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    Charged particle beam exposure apparatus control system and a method of operation for providing a drawing start signal
    5.
    发明授权
    Charged particle beam exposure apparatus control system and a method of operation for providing a drawing start signal 失效
    带电粒子束曝光装置控制系统和提供绘图开始信号的操作方法

    公开(公告)号：US5225684A

    公开(公告)日：1993-07-06

    申请号：US948475

    申请日：1992-09-22

    申请人： Kazutaka Taki ,  Hiroshi Yasuda ,  Junichi Kai ,  Atsushi Saito ,  Kiichi Sakamoto

    发明人： Kazutaka Taki ,  Hiroshi Yasuda ,  Junichi Kai ,  Atsushi Saito ,  Kiichi Sakamoto

    IPC分类号： H01J37/302

    CPC分类号： H01J37/3023 ,  H01J2237/1504 ,  H01J2237/20285 ,  H01J2237/3175

    摘要： A charged particle beam exposure system emits and deflects an electron beam (11a) toward a continuously moving exposure object (18) and draws semiconductor integrated circuit patterns on the object. The system comprises a charged particle beam generating unit (11), first and second deflectors (12 and 13) for deflecting the electron beam (11a), first and second deflector drivers (14 and 15) for controlling outputs of the first and second deflectors (12 and 13), a stage driving and controlling unit (16) for controlling the movement of the object (18), and a controller (17) for controlling the inputs and outputs of the respective components. The second deflector driver (15) comprises at least a data correction unit (15A) for receiving main deflector data (MD1) and stage position data (STD) and providing corrected main deflector data (MD2), a deflection signal output unit (15B) for providing a main deflector set signal (S1) according to the main deflector data (MD2), a first wait time generator (15C) for generating a first pulse signal (PS1) according to the main deflector data (MD2), a second wait time generator (15D) for generating a second pulse signal (PS2) in synchronism with the first pulse signal (PS1), and a comparator (15E) for comparing the first and second pulse signals (PS1 and PS2) with each other and providing a drawing start signal (S3).

    摘要翻译： 带电粒子束曝光系统朝向连续移动的曝光物体（18）发射并偏转电子束（11a），并将半导体集成电路图案拉到物体上。 该系统包括带电粒子束产生单元（11），用于偏转电子束（11a）的第一和第二偏转器（12和13），第一和第二偏转器驱动器（14和15），用于控制第一和第二偏转器 （12和13），用于控制物体（18）的移动的平台驱动和控制单元（16），以及用于控制各个部件的输入和输出的控制器（17）。 第二偏转器驱动器（15）至少包括用于接收主偏转器数据（MD1）和平台位置数据（STD）并提供校正的主偏转器数据（MD2）的数据校正单元（15A），偏转信号输出单元（15B） 用于根据主偏转器数据（MD2）提供主偏转器设定信号（S1），用于根据主偏转器数据（MD2）产生第一脉冲信号（PS1）的第一等待时间发生器（15C），第二等待 用于与第一脉冲信号（PS1）同步地产生第二脉冲信号（PS2）的时间发生器（15D）和用于将第一和第二脉冲信号（PS1和PS2）彼此比较的比较器（15E） 绘图开始信号（S3）。

    Charged particle beam exposure apparatus and method of cleaning the same
    10.
    发明授权
    Charged particle beam exposure apparatus and method of cleaning the same 失效
    带电粒子束曝光装置及其清洗方法

    公开(公告)号：US5401974A

    公开(公告)日：1995-03-28

    申请号：US191458

    申请日：1994-02-03

    申请人： Yoshihisa Oae ,  Takamasa Satoh ,  Yasushi Takahashi ,  Kiichi Sakamoto ,  Hiroshi Yasuda ,  Soichiro Arai ,  Moritaka Nakamura

    发明人： Yoshihisa Oae ,  Takamasa Satoh ,  Yasushi Takahashi ,  Kiichi Sakamoto ,  Hiroshi Yasuda ,  Soichiro Arai ,  Moritaka Nakamura

    IPC分类号： H01J37/30 ,  H05H1/00

    CPC分类号： H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/3002 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32862 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/3175

    摘要： In a charged particle beam exposure apparatus in which a charged particle beam is projected onto a member to be exposed to thereby form a pattern thereon, there are provided a plurality of electrodes disposed around an optical axis of the charged particle beam, a first unit for introducing a gas containing oxygen as a main component into an inside of the charged particle beam exposure apparatus including the plurality of electrodes and for holding the inside of the apparatus at a degree of vacuum between 0.1 Torr and 4 Torr, and a second unit for selectively applying either a high-frequency signal having a frequency between 100 kHz and 800 kHz or a reference signal to each of the plurality of electrodes. A plasma radical state of the gas is generated in the inside of the apparatus so that a deposition present in the apparatus can be eliminated.

    摘要翻译： 在带电粒子束曝光装置中，带电粒子束投射到待暴露的构件上，从而在其上形成图案，设置有围绕带电粒子束的光轴设置的多个电极，第一单元， 将含有氧的气体作为主要成分引入到包括多个电极的带电粒子束曝光设备的内部，并将设备内部保持在0.1托和4托之间的真空度，以及用于选择性地将第二单元 将频率在100kHz和800kHz之间的高频信号或参考信号施加到多个电极中的每一个。 在装置的内部产生气体的等离子体自由基状态，从而可以消除装置中存在的沉积物。