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    ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME COMPOSITION
    2.
    发明申请
    ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME COMPOSITION 审中-公开
    化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物，以及使用其组合物的耐蚀膜和图案形成方法

    公开(公告)号：US20120207978A1

    公开(公告)日：2012-08-16

    申请号：US13369528

    申请日：2012-02-09

    申请人： Akinori SHIBUYA ,  Shuhei YAMAGUCHI ,  Kunihiko KODAMA ,  Kenji WADA ,  Tomoki MATSUDA

    发明人： Akinori SHIBUYA ,  Shuhei YAMAGUCHI ,  Kunihiko KODAMA ,  Kenji WADA ,  Tomoki MATSUDA

    IPC分类号： G03F7/20 ,  B32B3/30 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10T428/24479

    摘要： An object of the present invention is to provide an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is significantly excellent in terms of exposure latitude, is capable of forming a favorable rectangular pattern profile, and exhibits low dissolution of the components into an immersion liquid when performing immersion exposure, and a resist film and a pattern forming method each using the same composition. The actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a compound represented by formula (I) and capable of generating an acid upon irradiation of actinic-rays or radiations, and (B) a resin capable of increasing the solubility in an alkaline developer by the action of an acid.

    摘要翻译： 本发明的目的是提供一种在曝光宽容度上显着优异的光化学敏感或辐射敏感性树脂组合物，能够形成有利的矩形图案，并且显示出低成分溶解于 进行浸渍曝光时的浸渍液，以及使用相同组成的抗蚀剂膜和图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物含有（A）由式（I）表示的化合物，并且能够在光化或辐射照射时产生酸，和（B）能够增加溶解度的树脂 在碱性显影剂中通过酸的作用。

    CURABLE COMPOSITION FOR IMPRINTS, PATTERNING METHOD AND PATTERN
    8.
    发明申请
    CURABLE COMPOSITION FOR IMPRINTS, PATTERNING METHOD AND PATTERN 有权
    适用于印花，图案方法和图案的可固化组合物

    公开(公告)号：US20100009138A1

    公开(公告)日：2010-01-14

    申请号：US12499269

    申请日：2009-07-08

    申请人： Kunihiko KODAMA ,  Akinori Fujita

    发明人： Kunihiko KODAMA ,  Akinori Fujita

    IPC分类号： B32B3/10 ,  C08J3/28 ,  B29C59/16

    CPC分类号： C09D133/10

    摘要： A curable composition for imprints, comprising a polymerizable monomer (Ax) represented by the following formula: wherein Ar represents a divalent or trivalent aromatic group, X represents a single bond or an organic linking group, R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and n represents 2 or 3. The content of the polymerizable monomer (Ax) is 45% by mass or more, or the total content of solid polymerizable monomers and liquid polymerizable monomers with high viscosity is less than 50% by mass.

    摘要翻译： 一种用于印记的可固化组合物，其包含由下式表示的可聚合单体（Ax）：其中Ar表示二价或三价芳族基团，X表示单键或有机连接基团，R 1表示氢原子或烷基， n表示2或3.可聚合单体（Ax）的含量为45质量％以上，或者高粘度的固体聚合性单体和液体聚合性单体的总含量小于50质量％。

    CURABLE COMPOSITION FOR IMPRINTS, PATTERNING METHOD AND PATTERN
    10.
    发明申请
    CURABLE COMPOSITION FOR IMPRINTS, PATTERNING METHOD AND PATTERN 审中-公开
    适用于印花，图案方法和图案的可固化组合物

    公开(公告)号：US20120231234A1

    公开(公告)日：2012-09-13

    申请号：US13413184

    申请日：2012-03-06

    申请人： Kunihiko KODAMA

    发明人： Kunihiko KODAMA

    IPC分类号： C08J3/24 ,  C08J3/28 ,  B32B3/14 ,  B05D3/06

    CPC分类号： B32B3/14 ,  C08F2/48 ,  C08F220/24 ,  C08F222/1006 ,  C08J3/24 ,  C08J3/28 ,  C08J2300/10 ,  C08J2300/102 ,  C09D11/101 ,  Y10T428/24802

    摘要： Provided is a curable composition for imprints which ensures satisfactory pattern formability and defect-preventive performance even in the process of high-speed pattern transfer. The curable composition for imprints, comprises at least one species of polymerizable monomer(s) (A), and a photo-polymerization initiator (B), wherein the polymerizable monomer (A) contains a polymerizable monomer (Ax) having a hydrogen-bondable group and fluorine-containing group(s).

    摘要翻译： 提供一种用于印痕的可固化组合物，即使在高速图案转印的过程中也能确保令人满意的图案形成性和缺陷性能。 用于印记的可固化组合物包含至少一种可聚合单体（A）和光聚合引发剂（B），其中可聚合单体（A）含有可氢化的可聚合单体（Ax） 基团和含氟基团。