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    Textured surfaces to enhance nano-lubrication
    6.
    发明授权
    Textured surfaces to enhance nano-lubrication 有权
    纹理表面，增强纳米润滑

    公开(公告)号：US09592532B2

    公开(公告)日：2017-03-14

    申请号：US14554809

    申请日：2014-11-26

    申请人： NanoMech, Inc.

    发明人： Ajay P. Malshe

    IPC分类号： F16C33/02 ,  B05D5/08 ,  C10M171/00 ,  B32B3/10 ,  C10M109/00 ,  B82Y30/00

    CPC分类号： B05D3/00 ,  B05D5/08 ,  B32B3/10 ,  B33Y80/00 ,  B82Y30/00 ,  C10M109/00 ,  C10M171/00 ,  C10N2220/082 ,  C10N2250/141 ,  F16C33/02 ,  Y10S428/9088 ,  Y10S977/773 ,  Y10S977/903 ,  Y10T428/12993 ,  Y10T428/24322

    摘要： Embodiments of the present invention may provide textured surfaces to be lubricated, the texturing to enhance the effectiveness of the intended nano-lubrication. The texturing may make asperities and depressions in the surface to be lubricated. This texturing may be executed, for example, by chemical etching, laser etching, or other techniques. This texturing may create locations in the lubricated surface to hold or anchor the intended nano-lubricants, to facilitate the creation of a tribo-film on the surface when the lubricated surface is used under pressure, and resulting in delivery of multiple chemistries from the nano-lubricant.

    摘要翻译： 本发明的实施例可以提供待润滑的纹理表面，该纹理化以提高预期的纳米润滑的有效性。 纹理可能会使表面的凹凸和凹凸润滑。 该纹理化可以例如通过化学蚀刻，激光蚀刻或其他技术来执行。 这种纹理可以在润滑的表面中产生位置以保持或锚定预期的纳米润滑剂，以便当在压力下使用润滑的表面时有助于在表面上产生摩擦膜，并且导致从纳米的多个化学物质的输送 润滑剂

    Method for treating a semiconductor device
    7.
    发明授权
    Method for treating a semiconductor device 有权
    半导体器件的处理方法

    公开(公告)号：US09555451B2

    公开(公告)日：2017-01-31

    申请号：US15079532

    申请日：2016-03-24

    申请人： LIFE TECHNOLOGIES CORPORATION

    发明人： James A. Ball ,  Phil Waggoner ,  Scott Parker

    IPC分类号： B08B7/00 ,  B08B3/08 ,  B08B9/08 ,  C11D3/16 ,  C11D3/34 ,  C11D3/43 ,  G01N27/414 ,  C11D7/50 ,  C11D7/34

    CPC分类号： B08B3/08 ,  B05D3/00 ,  B05D5/12 ,  B08B9/08 ,  C11D1/22 ,  C11D3/162 ,  C11D3/3418 ,  C11D3/43 ,  C11D7/34 ,  C11D7/5013 ,  C11D7/5022 ,  C11D11/0047 ,  G01N27/414 ,  G01N27/4145 ,  G01N27/4148 ,  H01L21/02057

    摘要： A method of treating a sensor array including a plurality of sensors and an isolation structure, where a sensor of the plurality of sensors has a sensor pad exposed at a surface of the sensor array and the isolation structure is disposed between the sensor pad and sensor pads of other sensors of the plurality of sensors, comprises exposing the sensor pad and the isolation structure to a non-aqueous organo-silicon solution including an organo-silicon compound and a first non-aqueous carrier; applying an acid solution including an organic acid and a second non-aqueous carrier to the sensor pad; and rinsing the acid solution from the sensor pad and the isolation structure.

    摘要翻译： 一种处理包括多个传感器和隔离结构的传感器阵列的方法，其中所述多个传感器中的传感器具有在所述传感器阵列的表面处暴露的传感器垫，并且所述隔离结构设置在所述传感器垫和传感器垫之间 所述多个传感器中的其它传感器包括将所述传感器垫和所述隔离结构暴露于包括有机硅化合物和第一非水载体的非水有机硅溶液; 将包含有机酸和第二非水性载体的酸溶液施加到传感器垫; 以及从传感器垫和隔离结构冲洗酸溶液。

    A TREATMENT PLATE FOR A GARMENT TREATMENT APPLIANCE
    8.
    发明申请
    A TREATMENT PLATE FOR A GARMENT TREATMENT APPLIANCE 有权
    一种护理用品的处理板

    公开(公告)号：US20160319478A1

    公开(公告)日：2016-11-03

    申请号：US14765401

    申请日：2014-01-23

    申请人： KONINKLIJKE PHILIPS N.V.

    发明人： JIECONG TANG ,  YTSEN WIELSTRA ,  YA LING LEE ,  SABRINA MAY FONG KHOO

    IPC分类号： D06F75/38 ,  B05D3/00 ,  B05D1/02

    CPC分类号： D06F75/38 ,  B05D1/02 ,  B05D3/00 ,  B05D3/007

    摘要： The invention relates to a treatment plate (10) for a garment treatment appliance (100) for treating garments (30), which plate has a contact surface which is provided with a sol-gel coating (20) that comprises an oxide of titanium, zirconium, hafnium, scandium, yttrium, or a mixture or combination thereof, and wherein the coating comprises a mixed oxide comprising two or more of titanium oxide, zirconium oxide and yttrium oxide. The layer preferably has a thickness of less than 1 μm. Such a layer shows excellent properties. A garment treatment appliance comprising such a treatment plate, as well as processes to produce the coating on the contact surface of the treatment plate are also disclosed.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于处理衣物（30）的衣服处理用具（100）的处理板（10），该板具有接触表面，该接触表面设置有包含钛的氧化物的溶胶 - 凝胶涂层（20） 锆，铪，钪，钇或其混合物或组合，并且其中所述涂层包含包含二氧化钛，氧化锆和氧化钇两种或更多种的混合氧化物。 该层优选具有小于1μm的厚度。 这样的层显示出优异的性能。 还公开了一种包括这种处理板的衣物处理设备，以及在处理板的接触表面上生产涂层的工艺。

    A TREATMENT PLATE FOR A GARMENT TREATMENT APPLIANCE
    9.
    发明申请
    A TREATMENT PLATE FOR A GARMENT TREATMENT APPLIANCE 有权
    一种护理用品的处理板

    公开(公告)号：US20160017536A1

    公开(公告)日：2016-01-21

    申请号：US14764015

    申请日：2014-01-23

    申请人： KONINKLIJKE PHILIPS N.V.

    发明人： JIECONG TANG ,  YTSEN WIELSTRA ,  YA LING LEE ,  SABRINA MAY FONG KHOO ,  LIHONG ZHAO

    IPC分类号： D06F75/38 ,  B05D3/00 ,  B05D1/02

    CPC分类号： D06F75/38 ,  B05D1/02 ,  B05D3/00 ,  B05D3/007

    摘要： The invention relates to a treatment plate (10) for a garment treatment appliance (100) for treating garments (30), which plate has a contact surface which is provided with a sol-gel coating (20) that comprises an oxide of titanium, zirconium, hafnium, scandium, yttrium, or a mixture or combination thereof. The layer preferably has a thickness of less than 1 μm. Such a layer shows excellent properties. A garment treatment appliance comprising such a treatment plate, as well as processes to produce the coating on the contact surface of the treatment plate are also disclosed.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于处理衣物（30）的衣服处理用具（100）的处理板（10），该板具有接触表面，该接触表面设置有包含钛的氧化物的溶胶 - 凝胶涂层（20） 锆，铪，钪，钇或其混合物或组合。 该层优选具有小于1μm的厚度。 这样的层显示出优异的性能。 还公开了一种包括这种处理板的衣物处理设备，以及在处理板的接触表面上生产涂层的工艺。

    High-Surface Capacitor Electrode
    10.
    发明授权
    High-Surface Capacitor Electrode 有权
    高表面电容器电极

    公开(公告)号：US09165717B1

    公开(公告)日：2015-10-20

    申请号：US13753637

    申请日：2013-01-30

    申请人： SIGMA LABORATORIES OF ARIZONA, LLC

    发明人： Angelo Yializis ,  Gordon Goodyear ,  Vladimir Gordyienko ,  Marlowe Engquist

    IPC分类号： B05D5/12 ,  H01G9/048 ,  H01G13/00 ,  C23C14/24 ,  C23C14/32 ,  C23C14/04 ,  C23C14/30 ,  C23C14/28 ,  C23C14/26 ,  B05D3/00

    CPC分类号： H01G9/048 ,  B05D3/00 ,  B05D5/12 ,  C23C14/04 ,  C23C14/14 ,  C23C14/16 ,  C23C14/243 ,  C23C14/246 ,  C23C14/26 ,  C23C14/28 ,  C23C14/30 ,  C23C14/32 ,  C23C14/325 ,  C23C14/5826 ,  C23C14/584 ,  C23C14/5853

    摘要： A high surface area valve-metal capacitor electrode is formed on a moving substrate in vacuum by a continuous multilayer vapor-phase deposition process under conditions of substrate temperature and speed that produce continuously growing, uninterrupted dendritic structures. The process is carried out in an atmosphere of inert gas, preferably including He or Ar, with or without an impurity gas such as oxygen. The substrate may be a valve-metal foil or wire, a metal screen, a polymer film, an organic or inorganic fiber, or a composite material. The direction of motion of the moving substrate may be reversed during the deposition process in order to increase the porosity of the dendrites. The electrode may be passivated using an oxygen-containing plasma before exposure to air. The process may also be carried out under conditions that produce boundary-layer turbulence in order to promote the continuously growth of uninterrupted dendritic structures.

    摘要翻译： 在基板温度和速度的条件下，通过连续的多层气相沉积工艺在真空中在移动的基板上形成高表面积的阀 - 金属电容器电极，从而产生连续生长的，不间断的树枝状结构。 该方法在惰性气体气氛中进行，优选包括He或Ar，有或无杂质气体如氧气。 基材可以是阀 - 金属箔或金属丝，金属网，聚合物膜，有机或无机纤维或复合材料。 移动的衬底的运动方向可以在沉积过程中反转，以增加枝晶的孔隙率。 在暴露于空气之前，可以使用含氧等离子体来钝化电极。 该方法也可以在产生边界层湍流的条件下进行，以促进不间断的树枝状结构的连续生长。