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    Fiber optic material and the use thereof
    6.
    发明授权
    Fiber optic material and the use thereof 失效
    光纤材料及其用途

    公开(公告)号：US07499625B2

    公开(公告)日：2009-03-03

    申请号：US10551471

    申请日：2004-03-20

    申请人： Thomas Hanemann ,  Johannes Böhm ,  Jürgen Hausselt

    发明人： Thomas Hanemann ,  Johannes Böhm ,  Jürgen Hausselt

    IPC分类号： G02B6/00 ,  C08K5/34 ,  C08K5/15 ,  C08L33/12 ,  C08L67/00

    CPC分类号： G02B1/046

    摘要： The invention relates to a fiber optic material which comprises a polymer and at least one organic compound introduced therein. Said organic compound is a condensed aromatic ring system having two or more aromatic rings that are isocyclic or heterocyclic, wherein every heteroatom is associated with exactly one ring if the ring is heterocyclic. The fiber optic material according to the invention is preferably used for the core of an optical waveguide.

    摘要翻译： 本发明涉及一种光纤材料，其包含聚合物和引入其中的至少一种有机化合物。 所述有机化合物是具有两个或更多个环状或杂环的芳环的稠合芳环体系，其中如果该环是杂环，每个杂原子与正好一个环相连。 根据本发明的光纤材料优选用于光波导的芯。

    Method for producing small and micro-sized ceramic parts
    7.
    发明授权
    Method for producing small and micro-sized ceramic parts 失效
    陶瓷零件生产方法

    公开(公告)号：US06573020B1

    公开(公告)日：2003-06-03

    申请号：US09677714

    申请日：2000-09-30

    申请人： Thomas Hanemann ,  Jürgen Hausselt

    发明人： Thomas Hanemann ,  Jürgen Hausselt

    IPC分类号： G03F740

    CPC分类号： C04B35/622 ,  C04B35/64 ,  G03F7/0757

    摘要： In a method for the manufacture, by means of lithography, of ceramic small and micro-parts, a pre-ceramic silicon containing polymer layer is deposited on a highly temperature resistant substrate and then dried at room temperature. The layer is then exposed in an image pattern to electromagnetic radiation and the exposed layer is developed in an organic solvent to remove the non-exposed areas. The preparation is then pyrolyzed at more than 900° C. and finally sintered at a temperature of at least 1600° C. to form a ceramic structured layer on the substrate.

    摘要翻译： 在通过光刻制造陶瓷小型和微型部件的方法中，将预陶瓷含硅聚合物层沉积在耐高温基材上，然后在室温下干燥。 然后将该层以图像模式暴露于电磁辐射，并将暴露的层在有机溶剂中显影以除去未曝光的区域。 然后将制备物在高于900℃的条件下热解，最后在至少1600℃的温度下烧结，以在衬底上形成陶瓷结构化层。