公开(公告)号：US20110070810A1

公开(公告)日：2011-03-24

申请号：US12955803

申请日：2010-11-29

申请人： Hung Chih Chen ,  Jeonghoon Oh ,  Tsz-Sin Siu ,  Thomas Brezoczky ,  Steven M. Zuniga

发明人： Hung Chih Chen ,  Jeonghoon Oh ,  Tsz-Sin Siu ,  Thomas Brezoczky ,  Steven M. Zuniga

IPC分类号： B24B1/00

CPC分类号： B24B37/30

摘要： A carrier head for chemical mechanical polishing of a substrate includes a base and a flexible membrane extending beneath the base. The flexible membrane includes a central portion with an outer surface providing a substrate receiving surface, a perimeter portion connecting the central portion to the base, and at least one flap extending from an inner surface of the central portion. The flap divides a volume between the flexible membrane and the base into a plurality of chambers, and the flap includes a laterally extending first section and an angled second section extending beneath the first section and connecting the laterally extending first section to the central portion.

摘要翻译： 用于基板的化学机械抛光的承载头包括基部和在基部下方延伸的柔性膜。 柔性膜包括具有提供基板接收表面的外表面的中心部分，将中心部分连接到基部的周边部分和从中心部分的内表面延伸的至少一个折片。 翼片将柔性膜和基部之间的体积分成多个室，并且该翼片包括横向延伸的第一部分和在第一部分下方延伸并且将横向延伸的第一部分连接到中心部分的成角度的第二部分。

公开(公告)号：US07255771B2

公开(公告)日：2007-08-14

申请号：US10810784

申请日：2004-03-26

申请人： Hung Chih Chen ,  Jeonghoon Oh ,  Tsz-Sin Siu ,  Thomas Brezoczky ,  Steven M. Zuniga

发明人： Hung Chih Chen ,  Jeonghoon Oh ,  Tsz-Sin Siu ,  Thomas Brezoczky ,  Steven M. Zuniga

IPC分类号： B24B29/00

CPC分类号： B24B37/30

摘要： A carrier head for chemical mechanical polishing of a substrate includes a base and a flexible membrane extending beneath the base. The flexible membrane includes a central portion with an outer surface providing a substrate receiving surface, a perimeter portion connecting the central portion to the base, and at least one flap extending from an inner surface of the central portion. The flap divides a volume between the flexible membrane and the base into a plurality of chambers, and the flap includes a laterally extending first section and an angled second section extending beneath the first section and connecting the laterally extending first section to the central portion.

摘要翻译： 用于基板的化学机械抛光的承载头包括基部和在基部下方延伸的柔性膜。 柔性膜包括具有提供基板接收表面的外表面的中心部分，将中心部分连接到基部的周边部分和从中心部分的内表面延伸的至少一个折片。 翼片将柔性膜和基部之间的体积分成多个室，并且该翼片包括横向延伸的第一部分和在第一部分下方延伸并且将横向延伸的第一部分连接到中心部分的成角度的第二部分。

公开(公告)号：US08088299B2

公开(公告)日：2012-01-03

申请号：US12955803

申请日：2010-11-29

申请人： Hung Chih Chen ,  Jeonghoon Oh ,  Tsz-Sin Siu ,  Thomas Brezoczky ,  Steven M. Zuniga

发明人： Hung Chih Chen ,  Jeonghoon Oh ,  Tsz-Sin Siu ,  Thomas Brezoczky ,  Steven M. Zuniga

IPC分类号： C23C16/00 ,  H01L21/00

CPC分类号： B24B37/30

摘要： A carrier head for chemical mechanical polishing of a substrate includes a base and a flexible membrane extending beneath the base. The flexible membrane includes a central portion with an outer surface providing a substrate receiving surface, a perimeter portion connecting the central portion to the base, and at least one flap extending from an inner surface of the central portion. The flap divides a volume between the flexible membrane and the base into a plurality of chambers, and the flap includes a laterally extending first section and an angled second section extending beneath the first section and connecting the laterally extending first section to the central portion.

摘要翻译： 用于基板的化学机械抛光的承载头包括基部和在基部下方延伸的柔性膜。 柔性膜包括具有提供基板接收表面的外表面的中心部分，将中心部分连接到基部的周边部分和从中心部分的内表面延伸的至少一个折片。 翼片将柔性膜和基部之间的体积分成多个室，并且该翼片包括横向延伸的第一部分和在第一部分下方延伸并且将横向延伸的第一部分连接到中心部分的成角度的第二部分。

公开(公告)号：US08454413B2

公开(公告)日：2013-06-04

申请号：US11614940

申请日：2006-12-21

申请人： Jeonghoon Oh ,  Tsz-Sin Siu ,  Hung Chih Chen ,  Andrew J. Nagengast ,  Steven M. Zuniga ,  Thomas B. Brezoczky

发明人： Jeonghoon Oh ,  Tsz-Sin Siu ,  Hung Chih Chen ,  Andrew J. Nagengast ,  Steven M. Zuniga ,  Thomas B. Brezoczky

IPC分类号： B24B41/06

CPC分类号： B24B37/30 ,  B24B41/06 ,  B29C33/424 ,  B29C35/02 ,  B29K2023/00 ,  B29K2083/00 ,  B29K2995/0074 ,  B29L2031/755

摘要： A flexible membrane for use in a carrier head has a generally circular main portion with a lower surface, an annular outer portion for connection to a base assembly, and an annular flap extending from the main portion on a side opposite the lower surface for connection to the base assembly. At least one surface of the flap has a surface texture to prevent adhesion.

摘要翻译： 用于载体头部的柔性膜具有大致圆形的主要部分，具有下表面，用于连接到基座组件的环形外部部分和从主体部分在与下表面相对的一侧延伸的环形挡片，用于连接到 基座组件。 翼片的至少一个表面具有表面纹理以防止粘附。

公开(公告)号：US20130334752A1

公开(公告)日：2013-12-19

申请号：US13908774

申请日：2013-06-03

申请人： Jeonghoon Oh ,  Tsz-Sin Siu ,  Hung Chih Chen ,  Andrew J. Nagengast ,  Steven M. Zuniga ,  Thomas B. Brezoczky

发明人： Jeonghoon Oh ,  Tsz-Sin Siu ,  Hung Chih Chen ,  Andrew J. Nagengast ,  Steven M. Zuniga ,  Thomas B. Brezoczky

IPC分类号： B24B37/30

CPC分类号： B24B37/30 ,  B24B41/06 ,  B29C33/424 ,  B29C35/02 ,  B29K2023/00 ,  B29K2083/00 ,  B29K2995/0074 ,  B29L2031/755

摘要： A flexible membrane for use in a carrier head has a generally circular main portion with a lower surface, an annular outer portion for connection to a base assembly, and an annular flap extending from the main portion on a side opposite the lower surface for connection to the base assembly. At least one surface of the flap has a surface texture to prevent adhesion.

摘要翻译： 用于载体头部的柔性膜具有大致圆形的主要部分，具有下表面，用于连接到基座组件的环形外部部分和从主体部分在与下表面相对的一侧延伸的环形挡片，用于连接到 基座组件。 翼片的至少一个表面具有表面纹理以防止粘附。

公开(公告)号：US07842158B2

公开(公告)日：2010-11-30

申请号：US11837412

申请日：2007-08-10

申请人： Hung Chih Chen ,  Jeonghoon Oh ,  Tsz-Sin Siu ,  Thomas B. Brezoczky ,  Steven M. Zuniga

发明人： Hung Chih Chen ,  Jeonghoon Oh ,  Tsz-Sin Siu ,  Thomas B. Brezoczky ,  Steven M. Zuniga

IPC分类号： B24B29/00

CPC分类号： B24B37/30

摘要： A carrier head for chemical mechanical polishing of a substrate includes a base and a flexible membrane extending beneath the base. The flexible membrane includes a central portion with an outer surface providing a substrate receiving surface, a perimeter portion connecting the central portion to the base, and at least one flap extending from an inner surface of the central portion. The flap divides a volume between the flexible membrane and the base into a plurality of chambers, and the flap includes a laterally extending first section and an angled second section extending beneath the first section and connecting the laterally extending first section to the central portion.

摘要翻译： 用于基板的化学机械抛光的承载头包括基部和在基部下方延伸的柔性膜。 柔性膜包括具有提供基板接收表面的外表面的中心部分，将中心部分连接到基部的周边部分和从中心部分的内表面延伸的至少一个折片。 翼片将柔性膜和基部之间的体积分成多个室，并且该翼片包括横向延伸的第一部分和在第一部分下方延伸并且将横向延伸的第一部分连接到中心部分的成角度的第二部分。

公开(公告)号：US07081042B2

公开(公告)日：2006-07-25

申请号：US11004223

申请日：2004-12-02

申请人： Hung Chih Chen ,  Steven M. Zuniga ,  Tsz-Sin Siu

发明人： Hung Chih Chen ,  Steven M. Zuniga ,  Tsz-Sin Siu

IPC分类号： B24B1/00

CPC分类号： B24B37/345 ,  B24B37/30

摘要： Techniques for removing a substrate from a polishing pad are described. A substrate is pulled away from the polishing pad such that the edges of the substrate are pulled away from the polishing pad before the center of the substrate is pulled from the polishing pad.

公开(公告)号：US20080196833A1

公开(公告)日：2008-08-21

申请号：US12049650

申请日：2008-03-17

申请人： Hung Chih Chen ,  Steven M. Zuniga ,  Charles C. Garretson ,  Douglas R. McAllister ,  Jian Lin ,  Stacy Meyer ,  Sidney P. Huey ,  Jeonghoon Oh ,  Trung T. Doan ,  Jeffrey Schmidt ,  Martin S. Wohlert ,  Kerry F. Hughes ,  James C. Wang ,  Danny Cam Toan Lu ,  Romain Beau De Lamenie ,  Venkata R. Balagani ,  Aden Martin Allen ,  Michael Jon Fong

发明人： Hung Chih Chen ,  Steven M. Zuniga ,  Charles C. Garretson ,  Douglas R. McAllister ,  Jian Lin ,  Stacy Meyer ,  Sidney P. Huey ,  Jeonghoon Oh ,  Trung T. Doan ,  Jeffrey Schmidt ,  Martin S. Wohlert ,  Kerry F. Hughes ,  James C. Wang ,  Danny Cam Toan Lu ,  Romain Beau De Lamenie ,  Venkata R. Balagani ,  Aden Martin Allen ,  Michael Jon Fong

IPC分类号： H01L21/306 ,  B24B1/00

CPC分类号： B24B37/32 ,  Y10T29/49815

摘要： A retaining ring can be shaped by machining or lapping the bottom surface of the ring to form a shaped profile in the bottom surface. The bottom surface of the retaining ring can include flat, sloped and curved portions. The lapping can be performed using a machine that dedicated for use in lapping the bottom surface of retaining rings. During the lapping the ring can be permitted to rotate freely about an axis of the ring. The bottom surface of the retaining ring can have curved or flat portions.

摘要翻译： 保持环可以通过机械加工或研磨环的底部表面而在底面形成成形轮廓。 保持环的底面可以包括平坦的，倾斜的和弯曲的部分。 可以使用专用于研磨保持环底面的机器进行研磨。 在研磨期间，可以允许环围绕环的轴线自由旋转。 保持环的底面可以具有弯曲或平坦的部分。

公开(公告)号：US20070289124A1

公开(公告)日：2007-12-20

申请号：US11757069

申请日：2007-06-01

申请人： Jeonghoon Oh ,  Andrew Nagengast ,  Steven M. Zuniga ,  Hung Chih Chen

发明人： Jeonghoon Oh ,  Andrew Nagengast ,  Steven M. Zuniga ,  Hung Chih Chen

IPC分类号： H05K13/04

CPC分类号： H01L21/6838 ,  B24B37/30 ,  H01L21/67005 ,  Y10T29/5313 ,  Y10T279/11

摘要： The present invention relates to an apparatus and method for improving and speeding up substrate loading process. One embodiment provides a method for vacuum chucking a substrate. The method comprises venting a center chamber of a flexible membrane configured for mounting the substrate, moving the substrate such that a backside of the substrate is in full contact with the flexible membrane, and vacuuming the center chamber to vacuum chuck the backside of the substrate to the flexible membrane.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于改善和加速基板加载过程的装置和方法。 一个实施例提供了用于真空吸附衬底的方法。 该方法包括将配置用于安装衬底的柔性膜的中心室排出，移动衬底，使得衬底的背面与柔性膜完全接触，并且抽真空中心室以将衬底的背面真空吸附到 柔性膜。

公开(公告)号：US08585468B2

公开(公告)日：2013-11-19

申请号：US13305589

申请日：2011-11-28

申请人： Hung Chih Chen ,  Steven M. Zuniga ,  Charles C. Garretson ,  Douglas R. McAllister ,  Jian Lin ,  Stacy Meyer ,  Sidney P. Huey ,  Jeonghoon Oh ,  Trung T. Doan ,  Jeffrey Schmidt ,  Martin S. Wohlert ,  Kerry F. Hughes ,  James C. Wang ,  Danny Cam Toan Lu ,  Romain Beau De Lamenie ,  Venkata R. Balagani ,  Aden Martin Allen ,  Michael Jon Fong

发明人： Hung Chih Chen ,  Steven M. Zuniga ,  Charles C. Garretson ,  Douglas R. McAllister ,  Jian Lin ,  Stacy Meyer ,  Sidney P. Huey ,  Jeonghoon Oh ,  Trung T. Doan ,  Jeffrey Schmidt ,  Martin S. Wohlert ,  Kerry F. Hughes ,  James C. Wang ,  Danny Cam Toan Lu ,  Romain Beau De Lamenie ,  Venkata R. Balagani ,  Aden Martin Allen ,  Michael Jon Fong

IPC分类号： B24B5/00

CPC分类号： B24B37/32 ,  Y10T29/49815

摘要： A retaining ring can be shaped by machining or lapping the bottom surface of the ring to form a shaped profile in the bottom surface. The bottom surface of the retaining ring can include flat, sloped and curved portions. The lapping can be performed using a machine that dedicated for use in lapping the bottom surface of retaining rings. During the lapping the ring can be permitted to rotate freely about an axis of the ring. The bottom surface of the retaining ring can have curved or flat portions.