公开(公告)号：US20060232756A1

公开(公告)日：2006-10-19

申请号：US11239480

申请日：2005-09-30

申请人： Joeri Lof ,  Antonius Theodorus Derksen ,  Christiaan Hoogendam ,  Aleksey Kolesnychenko ,  Erik Loopstra ,  Theodorus Modderman ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Roelof Aeilko Ritsema ,  Klaus Simon ,  Joannes De Smit ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk ,  Helmar Santen ,  Sjoerd Nicolaas Donders

发明人： Joeri Lof ,  Antonius Theodorus Derksen ,  Christiaan Hoogendam ,  Aleksey Kolesnychenko ,  Erik Loopstra ,  Theodorus Modderman ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Roelof Aeilko Ritsema ,  Klaus Simon ,  Joannes De Smit ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk ,  Helmar Santen ,  Sjoerd Nicolaas Donders

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： In a lithographic projection apparatus, a structure surrounds a space between the projection system and a substrate table of the lithographic projection apparatus. Gas is used between the structure and the surface of the substrate to contain liquid in the space.

摘要翻译： 在光刻投影装置中，结构围绕投影系统与光刻投影装置的基板台之间的空间。 在结构和衬底的表面之间使用气体以在空间中容纳液体。

公开(公告)号：US20050018155A1

公开(公告)日：2005-01-27

申请号：US10873647

申请日：2004-06-23

申请人： Henrikus Herman Cox ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Aleksey Kolesnychenko ,  Erik Loopstra ,  Helmar Santen

发明人： Henrikus Herman Cox ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Aleksey Kolesnychenko ,  Erik Loopstra ,  Helmar Santen

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70341

摘要： A lithographic projection apparatus wherein a liquid supply system provides a space between a projection system and a substrate with liquid. The liquid supply system comprises a member. A liquid seal is formed between the member and the substrate by a flow of liquid. In an embodiment, the liquid seal is formed by a flow of liquid from an inlet to an outlet of the member.

摘要翻译： 一种光刻投影装置，其中液体供应系统在投影系统和具有液体的基板之间提供空间。 液体供应系统包括一个构件。 通过液体流在构件和基板之间形成液体密封。 在一个实施例中，液体密封由液体从构件的入口到出口形成。

公开(公告)号：US20050219483A1

公开(公告)日：2005-10-06

申请号：US11092964

申请日：2005-03-30

申请人： Johannes Baselmans ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Hans Jansen ,  Jeroen Johannes Sophia Mertens ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Bob Streefkerk

发明人： Johannes Baselmans ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Hans Jansen ,  Jeroen Johannes Sophia Mertens ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Bob Streefkerk

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03B27/52 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F9/7096 ,  G03F7/70341

摘要： An immersion lithography apparatus is disclosed having a liquid supply system configured to at least partially fill a space between a final element of a projection system and a substrate table, with a first liquid, and a measurement system configured to measure a location of each of a plurality of points on the substrate, the measurement system being arranged such that measurements take place through a second liquid, the second liquid not being supplied by the liquid supply system.

摘要翻译： 公开了一种浸没式光刻设备，其具有液体供应系统，该液体供应系统被配置为至少部分地填充投影系统的最终元件和基板台之间的空间与第一液体，以及测量系统，其被配置为测量每个 多个点在基板上，测量系统布置成使得通过第二液体进行测量，第二液体不由液体供应系统供应。

公开(公告)号：US20060119816A1

公开(公告)日：2006-06-08

申请号：US11005500

申请日：2004-12-07

申请人： Johannes Jacobus Baselmans ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Hans Jansen ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Bob Streefkerk

发明人： Johannes Jacobus Baselmans ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Hans Jansen ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Bob Streefkerk

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70808

摘要： The lithographic apparatus includes a support structure configured to hold a patterning device. The patterning device is configured to pattern a beam of radiation according to a desired pattern. The lithographic apparatus further includes a substrate table configured to hold a substrate, a projection system configured to project the patterned beam onto a target portion of the substrate, a measurement system configured to measure a parameter of (a) the substrate table, or (b) the substrate, or (c) an image projected by the projection system, or (d) any combination of (a)-(c), and a liquid supply system configured to supply a liquid to a space between the substrate and the projection system. The lithographic apparatus also includes a shield disposed in a vicinity of a portion of the measurement system and configured to shield the portion of the measurement system from the liquid.

摘要翻译： 光刻设备包括构造成保持图案形成装置的支撑结构。 图案形成装置被配置成根据期望的图案对辐射束进行图案化。 所述光刻设备还包括被配置为保持基板的基板台，配置成将所述图案化的光束投影到所述基板的目标部分上的投影系统;被配置为测量（a）所述基板台的参数的测量系统，或（b ）基板，或（c）由投影系统投影的图像，或（d）（a） - （c）的任何组合，以及被配置为将液体供应到基板和投影件之间的空间的液体供应系统 系统。 光刻设备还包括设置在测量系统的一部分附近并被配置为将测量系统的部分与液体隔离的屏蔽件。

公开(公告)号：US20050219482A1

公开(公告)日：2005-10-06

申请号：US10814822

申请日：2004-04-01

申请人： Johannes Jacobus Baselmans ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Hans Jansen ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Bob Streefkerk

发明人： Johannes Jacobus Baselmans ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Hans Jansen ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Bob Streefkerk

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03B27/52 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F9/7096 ,  G03F7/70341

摘要： A substrate is exposed through immersion liquid supplied by a liquid supply system. Prior to being exposed, a map of the surface of the substrate is generated at a measurement station. A liquid supply system fills the space between a measurement system and the substrate so the measurement takes place through liquid.

摘要翻译： 通过由液体供应系统供应的浸没液体暴露基板。 在曝光之前，在测量台产生基板表面的图。 液体供应系统填充测量系统和基板之间的空间，以便通过液体进行测量。

公开(公告)号：US20050243292A1

公开(公告)日：2005-11-03

申请号：US10835856

申请日：2004-05-03

申请人： Johannes Jacobus Baselmans ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Hans Jansen ,  Jeroen Johannes Sophia Mertens ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Bob Streefkerk

发明人： Johannes Jacobus Baselmans ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Hans Jansen ,  Jeroen Johannes Sophia Mertens ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Bob Streefkerk

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03B27/42 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F9/7034 ,  G03F7/70341

摘要： A lithographic apparatus and method, in an embodiment for immersion lithography, are disclosed with a single stage in which levelling and exposure are performed simultaneously.

摘要翻译： 在用于浸没式光刻的实施例中的光刻设备和方法被公开在其中同时执行调平和曝光的单个阶段。

公开(公告)号：US20060072088A1

公开(公告)日：2006-04-06

申请号：US10957751

申请日：2004-10-05

申请人： Matthew Lipson ,  Marcel Mathijs Dierichs ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Bob Streefkerk ,  Ronald Wilklow ,  Roel De Jonge

发明人： Matthew Lipson ,  Marcel Mathijs Dierichs ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Bob Streefkerk ,  Ronald Wilklow ,  Roel De Jonge

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A lithographic apparatus is provided in which exposure is carried out by projecting through an aqueous solution of alkali metal halide(s), the solution being in contact with the substrate to be exposed.

摘要翻译： 提供了一种光刻设备，其中通过突出通过碱金属卤化物的水溶液进行曝光，该溶液与待暴露的基板接触。

公开(公告)号：US20060290908A1

公开(公告)日：2006-12-28

申请号：US11167563

申请日：2005-06-28

申请人： Roelof De Graaf ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Hans Jansen ,  Martinus Hendrikus Leenders ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Bob Streefkerk ,  Jan-Gerard Van Der Toorn ,  Michel Riepen

发明人： Roelof De Graaf ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Hans Jansen ,  Martinus Hendrikus Leenders ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Bob Streefkerk ,  Jan-Gerard Van Der Toorn ,  Michel Riepen

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed in which measures are taken to prevent or reduce the presence of bubbles in liquid through which the projection beam radiates. This may be done, for example, by ensuring that a gap between a substrate and a substrate table is filled with immersion liquid or by causing a localized flow radially outwardly from the optical axis in the vicinity of the edge of the substrate.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置，其中采取措施来防止或减少投影光束通过其喷射的液体中气泡的存在。 这可以例如通过确保衬底和衬底台之间的间隙用浸没液体填充或者通过使基板的边缘附近的光轴径向向外的局部流动来实现。

公开(公告)号：US20060250601A1

公开(公告)日：2006-11-09

申请号：US11120186

申请日：2005-05-03

申请人： Bob Streefkerk ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Roelof De Graaf ,  Christiaan Hoogendam ,  Hans Jansen ,  Martinus Hendrikus Leenders ,  Paulus Martinus Liebregts ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Jan-Gerard Van Der Toorn ,  Michel Riepen

发明人： Bob Streefkerk ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Roelof De Graaf ,  Christiaan Hoogendam ,  Hans Jansen ,  Martinus Hendrikus Leenders ,  Paulus Martinus Liebregts ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Jan-Gerard Van Der Toorn ,  Michel Riepen

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/3085 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70916 ,  G03F2007/2067 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/67098

摘要： An immersion lithographic apparatus is provided with a liquid confinement structure which defines at least in part a space configured to contain liquid between the projection system and the substrate. In order to reduce the crossing of the edge of the substrate which is being imaged (which can lead to inclusion of bubbles in the immersion liquid), the cross-sectional area of the space in a plane parallel to the substrate is made as small as possible. The smallest theoretical size is the size of the target portion which is imaged by the projection system. In an embodiment, the shape of a final element of the projection system is also changed to have a similar size and/or shape in a cross-section parallel to the substrate to that of the target portion.

摘要翻译： 浸没式光刻设备设置有液体限制结构，其限定至少部分地被配置为在投影系统和衬底之间容纳液体的空间。 为了减少正在成像的衬底的边缘（其可能导致在浸没液体中包含气泡）的交叉，使得平行于衬底的平面中的空间的横截面积小至 可能。 最小的理论尺寸是由投影系统成像的目标部分的尺寸。 在一个实施例中，投影系统的最终元件的形状也被改变为在平行于基底的截面与目标部分的横截面上具有相似的尺寸和/或形状。

公开(公告)号：US20070114451A1

公开(公告)日：2007-05-24

申请号：US11603228

申请日：2006-11-22

申请人： Hans Jansen ,  Sebastiaan Maria Cornelissen ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Roelof De Graaf ,  Christiaan Hoogendam ,  Hernes Jacobs ,  Martinus Hendrikus Leenders ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Bob Streefkerk ,  Jan-Gerard Van Der Toorn ,  Peter Smits ,  Franciscus Johannes Janssen ,  Michel Riepen

发明人： Hans Jansen ,  Sebastiaan Maria Cornelissen ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Roelof De Graaf ,  Christiaan Hoogendam ,  Hernes Jacobs ,  Martinus Hendrikus Leenders ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Bob Streefkerk ,  Jan-Gerard Van Der Toorn ,  Peter Smits ,  Franciscus Johannes Janssen ,  Michel Riepen

IPC分类号： G21G5/00

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/707

摘要： In an immersion lithographic apparatus, bubble formation in immersion liquid is reduced or prevented by reducing a gap size or area on a substrate table and/or covering the gap.

摘要翻译： 在浸没式光刻设备中，通过减小衬底台上的间隙尺寸或面积和/或覆盖间隙来降低或防止浸没液中的气泡形成。