公开(公告)号：US07409302B2

公开(公告)日：2008-08-05

申请号：US11226468

申请日：2005-09-15

申请人： Haico Victor Kok ,  Koen Kivits ,  Ron Van De Laak ,  Johannes Maria Kuiper ,  Gerbrand Van Der Zouw ,  Hoite Pieter Theodoor Tolsma

发明人： Haico Victor Kok ,  Koen Kivits ,  Ron Van De Laak ,  Johannes Maria Kuiper ,  Gerbrand Van Der Zouw ,  Hoite Pieter Theodoor Tolsma

IPC分类号： G01L7/00

CPC分类号： G03F7/70666 ,  G03F7/709 ,  G03F9/7096

摘要： The invention provides a method for determining vibration-related information by projecting an aerial image at an image position in a projection plane, mapping an intensity of the aerial image into an image map, the image map arranged for comprising values of coordinates of sampling locations and of the intensity sampled at each sampling location, and measuring intensity of the aerial image received through a slot pattern. The method further includes determining from the image map a detection position of a slope portion of the image map, at the detection position of the slope portion, measuring of a temporal intensity of the aerial image and measuring of relative positions of the slot pattern and the image position, the relative positions of the slot being measured as position-related data of the slot pattern and determining from the temporal intensity of the aerial image vibration-related information for said aerial image.

摘要翻译： 本发明提供了一种用于通过在投影平面中的图像位置处投射空中图像来确定振动相关信息的方法，将空间图像的强度映射到图像映射中，该图像映射被布置为包括采样位置的坐标值， 在每个采样位置采样的强度，以及测量通过槽模式接收的空间图像的强度。 该方法还包括从图像映射确定图像映射的斜率部分的检测位置，在斜率部分的检测位置处，测量空中图像的时间强度，以及测量狭槽图案的相对位置和 图像位置，将被测量的时隙的相对位置作为时隙图案的位置相关数据，并根据所述空间图像的空间图像振动相关信息的时间强度确定。

公开(公告)号：US20090051934A1

公开(公告)日：2009-02-26

申请号：US12216514

申请日：2008-07-07

申请人： Haico Victor Kok ,  Hoite Pieter Tolsma ,  Gerbrand Van Der Zouw ,  Koen Kivits ,  Ron Van De Laak ,  Johannes Maria Kuiper

发明人： Haico Victor Kok ,  Hoite Pieter Tolsma ,  Gerbrand Van Der Zouw ,  Koen Kivits ,  Ron Van De Laak ,  Johannes Maria Kuiper

IPC分类号： G01B11/14

CPC分类号： G03F7/70666 ,  G03F7/709 ,  G03F9/7096

摘要： The invention provides a method for determining vibration-related information by projecting an aerial image at an image position in a projection plane, mapping an intensity of the aerial image into an image map, the image map arranged for comprising values of coordinates of sampling locations and of the intensity sampled at each sampling location, and measuring intensity of the aerial image received through a slot pattern. The method further includes determining from the image map a detection position of a slope portion of the image map, at the detection position of the slope portion, measuring of a temporal intensity of the aerial image and measuring of relative positions of the slot pattern and the image position, the relative positions of the slot being measured as position-related data of the slot pattern and determining from the temporal intensity of the aerial image vibration-related information for said aerial image.

摘要翻译： 本发明提供了一种用于通过在投影平面中的图像位置处投射空中图像来确定振动相关信息的方法，将空间图像的强度映射到图像映射中，该图像映射被布置为包括采样位置的坐标值， 在每个采样位置采样的强度，以及测量通过槽模式接收的空间图像的强度。 该方法还包括从图像映射确定图像映射的斜率部分的检测位置，在斜率部分的检测位置处，测量空中图像的时间强度，以及测量狭槽图案的相对位置和 图像位置，将被测量的时隙的相对位置作为时隙图案的位置相关数据，并根据所述空间图像的空间图像振动相关信息的时间强度确定。

公开(公告)号：US07773235B2

公开(公告)日：2010-08-10

申请号：US12216514

申请日：2008-07-07

申请人： Haico Victor Kok ,  Koen Kivits ,  Ron Van de Laak ,  Johannes Maria Kuiper ,  Gerbrand Van der Zouw ,  Hoite P Theodoor Tolsma

发明人： Haico Victor Kok ,  Koen Kivits ,  Ron Van de Laak ,  Johannes Maria Kuiper ,  Gerbrand Van der Zouw ,  Hoite P Theodoor Tolsma

IPC分类号： G01B11/14

CPC分类号： G03F7/70666 ,  G03F7/709 ,  G03F9/7096

摘要： The invention provides a method for determining vibration-related information by projecting an aerial image at an image position in a projection plane, mapping an intensity of the aerial image into an image map, the image map arranged for comprising values of coordinates of sampling locations and of the intensity sampled at each sampling location, and measuring intensity of the aerial image received through a slot pattern. The method further includes determining from the image map a detection position of a slope portion of the image map, at the detection position of the slope portion, measuring of a temporal intensity of the aerial image and measuring of relative positions of the slot pattern and the image position, the relative positions of the slot being measured as position-related data of the slot pattern and determining from the temporal intensity of the aerial image vibration-related information for said aerial image.

摘要翻译： 本发明提供了一种用于通过在投影平面中的图像位置处投射空中图像来确定振动相关信息的方法，将空间图像的强度映射到图像映射中，该图像映射被布置为包括采样位置的坐标值， 在每个采样位置采样的强度，以及测量通过槽模式接收的空间图像的强度。 该方法还包括从图像映射确定图像映射的斜率部分的检测位置，在斜率部分的检测位置处，测量空中图像的时间强度，以及测量狭槽图案的相对位置和 图像位置，将被测量的时隙的相对位置作为时隙图案的位置相关数据，并根据所述空间图像的空间图像振动相关信息的时间强度确定。

公开(公告)号：US20100182582A1

公开(公告)日：2010-07-22

申请号：US11922018

申请日：2006-06-13

申请人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Wilhelmus Petrus De Boeij ,  Hendrikus Robertus Marie Van Greevenbroek ,  Michel Fransois Hubert Klaassen ,  Haico Victor Kok ,  Martijn Gerard Dominique Wehrens ,  Tammo Uitterdijk ,  Wilhelmus Jacobus Maria Rooijakkers ,  Johannes Maria Kuiper ,  Leon Van Dooren ,  Jacob Sonneveld ,  Erwin Johannes Martinus Giling

发明人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Wilhelmus Petrus De Boeij ,  Hendrikus Robertus Marie Van Greevenbroek ,  Michel Fransois Hubert Klaassen ,  Haico Victor Kok ,  Martijn Gerard Dominique Wehrens ,  Tammo Uitterdijk ,  Wilhelmus Jacobus Maria Rooijakkers ,  Johannes Maria Kuiper ,  Leon Van Dooren ,  Jacob Sonneveld ,  Erwin Johannes Martinus Giling

IPC分类号： G03B27/72 ,  G01J4/04

CPC分类号： G01M11/0264 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/706 ,  G03F7/7085

摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a polarization sensor configured at least in part to couple to a reticle stage, wherein components of the reticle polarization sensor can be loaded and unloaded in the lithographic apparatus in the manner used for conventional reticles. In one configuration an active reticle tool includes a rotatable retarder configured to vary the retardation applied to polarized light received from a field point in the illumination system. In another configuration, a passive reticle tool is configured as an array of polarization sensor modules, where the amount of retardation applied to received light by fixed retarders varies according to position of the polarization sensor module. Accordingly, a plurality of retardation conditions for light received at a given field point can be measured, wherein a complete determination of a polarization state of the light at the given field point can be determined. In another configuration, the polarization sensor is configured to measure the effect of a projection lens on a polarization state of light passing through the projection lens.

摘要翻译： 光刻设备包括被配置为调节辐射束的照明系统; 至少部分地配置为耦合到掩模版平台的偏振传感器，其中所述光罩极化传感器的部件可以以用于常规掩模版的方式在光刻设备中加载和卸载。 在一种配置中，有源掩模版工具包括可旋转延迟器，其被配置为改变施加到照明系统中的场点所接收的偏振光的延迟。 在另一种配置中，被动掩模版工具被配置为偏振传感器模块的阵列，其中由固定延迟器施加到接收光的延迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。 因此，可以测量在给定场点处接收的光的多个延迟条件，其中可以确定在给定场点处的光的偏振状态的完全确定。 在另一种配置中，偏振传感器被配置为测量投影透镜对通过投影透镜的光的偏振状态的影响。

公开(公告)号：US20100045956A1

公开(公告)日：2010-02-25

申请号：US11922056

申请日：2006-06-13

申请人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Wilhelmus Petrus De Boeij ,  Hendrikus Robertus Marie Van Greevenbroek ,  Michel Fransois Hubert Klaassen ,  Haico Victor Kok ,  Martijn Gerard Dominique Wehrens ,  Tammo Uitterdijk ,  Wilhelmus Jacobus Maria Rooijakkers ,  Johannes Maria Kuiper ,  Leon Van Dooren ,  Jacob Sonneveld ,  Erwin Johannes Martinus Giling

发明人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Wilhelmus Petrus De Boeij ,  Hendrikus Robertus Marie Van Greevenbroek ,  Michel Fransois Hubert Klaassen ,  Haico Victor Kok ,  Martijn Gerard Dominique Wehrens ,  Tammo Uitterdijk ,  Wilhelmus Jacobus Maria Rooijakkers ,  Johannes Maria Kuiper ,  Leon Van Dooren ,  Jacob Sonneveld ,  Erwin Johannes Martinus Giling

IPC分类号： G03B27/72 ,  G01J4/00

CPC分类号： G01M11/0264 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/706 ,  G03F7/7085

摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a polarization sensor configured at least in part to couple to a reticle stage, wherein components of the reticle polarization sensor can be loaded and unloaded in the lithographic apparatus in the manner used for conventional reticles. In one configuration an active reticle tool includes a rotatable retarder configured to vary the retardation applied to polarized light received from a field point in the illumination system. In another configuration, a passive reticle tool is configured as an array of polarization sensor modules, where the amount of retardation applied to received light by fixed retarders varies according to position of the polarization sensor module. Accordingly, a plurality of retardation conditions for light received at a given field point can be measured, wherein a complete determination of a polarization state of the light at the given field point can be determined. In another configuration, the polarization sensor is configured to measure the effect of a projection lens on a polarization state of light passing through the projection lens.

摘要翻译： 光刻设备包括被配置为调节辐射束的照明系统; 至少部分地配置为耦合到掩模版平台的极化传感器，其中所述光罩偏振传感器的部件可以以用于常规掩模版的方式在光刻设备中加载和卸载。 在一种配置中，有源掩模版工具包括可旋转延迟器，其被配置为改变施加到照明系统中的场点所接收的偏振光的延迟。 在另一种配置中，被动掩模版工具被配置为偏振传感器模块的阵列，其中由固定延迟器施加到接收光的延迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。 因此，可以测量在给定场点处接收的光的多个延迟条件，其中可以确定在给定场点处的光的偏振状态的完全确定。 在另一种配置中，偏振传感器被配置为测量投影透镜对通过投影透镜的光的偏振状态的影响。

公开(公告)号：US20100118288A1

公开(公告)日：2010-05-13

申请号：US11922020

申请日：2006-06-13

申请人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Wilhelmus Petrus De Boeij ,  Hendrikus Robertus Marie Van Greevenbroek ,  Michel Fransois Hubert Klaassen ,  Haico Victor Kok ,  Martijn Gerard Dominique Wehrens ,  Tammo Uitterdijk ,  Wilhelmus Jacobus Maria Rooijakkers ,  Johannes Maria Kuiper ,  Leon Van Dooren ,  Jacob Sonneveld ,  Erwin Johannes Martinus Giling

发明人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Wilhelmus Petrus De Boeij ,  Hendrikus Robertus Marie Van Greevenbroek ,  Michel Fransois Hubert Klaassen ,  Haico Victor Kok ,  Martijn Gerard Dominique Wehrens ,  Tammo Uitterdijk ,  Wilhelmus Jacobus Maria Rooijakkers ,  Johannes Maria Kuiper ,  Leon Van Dooren ,  Jacob Sonneveld ,  Erwin Johannes Martinus Giling

IPC分类号： G01J4/00 ,  G03B27/72

CPC分类号： G01M11/0264 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/706 ,  G03F7/7085

摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a polarization sensor configured at least in part to couple to a reticle stage, wherein components of the reticle polarization sensor can be loaded and unloaded in the lithographic apparatus in the manner used for conventional reticles. In one configuration an active reticle tool includes a rotatable retarder configured to vary the retardation applied to polarized light received from a field point in the illumination system. In another configuration, a passive reticle tool is configured as an array of polarization sensor modules, where the amount of retardation applied to received light by fixed retarders varies according to position of the polarization sensor module. Accordingly, a plurality of retardation conditions for light received at a given field point can be measured, wherein a complete determination of a polarization state of the light at the given field point can be determined. In another configuration, the polarization sensor is configured to measure the effect of a projection lens on a polarization state of light passing through the projection lens.

摘要翻译： 光刻设备包括被配置为调节辐射束的照明系统; 至少部分地配置为耦合到掩模版平台的极化传感器，其中所述光罩偏振传感器的部件可以以用于常规掩模版的方式在光刻设备中加载和卸载。 在一种配置中，有源掩模版工具包括可旋转延迟器，其被配置为改变施加到照明系统中的场点所接收的偏振光的延迟。 在另一种配置中，被动掩模版工具被配置为偏振传感器模块的阵列，其中由固定延迟器施加到接收光的延迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。 因此，可以测量在给定场点处接收的光的多个延迟条件，其中可以确定在给定场点处的光的偏振状态的完全确定。 在另一种配置中，偏振传感器被配置为测量投影透镜对通过投影透镜的光的偏振状态的影响。

公开(公告)号：US08760623B2

公开(公告)日：2014-06-24

申请号：US12746071

申请日：2008-12-01

申请人： Johannes Maria Kuiper

发明人： Johannes Maria Kuiper

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70483 ,  G01N21/956 ,  G02B3/0062 ,  G02B19/0028 ,  G02B19/0076 ,  G02B19/0095

摘要： An illuminator configured to create a radiation beam for the metrology of a substrate surface includes an arc lamp, a parabolic reflector (150), a double cone (160) and a fly's eye integrator (110) in order to create a homogenized beam with a parabolic distribution.

摘要翻译： 被配置为产生用于衬底表面的计量的辐射束的照明器包括弧光灯，抛物面反射器（150），双锥体（160）和蝇眼积分器（110），以便产生具有 抛物线分布。

公开(公告)号：US20110208342A1

公开(公告)日：2011-08-25

申请号：US13055851

申请日：2009-07-21

申请人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Johannes Maria Kuiper

发明人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Johannes Maria Kuiper

IPC分类号： G06F19/00

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633

摘要： A metrology device for inspecting a substrate is provided. In an embodiment, the metrology device includes a remote radiation source device, an optical system for creating a radiation beam, and an optical fibre for transferring radiation from the optical system to the location where the metrology operations are performed. The optical system includes a control system that includes a deformable mirror, a detector that detects the position of a radiation beam, and a controller that produces a control signal for input into the deformable mirror, the control signal being based on the detected position of the radiation. In this way, the shape of the deformable mirror can be used to control the position of the radiation beam output by the optical system into the optical fibre.

摘要翻译： 提供了一种用于检查基板的计量装置。 在一个实施例中，测量装置包括远程辐射源装置，用于产生辐射束的光学系统和用于将辐射从光学系统传送到执行测量操作的位置的光纤。 光学系统包括控制系统，其包括可变形反射镜，检测辐射束位置的检测器和产生用于输入到可变形反射镜中的控制信号的控制器，控制信号基于检测到的位置 辐射。 以这种方式，可变形反射镜的形状可用于控制由光学系统输出到光纤中的辐射束的位置。

公开(公告)号：US20100302521A1

公开(公告)日：2010-12-02

申请号：US12746071

申请日：2008-12-01

申请人： Johannes Maria Kuiper

发明人： Johannes Maria Kuiper

IPC分类号： G03B27/54 ,  G01N21/55 ,  G01J3/00

CPC分类号： G03F7/70483 ,  G01N21/956 ,  G02B3/0062 ,  G02B19/0028 ,  G02B19/0076 ,  G02B19/0095

摘要： An illuminator configured to create a radiation beam for the metrology of a substrate surface includes an arc lamp, a parabolic reflector (150), a double cone (160) and a fly's eye integrator (110) in order to create a homogenized beam with a parabolic distribution.

摘要翻译： 被配置为产生用于衬底表面的计量的辐射束的照明器包括弧光灯，抛物面反射器（150），双锥体（160）和蝇眼积分器（110），以便产生具有 抛物线分布。