)日：1999-06-29

    申请号：US27168

    申请日：1998-02-20

    申请人： Roger F. Sinta ,  Daniel Y. Pai

    发明人： Roger F. Sinta ,  Daniel Y. Pai

    IPC分类号： G03F7/022 ,  H01L21/027 ,  C07C245/10

    CPC分类号： G03F7/022

    摘要： A photoresist composition comprising an alkali soluble resin and the reaction product of an ortho-naphthoquinone diazide sulfonic acid ester and a vinyl ether. In use, the photoresist is characterized by having at least a portion of the hydroxyl groups on the alkali soluble resin reacted with the photoactive compound and then deblocked by acid generation.

    摘要翻译： 包含碱溶性树脂和邻萘醌二叠氮磺酸酯与乙烯基醚的反应产物的光致抗蚀剂组合物。 在使用中，光致抗蚀剂的特征在于使碱溶性树脂上的至少一部分羟基与光活性化合物反应，然后通过酸生成而解封。

    Photoimageable compositions for electrodeposition
    9.
    发明授权
    Photoimageable compositions for electrodeposition 失效
    用于电沉积的可光成像组合物

    公开(公告)号：US5384229A

    公开(公告)日：1995-01-24

    申请号：US879598

    申请日：1992-05-07

    申请人： Daniel Y. Pai ,  Stephen S. Rodriguez ,  Roger F. Sinta

    发明人： Daniel Y. Pai ,  Stephen S. Rodriguez ,  Roger F. Sinta

    IPC分类号： C25D13/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/16 ,  G03F7/38 ,  H05K3/00 ,  G03C1/492

    CPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/164 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S524/901

    摘要： The present invention provides photoimageable compositions, processes and articles of manufacture. In particular, the invention provides a process comprising electrophoretically applying a coating layer of a photoimageable composition onto a conductive surface, the composition comprising a material that contains one or more photoacid labile groups. The photoimageable compositions of the invention preferably comprise a photoacid generator, a material that contains one or more acid-clearable functional groups, and a carrier resin that contains one or more functional groups that are, or can be treated to be, at least partially ionized.

    摘要翻译： 本发明提供可光成像的组合物，方法和制品。 特别地，本发明提供了一种方法，其包括将可光成像组合物的涂层电泳施加到导电表面上，所述组合物包含含有一个或多个光致酸不稳定基团的材料。 本发明的可光成像组合物优选包含光致酸产生剂，含有一种或多种可酸性的官能团的材料和含有一种或多种官能团的载体树脂，所述官能团可被或被处理为至少部分电离 。

    Dyed silica pigments and products made from same
    10.
    发明授权
    Dyed silica pigments and products made from same 失效
    染色二氧化硅颜料及由其制成的产品

    公开(公告)号：US5885343A

    公开(公告)日：1999-03-23

    申请号：US865722

    申请日：1997-05-30

    申请人： George J. Cernigliaro ,  Egon Matijevic ,  Daniel Y. Pai ,  Todd A. Richardson

    发明人： George J. Cernigliaro ,  Egon Matijevic ,  Daniel Y. Pai ,  Todd A. Richardson

    IPC分类号： C09C1/30 ,  C09D11/00 ,  G03F7/00 ,  C07B14/04

    CPC分类号： B82Y30/00 ,  C09C1/3063 ,  C09D11/32 ,  G03F7/0007 ,  C01P2004/32 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/12

    摘要： The adsorption of cationic dyes on nanosize negatively charged silica particles to form colored pigments is disclosed. The dyes are chemisorbed and their uptake is controlled by the strong chemical reaction between the negative surface of the adsorbent silica particles preferably with sodium counter ions and the positive charge of the dyes. The prepared pigments are useful in the formation of color films and their optical properties are described. Photoresists using nanosized pigments are also disclosed herein which are useful in making color filters for liquid crystal displays.

    摘要翻译： 公开了阳离子染料对纳米尺度带负电荷的二氧化硅颗粒的吸附以形成着色颜料。 染料被化学吸附，并且它们的吸收通过吸附剂二氧化硅颗粒的负表面与钠抗衡离子和染料的正电荷之间的强烈化学反应来控制。 所制备的颜料可用于形成彩色胶片，并描述其光学性质。 本文还公开了使用纳米颜料的光致抗蚀剂，其可用于制造用于液晶显示器的滤色器。