公开(公告)号：US5969055A

公开(公告)日：1999-10-19

申请号：US981829

申请日：1998-01-15

申请人： Michinori Nishikawa ,  Kyouyu Yasuda ,  Shigeo Kawamura ,  Tsukasa Toyoshima ,  Yasuo Matsuki ,  Kengo Wakabayashi

发明人： Michinori Nishikawa ,  Kyouyu Yasuda ,  Shigeo Kawamura ,  Tsukasa Toyoshima ,  Yasuo Matsuki ,  Kengo Wakabayashi

IPC分类号： C08G73/10 ,  G02F1/1337 ,  C09K19/56 ,  G02F1/13

CPC分类号： C08G73/10 ,  G02F1/133723

摘要： A liquid crystal alignment agent containing at least two kinds of polymers selected from the group consisting of polyamic acids and imidized polymers and having a structure obtained by dehydration and ring closure of polyamic acid. In the at least two kinds of polymers contained in the liquid crystal alignment agent, the polymer of higher imidization degree has a smaller surface free energy. The liquid crystal alignment agent gives a liquid crystal display device having less stuck image and high pretilt angle.

摘要翻译： PCT No.PCT / JP97 / 01635 Sec。 371日期1998年1月15日 102（e）日期1998年1月15日PCT提交1997年5月15日PCT公布。 公开号WO97 / 43687 日期1997年11月20日含有选自聚酰胺酸和酰亚胺化聚合物中的至少两种聚合物的液晶取向剂，具有通过聚酰胺酸脱水和闭环获得的结构。 在液晶取向剂中所含的至少两种聚合物中，酰亚胺化度高的聚合物具有较小的表面自由能。 液晶取向剂给出了具有较少卡滞图像和高预倾角的液晶显示装置。

公开(公告)号：US5700860A

公开(公告)日：1997-12-23

申请号：US622280

申请日：1996-03-27

申请人： Michinori Nishikawa ,  Tsuyoshi Miyamoto ,  Shigeo Kawamura ,  Kyouyu Yasuda ,  Yasuaki Mutsuga ,  Yasuo Matsuki

发明人： Michinori Nishikawa ,  Tsuyoshi Miyamoto ,  Shigeo Kawamura ,  Kyouyu Yasuda ,  Yasuaki Mutsuga ,  Yasuo Matsuki

IPC分类号： G02F1/1337 ,  C08K5/06

CPC分类号： G02F1/133723

摘要： A liquid crystal aligning agent, which contains (1) at least one polymer selected from a polyamic acid and an imidized polymer therefrom; (2) at least one first solvent selected from the group consisting of N-alkyl-2-pyrrolidones, lactones and 1,3-dialkyl-2-imidazolidinones; (3) at least one second solvent from (a) a phenyl ether solvent of the formula (I): ##STR1## and (b) an ester ether solvent of the formula (II) ##STR2## wherein R.sup.1 -R.sup.6, a, b and c are as defined herein.

摘要翻译： 一种液晶取向剂，其含有（1）至少一种选自聚酰胺酸和其酰亚胺化聚合物的聚合物; （2）至少一种选自N-烷基-2-吡咯烷酮，内酯和1,3-二烷基-2-咪唑啉酮的第一溶剂; （3）至少一种来自（a）式（I）的苯基醚溶剂的第二溶剂：（I）和（b）式（II）的酯醚溶剂（II）其中 R1-R6，a，b和c如本文所定义。

公开(公告)号：US5698135A

公开(公告)日：1997-12-16

申请号：US568508

申请日：1995-12-07

申请人： Michinori Nishikawa ,  Shigeo Kawamura ,  Yasuo Matsuki ,  Kyouyu Yasuda ,  Tsuyoshi Miyamoto

发明人： Michinori Nishikawa ,  Shigeo Kawamura ,  Yasuo Matsuki ,  Kyouyu Yasuda ,  Tsuyoshi Miyamoto

IPC分类号： C08G73/10 ,  C09K19/56 ,  G02F1/1337 ,  C08G69/36 ,  C09K19/52

CPC分类号： C08G73/10 ,  C08G73/1085 ,  G02F1/133723

摘要： A liquid crystal-aligning agent comprising at least one of a polyamic acid obtained by reacting (A) a tetracarboxylic acid dianhydride consisting of 70 to 98 mole % of a dianhydride of a tetracarboxylic acid such as ##STR1## or the like, and 2 to 30 mole % of a dianhydride of a cyclobutanetetracarboxylic acid, and (B) a diamine compound, and a polymer obtained by imidizing the polyamic acid.

摘要翻译： 一种液晶取向剂，其包含通过使（A）由70〜98摩尔％的四羧酸的二酐（如“IMAGE”）等组成的四羧酸二酐与2〜 30摩尔％的环丁烷四羧酸的二酐和（B）二胺化合物，以及通过酰亚胺化聚酰胺酸获得的聚合物。

公开(公告)号：US5276132A

公开(公告)日：1994-01-04

申请号：US847758

申请日：1992-03-04

申请人： Michinori Nishikawa ,  Tsuyoshi Miyamoto ,  Yasuaki Yokoyama ,  Yasuo Matsuki

发明人： Michinori Nishikawa ,  Tsuyoshi Miyamoto ,  Yasuaki Yokoyama ,  Yasuo Matsuki

IPC分类号： C08G73/10 ,  C09K19/56 ,  G02F1/1337 ,  C09K19/00 ,  G02F1/133

CPC分类号： G02F1/133723 ,  C08G73/1017 ,  C09K19/56 ,  Y10T428/1023

摘要： A liquid crystal aligning agent containing a polymer selected from the group consisting of a polyamic acid having a steroidal skeleton and an imidized product thereof; and a liquid crystal display device to which the liquid crystal aligning agent is applied.

摘要翻译： 一种含有选自具有甾族骨架的聚酰胺酸和其酰亚胺化产物的聚合物的液晶取向剂; 以及应用液晶取向剂的液晶显示装置。

公开(公告)号：US06749944B2

公开(公告)日：2004-06-15

申请号：US10252606

申请日：2002-09-24

申请人： Michinori Nishikawa ,  Manabu Sekiguchi ,  Atsushi Shiota ,  Kinji Yamada

发明人： Michinori Nishikawa ,  Manabu Sekiguchi ,  Atsushi Shiota ,  Kinji Yamada

IPC分类号： B32B904

CPC分类号： B05D1/60 ,  B05D7/52 ,  C09D183/04 ,  C09D183/14 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/0214 ,  H01L21/022 ,  H01L21/02211 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02271 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3122 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/31663

摘要： A stacked film, a method for the production of the stacked film, an insulating film comprising the stacked film, and a substrate for semiconductor, using the insulating film. The stacked film comprises films of two or more kinds of alkoxysilane hydrolysis condensates having 5 nm or more difference in a mean radius of gyration, or films of alkoxysilane hydrolysis condensate having 0.3 or more difference in the dielectric constant. The stacked film is obtained by applying a coating solution comprising (B) a compound having a mean radius of gyration of less than 10 nm, and then applying a coating solution comprising (A) a compound having a mean radius of gyration of from 10 to 30 nm, followed by heating. The stacked film provides a dielectric film (substrate for semiconductor) having superior adhesion to a CVD film.

摘要翻译： 叠层膜，制造层叠膜的方法，包括层叠膜的绝缘膜和使用绝缘膜的半导体用基板。 叠层膜包含两个或更多种平均回转半径的差异为5nm以上的烷氧基硅烷水解缩合物的膜或介电常数为0.3以上的烷氧基硅烷水解缩合物的膜。 通过涂布包含（B）平均回转半径为10nm以下的化合物的涂布溶液，然后涂布包含（A）平均半径为10的化合物的涂布溶液， 30nm，然后加热。 叠层膜提供对CVD膜具有优异粘合性的电介质膜（半导体用基板）。

公开(公告)号：US06465368B2

公开(公告)日：2002-10-15

申请号：US09849302

申请日：2001-05-07

申请人： Yasutake Inoue ,  Junji Kawai ,  Michinori Nishikawa ,  Kinji Yamada

发明人： Yasutake Inoue ,  Junji Kawai ,  Michinori Nishikawa ,  Kinji Yamada

IPC分类号： H01L2131

CPC分类号： H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3122 ,  H01L21/316 ,  Y10T428/1457

摘要： A method of manufacturing an insulating film-forming material comprising dissolving an inorganic polymer compound or an organic polymer compound in an organic solvent having a solubility in water of 100 g/100 cc or less at 20° C., and causing the solution to come in contact with water or an acidic aqueous solution to perform liquid-liquid extraction. The insulating film-forming material has a low metal impurity content and is capable of forming a silica-based film having excellent relative dielectric constant characteristics and low leakage current characteristics.

摘要翻译： 一种绝缘膜形成材料的制造方法，其特征在于，将无机高分子化合物或有机高分子化合物溶解在20℃下在水中的溶解度为100g / 100cc以下的有机溶剂中，使溶液达到 与水或酸性水溶液接触以进行液 - 液萃取。 绝缘膜形成材料具有低的金属杂质含量，并且能够形成具有优异的相对介电常数特性和低泄漏电流特性的二氧化硅基膜。

公开(公告)号：US5478682A

公开(公告)日：1995-12-26

申请号：US248207

申请日：1994-05-24

申请人： Michinori Nishikawa ,  Masayuki Endoh ,  Yusuke Tsuda ,  Nobuo Bessho

发明人： Michinori Nishikawa ,  Masayuki Endoh ,  Yusuke Tsuda ,  Nobuo Bessho

IPC分类号： G02F1/1337

CPC分类号： G02F1/133753

摘要： A method for domain-dividing a liquid crystal alignment film, which comprises (1) applying a radiation-sensitive resin composition onto a liquid crystal alignment film aligned in one direction and formed on a substrate, (2) exposing the radiation-sensitive resin composition through a predetermined pattern, (3) carrying out a development with an aqueous solution containing 0.01 to 1.5% by weight of an alkaline compound to partially protect the liquid crystal alignment film, (4) aligning an exposed portion of the liquid crystal alignment film in another direction and (5) removing the radiation-sensitive resin composition; and a liquid crystal device having a liquid crystal display device with the domain-divided liquid crystal alignment film.

摘要翻译： 一种液晶取向膜的分割方法，其特征在于，包括：（1）将放射线敏感性树脂组合物涂布在一个方向上取向并形成在基板上的液晶取向膜上，（2）使所述放射线敏感性树脂组合物 通过预定图案，（3）用含有0.01〜1.5重量％碱性化合物的水溶液进行显影，以部分保护液晶取向膜，（4）将液晶取向膜的曝光部分 另一方向和（5）去除辐射敏感树脂组合物; 以及具有具有分域液晶取向膜的液晶显示装置的液晶装置。

公开(公告)号：US07320854B2

公开(公告)日：2008-01-22

申请号：US10874391

申请日：2004-06-24

申请人： Masaaki Hanamura ,  Michinori Nishikawa ,  Atsushi Kumano

发明人： Masaaki Hanamura ,  Michinori Nishikawa ,  Atsushi Kumano

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/029

CPC分类号： G02B1/045 ,  G02B1/04 ,  G02B6/02038 ,  G02B6/02138 ,  G02B6/1221 ,  G02B6/124 ,  G02B2006/12102 ,  G02B2006/12107 ,  G02B2006/12116 ,  G03F7/001 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/0757

摘要： There is provided a radiation sensitive refractive index changing composition containing an inorganic oxide particle, a polymerizable compound, a radiation sensitive decomposer and an escapable compound. The radiation sensitive decomposer decomposes upon exposure to radiation to form an acid, base or radical, and this decomposed product increases the molecular weight of the polymerizable compound.

摘要翻译： 提供了包含无机氧化物颗粒，可聚合化合物，辐射敏感分解剂和可避免化合物的辐射敏感性折射率变化组合物。 辐射敏感分解剂在暴露于辐射下分解形成酸，碱或自由基，并且该分解产物增加可聚合化合物的分子量。

公开(公告)号：US20050003218A1

公开(公告)日：2005-01-06

申请号：US10902008

申请日：2004-07-30

申请人： Michinori Nishikawa ,  Takashi Okada ,  Kinji Yamada

发明人： Michinori Nishikawa ,  Takashi Okada ,  Kinji Yamada

IPC分类号： H01L21/304 ,  B24B37/04 ,  C08L71/00 ,  C09D171/00 ,  H01L21/321 ,  H01L21/768 ,  B32B15/08

CPC分类号： B24B37/005 ,  B24B37/015 ,  B24B37/042 ,  C08L71/00 ,  C09D171/00 ,  H01L21/3212 ,  H01L21/76828 ,  H01L21/76829 ,  H01L21/76832 ,  H01L21/7684 ,  Y10T428/31692

摘要： A chemical mechanical polishing stopper film comprising at least one organic polymer, said film having a dielectric constant of 4 or lower, and a chemical mechanical polishing method. The chemical mechanical polishing method comprises forming a chemical mechanical polishing stopper film comprising at least one organic polymer on an insulating film so that the stopper film is interposed between the insulating film and a metal film to be removed by chemical mechanical polishing, and then removing the metal film with a chemical mechanical polishing slurry.

摘要翻译： 一种化学机械抛光阻挡膜，其包含至少一种有机聚合物，所述膜的介电常数为4或更低，以及化学机械抛光方法。 化学机械抛光方法包括在绝缘膜上形成包含至少一种有机聚合物的化学机械抛光阻挡膜，使得阻挡膜介于通过化学机械抛光除去的绝缘膜和金属膜之间，然后除去 金属薄膜与化学机械抛光浆料。

公开(公告)号：US06787193B2

公开(公告)日：2004-09-07

申请号：US10165324

申请日：2002-06-10

申请人： Eiji Hayashi ,  Atsushi Shiota ,  Michinori Nishikawa ,  Kinji Yamada

发明人： Eiji Hayashi ,  Atsushi Shiota ,  Michinori Nishikawa ,  Kinji Yamada

IPC分类号： B32B1800

CPC分类号： H01L21/02126 ,  C09D183/04 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02343 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/3122 ,  H01L21/31695 ,  Y02P20/544 ,  Y10T428/31663

摘要： A method for the formation of a silica film which comprises treating a film in a supercritical medium, the film comprising (A) a siloxane compound and (B) at least one member selected from the group consisting of (B-1) a compound compatible with or dispersible in ingredient (A) and having a boiling or decomposition temperature of from 150 to 500° C. and (B-2) a surfactant. The silica film has excellent mechanical strength showing a dielectric constant of generally 2.2 or lower, and hence is useful as a dielectric film in semiconductor devices and the like.

摘要翻译： 一种形成二氧化硅膜的方法，其包括在超临界介质中处理膜，所述膜包含（A）硅氧烷化合物和（B）选自（B-1）中的至少一种，与 具有或分散在成分（A）中，沸点或分解温度为150-500℃，和（B-2）表面活性剂。 该二氧化硅膜的机械强度优异，介电常数为2.2以下，因此可用作半导体装置等的电介质膜。