公开(公告)号：US20120328985A1

公开(公告)日：2012-12-27

申请号：US13524627

申请日：2012-06-15

申请人： Misugi KATO ,  Yoshimi Isono ,  Satoru Narizuka ,  Ryozo Takihana ,  Kazunori Mori

发明人： Misugi KATO ,  Yoshimi Isono ,  Satoru Narizuka ,  Ryozo Takihana ,  Kazunori Mori

IPC分类号： C08F228/04 ,  G03F7/20 ,  C08F228/02 ,  C07D209/48 ,  C07C381/12 ,  C07D333/76 ,  C07D333/08 ,  C07D207/46 ,  G03F7/004 ,  C07C309/12

CPC分类号： C08F20/38 ,  C07C25/18 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07D207/46 ,  C07D209/48 ,  C07D333/08 ,  C07D333/76 ,  C08F22/24 ,  C08F28/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397

摘要： According to the present invention, there are provided a fluorine-containing sulfonate salt resin or fluorine-containing sulfonate ester resin having a structure of the following general formula (A) and a fluorine-containing N-sulfonyloxyimide resin having a repeating unit of the general formula (17). It is possible obtain a resist composition using the above resin such that the resist composition can attain high resolution, wide DOF, small LER and high sensitivity and form a good pattern shape.

摘要翻译： 根据本发明，提供具有以下通式（A）的结构的含氟磺酸盐树脂或含氟磺酸酯树脂和具有一般重复单元的含氟N-磺酰氧基酰亚胺树脂 式（17）。 可以使用上述树脂获得抗蚀剂组合物，使得抗蚀剂组合物可以获得高分辨率，宽DOF，小LER和高灵敏度并形成良好的图案形状。

公开(公告)号：US09221928B2

公开(公告)日：2015-12-29

申请号：US13524627

申请日：2012-06-15

申请人： Misugi Kato ,  Yoshimi Isono ,  Satoru Narizuka ,  Ryozo Takihana ,  Kazunori Mori

发明人： Misugi Kato ,  Yoshimi Isono ,  Satoru Narizuka ,  Ryozo Takihana ,  Kazunori Mori

IPC分类号： C08F20/38 ,  C08F22/24 ,  C08F28/02 ,  C07C309/12 ,  G03F7/028 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  C07C381/12 ,  C07C25/18 ,  C07D333/08 ,  C07D333/76 ,  C07D207/46 ,  C07D209/48

CPC分类号： C08F20/38 ,  C07C25/18 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07D207/46 ,  C07D209/48 ,  C07D333/08 ,  C07D333/76 ,  C08F22/24 ,  C08F28/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397

摘要： A fluorine-containing sulfonate salt resin or fluorine-containing sulfonate ester resin having a structure of the following general formula (A) and a fluorine-containing N-sulfonyloxyimide resin having a repeating unit of the general formula (17). And a resist composition using the above resin such that the resist composition can attain high resolution, wide DOF, small LER and high sensitivity and form a good pattern shape.

摘要翻译： 具有以下通式（A）的结构的含氟磺酸盐树脂或含氟磺酸酯树脂和具有通式（17）的重复单元的含氟N-磺酰氧基酰亚胺树脂。 以及使用上述树脂的抗蚀剂组合物，使得抗蚀剂组合物可以获得高分辨率，宽DOF，小LER和高灵敏度并形成良好的图案形状。

公开(公告)号：US08592540B2

公开(公告)日：2013-11-26

申请号：US13141945

申请日：2009-12-15

申请人： Kazunori Mori ,  Yuji Hagiwara ,  Yoshimi Isono ,  Satoru Narizuka ,  Kazuhiko Maeda

发明人： Kazunori Mori ,  Yuji Hagiwara ,  Yoshimi Isono ,  Satoru Narizuka ,  Kazuhiko Maeda

IPC分类号： C08F18/20 ,  C08F20/22 ,  G03F7/004

CPC分类号： C07C235/08 ,  C07C235/06 ,  C08F20/22 ,  C08F220/36 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10T428/24802 ,  C08F220/28

摘要： There is disclosed a fluorine-containing polymer compound comprising a repeating unit (a) of the following general formula (2) and having a weight-average molecular weight of 1000 to 1000000 where R1 represents a polymerizable double bond-containing group; R2 represents a fluorine atom or a fluorine-containing alkyl group; R3 represents a hydrogen atom, an acid labile group, a cross-linking site or the other monovalent organic group; and W1 represents a linking moiety. When the fluorine-containing polymer compound is used in a resist compound for pattern formation by high energy radiation of 300 nm or less wavelength or electron beam radiation, it is possible to form a resist pattern with a good rectangular profile.

摘要翻译： 公开了含有下述通式（2）的重复单元（a），重均分子量为1000〜1000000的含氟高分子化合物，其中R1表示可聚合双键的基团; R2表示氟原子或含氟烷基; R3表示氢原子，酸不稳定基团，交联位点或其它单价有机基团; 而W1表示连接部分。 当通过300nm或更小的波长或电子束辐射的高能量辐射将含氟聚合物化合物用于形成图案的抗蚀剂化合物时，可以形成具有良好矩形轮廓的抗蚀剂图案。

公开(公告)号：US20120077126A1

公开(公告)日：2012-03-29

申请号：US13375026

申请日：2010-05-20

申请人： Kazunori Mori ,  Yuji Hagiwara ,  Masashi Nagamori ,  Yoshimi Isono ,  Satoru Narizuka ,  Kazuhiko Maeda

发明人： Kazunori Mori ,  Yuji Hagiwara ,  Masashi Nagamori ,  Yoshimi Isono ,  Satoru Narizuka ,  Kazuhiko Maeda

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C07C69/593 ,  C08K5/05 ,  C07C69/54 ,  C08F214/18 ,  C09D127/12

CPC分类号： C07C69/653 ,  C07C69/675 ,  C07C69/732 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/68 ,  C08F220/24 ,  C08F220/30 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： A fluorine-containing polymer of the present invention contains a repeating unit (a) of the general formula (2) and has a mass-average molecular weight of 1,000 to 1,000,000. This polymer is suitably used in a resist composition for pattern formation by high energy ray radiation of 300 nm or less wavelength or electron beam radiation or a top coat composition for liquid immersion lithography and is characterized as having high water repellency, notably high receding contact angle. In the formula, R1 represents a polymerizable double bond-containing group; R2 represents a fluorine atom or a fluorine-containing alkyl group; R8 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or the like; and W1 represents a single bond, a substituted or unsubstituted methylene group or the like.

摘要翻译： 本发明的含氟聚合物含有通式（2）的重复单元（a），其质均分子量为1,000〜1,000,000。 该聚合物适用于通过300nm或更小波长或电子束辐射的高能量射线辐射或用于液浸光刻的面漆组合物的图案形成用抗蚀剂组合物，其特征在于具有高的拒水性，特别是高后退接触角 。 在该式中，R 1表示含有可聚合双键的基团; R2表示氟原子或含氟烷基; R8表示取代或未取代的烷基等; W1表示单键，取代或未取代的亚甲基等。

公开(公告)号：US20120040294A1

公开(公告)日：2012-02-16

申请号：US13264285

申请日：2010-04-20

申请人： Kazuhiko Maeda ,  Takamasa Kitamoto ,  Haruhiko Komoriya ,  Satoru Narizuka ,  Yoshimi Isono ,  Kazunori Mori

发明人： Kazuhiko Maeda ,  Takamasa Kitamoto ,  Haruhiko Komoriya ,  Satoru Narizuka ,  Yoshimi Isono ,  Kazunori Mori

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08K5/05 ,  C09D135/02

CPC分类号： C08F20/22 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： Disclosed is a top coating composition formed on a resist film, for protecting the resist film, the top coating composition being a top coating composition for photoresist, characterized by containing a fluorine-containing polymer having a repeating unit represented by the following general formula (1). This composition is capable of controlling developing solution solubility and has a high water repellency. [In the formula, R1 represents a hydrogen atom, fluorine atom, methyl group or trifluoromethyl group, R2 represents a heat-labile protecting group, R3 represents a fluorine atom or fluorine-containing alkyl group, and W is a bivalent linking group.]

摘要翻译： 公开了一种形成在抗蚀剂膜上的用于保护抗蚀剂膜的顶部涂料组合物，该顶部涂料组合物是用于光致抗蚀剂的顶部涂料组合物，其特征在于含有具有由以下通式（1）表示的重复单元的含氟聚合物 ）。 该组合物能够控制显影溶液的溶解度并具有高斥水性。 [式中，R1表示氢原子，氟原子，甲基或三氟甲基，R2表示热不稳定保护基，R3表示氟原子或含氟烷基，W表示二价连接基。

公开(公告)号：US08663903B2

公开(公告)日：2014-03-04

申请号：US13264285

申请日：2010-04-20

申请人： Kazuhiko Maeda ,  Takamasa Kitamoto ,  Haruhiko Komoriya ,  Satoru Narizuka ,  Yoshimi Isono ,  Kazunori Mori

发明人： Kazuhiko Maeda ,  Takamasa Kitamoto ,  Haruhiko Komoriya ,  Satoru Narizuka ,  Yoshimi Isono ,  Kazunori Mori

IPC分类号： G03F7/11 ,  C08F20/22

CPC分类号： C08F20/22 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： Disclosed is a top coating composition formed on a resist film, for protecting the resist film, the top coating composition being a top coating composition for photoresist, characterized by containing a fluorine-containing polymer having a repeating unit represented by the following general formula (1). This composition is capable of controlling developing solution solubility and has a high water repellency. [In the formula, R1 represents a hydrogen atom, fluorine atom, methyl group or trifluoromethyl group, R2 represents a heat-labile protecting group, R3 represents a fluorine atom or fluorine-containing alkyl group, and W is a bivalent linking group.]

摘要翻译： 公开了一种形成在抗蚀剂膜上的用于保护抗蚀剂膜的顶部涂料组合物，该顶部涂料组合物是用于光致抗蚀剂的顶部涂料组合物，其特征在于含有具有由以下通式（1）表示的重复单元的含氟聚合物 ）。 该组合物能够控制显影溶液的溶解度并具有高斥水性。 [式中，R1表示氢原子，氟原子，甲基或三氟甲基，R2表示热不稳定保护基，R3表示氟原子或含氟烷基，W表示二价连接基。

公开(公告)号：US20120064459A1

公开(公告)日：2012-03-15

申请号：US13320871

申请日：2010-05-14

申请人： Kazuhiko Maeda ,  Takamasa Kitamoto ,  Haruhiko Komoriya ,  Satoru Narizuka ,  Yoshimi Isono ,  Kazunori Mori

发明人： Kazuhiko Maeda ,  Takamasa Kitamoto ,  Haruhiko Komoriya ,  Satoru Narizuka ,  Yoshimi Isono ,  Kazunori Mori

IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F20/22 ,  G03F7/38

CPC分类号： G03F7/20 ,  C08F20/26 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： Disclosed is a water repellent additive for an immersion resist, which is composed of a fluorine-containing polymer that has a repeating unit represented by general formula (1). By adding the water repellent additive to a resist composition, the resist composition can be controlled to have high water repellency during exposure and to exhibit improved solubility in a developing solution during development. [In the formula, R1 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group; R2 represents a heat-labile protecting group; R3 represents a fluorine atom or a fluorine-containing alkyl group; and W represents a divalent linking group.]

摘要翻译： 公开了一种浸渍抗蚀剂的防水添加剂，其由具有由通式（1）表示的重复单元的含氟聚合物组成。 通过将防水添加剂添加到抗蚀剂组合物中，可以将抗蚀剂组合物控制为在曝光期间具有高的拒水性，并且在显影期间在显影液中表现出改善的溶解性。 [式中，R 1表示氢原子，氟原子，甲基或三氟甲基。 R2代表热不稳定保护基; R3表示氟原子或含氟烷基; W表示二价连接基。]

公开(公告)号：US08686098B2

公开(公告)日：2014-04-01

申请号：US13375026

申请日：2010-05-20

申请人： Kazunori Mori ,  Yuji Hagiwara ,  Masashi Nagamori ,  Yoshimi Isono ,  Satoru Narizuka ,  Kazuhiko Maeda

发明人： Kazunori Mori ,  Yuji Hagiwara ,  Masashi Nagamori ,  Yoshimi Isono ,  Satoru Narizuka ,  Kazuhiko Maeda

IPC分类号： C08F12/20 ,  C08F216/12 ,  C07C69/34 ,  G03F7/004 ,  G03F7/40

CPC分类号： C07C69/653 ,  C07C69/675 ,  C07C69/732 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/68 ,  C08F220/24 ,  C08F220/30 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： A fluorine-containing polymer of the present invention contains a repeating unit (a) of the general formula (2) and has a mass-average molecular weight of 1,000 to 1,000,000. This polymer is suitably used in a resist composition for pattern formation by high energy ray radiation of 300 nm or less wavelength or electron beam radiation or a top coat composition for liquid immersion lithography and is characterized as having high water repellency, notably high receding contact angle. In the formula, R1 represents a polymerizable double bond-containing group; R2 represents a fluorine atom or a fluorine-containing alkyl group; R8 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or the like; and W1 represents a single bond, a substituted or unsubstituted methylene group or the like.

摘要翻译： 本发明的含氟聚合物含有通式（2）的重复单元（a），其质均分子量为1,000〜1,000,000。 该聚合物适用于通过300nm或更小波长或电子束辐射的高能量射线辐射或用于液浸光刻的面漆组合物的图案形成用抗蚀剂组合物，其特征在于具有高的拒水性，特别是高后退接触角 。 在该式中，R 1表示含有可聚合双键的基团; R2表示氟原子或含氟烷基; R8表示取代或未取代的烷基等; W1表示单键，取代或未取代的亚甲基等。

公开(公告)号：US20110318542A1

公开(公告)日：2011-12-29

申请号：US13141945

申请日：2009-12-15

申请人： Kazunori Mori ,  Yuji Hagiwara ,  Yoshimi Isono ,  Satoru Narizuka ,  Kazuhiko Maeda

发明人： Kazunori Mori ,  Yuji Hagiwara ,  Yoshimi Isono ,  Satoru Narizuka ,  Kazuhiko Maeda

IPC分类号： B32B3/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C07C229/30 ,  C08F220/22

CPC分类号： C07C235/08 ,  C07C235/06 ,  C08F20/22 ,  C08F220/36 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10T428/24802 ,  C08F220/28

摘要： There is disclosed a fluorine-containing polymer compound comprising a repeating unit (a) of the following general formula (2) and having a weight-average molecular weight of 1000 to 1000000 where R1 represents a polymerizable double bond-containing group; R2 represents a fluorine atom or a fluorine-containing alkyl group; R3 represents a hydrogen atom, an acid labile group, a cross-linking site or the other monovalent organic group; and W1 represents a linking moiety.When the fluorine-containing polymer compound is used in a resist compound for pattern formation by high energy radiation of 300 nm or less wavelength or electron beam radiation, it is possible to form a resist pattern with a good rectangular profile.

摘要翻译： 公开了含有下述通式（2）的重复单元（a），重均分子量为1000〜1000000的含氟高分子化合物，其中R1表示可聚合双键的基团; R2表示氟原子或含氟烷基; R3表示氢原子，酸不稳定基团，交联位点或其它单价有机基团; 而W1表示连接部分。 当通过300nm或更小的波长或电子束辐射的高能量辐射将含氟聚合物化合物用于形成图案的抗蚀剂化合物时，可以形成具有良好矩形轮廓的抗蚀剂图案。

公开(公告)号：US20110112306A1

公开(公告)日：2011-05-12

申请号：US13000643

申请日：2009-07-06

申请人： Masashi Nagamori ,  Masaki Fujiwara ,  Kazunori Mori ,  Satoru Narizuka

发明人： Masashi Nagamori ,  Masaki Fujiwara ,  Kazunori Mori ,  Satoru Narizuka

IPC分类号： C07C309/03 ,  C07D209/76

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C25/18 ,  C07C303/22 ,  C07C309/12 ,  C07C309/82 ,  C07C2603/74 ,  C07D209/76 ,  C07D311/78 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： A fluorine-containing sulfonic acid salt or a compound having a fluorine-containing sulfonic acid group, either of which having a structure represented by the following general formula (1), is provided. Such a salt or compound can act as a suitable photo-acid generator, and can form a resist pattern having excellent sensitivity, resolution and mask-dependence. [In general formula (1), R represents a substituted or unsubstituted linear or branched monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms and a cyclic or a partially cyclic structure, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted monovalent heterocyclic organic group having 4 to 30 carbon atoms.]

摘要翻译： 提供含氟磺酸盐或具有含氟磺酸基的化合物，其具有由以下通式（1）表示的结构。 这样的盐或化合物可以用作合适的光酸发生剂，并且可以形成具有优异的灵敏度，分辨率和掩模依赖性的抗蚀剂图案。 [通式（1）中，R表示取代或未取代的碳原子数1〜30的直链或支链一价烃基，取代或未取代的碳原子数3〜30的一价烃基和环状或部分环状结构， 取代或未取代的碳原子数为6〜30的芳基，取代或未取代的碳原子数为4〜30的1价杂环有机基。