公开(公告)号：US20140227809A1

公开(公告)日：2014-08-14

申请号：US13963662

申请日：2013-08-09

申请人： Myung-Soo Huh ,  Cheol-Lae Roh ,  Seung-Ho Choi

发明人： Myung-Soo Huh ,  Cheol-Lae Roh ,  Seung-Ho Choi

IPC分类号： H01L51/52

CPC分类号： H01L51/5206 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/086 ,  C23C14/5806 ,  H01L51/5221 ,  H01L51/5256 ,  H01L2251/5369

摘要： A method of forming nanocrystals and a method of manufacturing an organic light-emitting display apparatus that includes a metal compound thin film having the nanocrystals. The method of forming nanocrystals includes forming a metal compound thin film under a first pressure by using a reactive sputtering process, and forming the nanocrystals in the metal compound thin film under a second pressure that is lower than the first pressure by using the reactive sputtering process.

摘要翻译： 一种形成纳米晶体的方法和一种制造包括具有纳米晶体的金属化合物薄膜的有机发光显示装置的方法。 形成纳米晶体的方法包括通过使用反应溅射工艺在第一压力下形成金属化合物薄膜，并且通过使用反应性溅射工艺在低于第一压力的第二压力下在金属化合物薄膜中形成纳米晶体 。

公开(公告)号：US20110146575A1

公开(公告)日：2011-06-23

申请号：US12972369

申请日：2010-12-17

申请人： Seung-Ho Choi ,  Suk-Won Jung ,  Seung-Ho Myoung ,  Cheol-Lae Roh

发明人： Seung-Ho Choi ,  Suk-Won Jung ,  Seung-Ho Myoung ,  Cheol-Lae Roh

IPC分类号： C23C16/04 ,  C23C16/448 ,  C23C16/00 ,  C23C16/44

CPC分类号： H01L51/0008 ,  C23C14/243 ,  H01L51/56

摘要： An evaporation source is disclosed. In one embodiment, the evaporation source includes: i) a crucible being open on one side thereof and configured to store a deposition material and ii) a nozzle section located on the open side of the crucible and comprising a plurality of nozzles, wherein each of the nozzles has a sidewall configured to spray the deposition material therethrough, wherein the side wall has an inclined portion. The evaporation source also includes i) a heater configured to heat the crucible and ii) a housing configured to accommodate the crucible, the nozzle section, and the heater, wherein the nozzle section has a maximum spray angle less than about 60°.

摘要翻译： 公开了一种蒸发源。 在一个实施例中，蒸发源包括：i）坩埚在其一侧开口并构造成存储沉积材料，以及ii）位于坩埚敞开侧的喷嘴部分，并且包括多个喷嘴， 喷嘴具有被配置为通过其喷射沉积材料的侧壁，其中侧壁具有倾斜部分。 蒸发源还包括i）加热器，其被配置为加热坩埚，以及ii）构造成容纳坩埚，喷嘴部分和加热器的壳体，其中喷嘴部分具有小于约60°的最大喷射角度。

公开(公告)号：US09259805B2

公开(公告)日：2016-02-16

申请号：US12964706

申请日：2010-12-09

申请人： Joon-Hyung Kim ,  Young-Geun Cho ,  Eui-Shin Shin ,  Jong-Heon Kim ,  Seung-Ho Choi ,  Cheol-Lae Roh ,  Chang-Mog Jo ,  Jae-Seok Park

发明人： Joon-Hyung Kim ,  Young-Geun Cho ,  Eui-Shin Shin ,  Jong-Heon Kim ,  Seung-Ho Choi ,  Cheol-Lae Roh ,  Chang-Mog Jo ,  Jae-Seok Park

IPC分类号： B32B37/04 ,  B05C11/11 ,  B23K26/30 ,  B23K26/03 ,  B23K26/06 ,  H01L51/00

CPC分类号： B23K26/402 ,  B23K26/032 ,  B23K26/066 ,  B23K26/0661 ,  B23K26/702 ,  B23K2103/50 ,  H01L51/0011

摘要： Provided is a mask for an evaporation apparatus, which includes a first division mask and a second division mask. The first and second division masks are directly bonded to each other by welding, thereby forming welding portion between the first and the second division masks. A method and apparatus for manufacturing a mask for evaporation are also provided. The division masks according to the embodiment do not use subframes, and are directly bonded to one another by welding, so that a shadow effect does not occur. The apparatus for manufacturing a mask for evaporation includes a work stage, a clamp fixing a first division mask and a second division mask to the work stage, and a laser welding part welding the first division mask to the second division mask. The apparatus may further include a first roller leading the laser welding part and a second roller following the laser welding part.

摘要翻译： 提供了一种用于蒸发装置的掩模，其包括第一分隔掩模和第二分隔掩模。 第一和第二分割掩模通过焊接直接接合，从而在第一和第二分隔掩模之间形成焊接部分。 还提供了用于制造用于蒸发的掩模的方法和装置。 根据本实施例的分割掩模不使用子帧，并且通过焊接直接接合，从而不发生阴影效应。 用于制造用于蒸发的掩模的装置包括工作台，将第一分区掩模固定到工作台的夹具和将第一分隔掩模焊接到第二分隔掩模的激光焊接部。 该装置还可以包括引导激光焊接部的第一辊和跟随激光焊接部的第二辊。

公开(公告)号：US20110139365A1

公开(公告)日：2011-06-16

申请号：US12964706

申请日：2010-12-09

申请人： Joon-Hyung Kim ,  Young-Geun Cho ,  Eui-Shin Shin ,  Jong-Heon Kim ,  Seung-Ho Choi ,  Cheol-Lae Roh ,  Chang-Mog Jo ,  Jae-Seok Park

发明人： Joon-Hyung Kim ,  Young-Geun Cho ,  Eui-Shin Shin ,  Jong-Heon Kim ,  Seung-Ho Choi ,  Cheol-Lae Roh ,  Chang-Mog Jo ,  Jae-Seok Park

IPC分类号： B32B37/04 ,  B05C11/11

CPC分类号： B23K26/402 ,  B23K26/032 ,  B23K26/066 ,  B23K26/0661 ,  B23K26/702 ,  B23K2103/50 ,  H01L51/0011

摘要： Provided is a mask for an evaporation apparatus, which includes a first division mask and a second division mask. The first and second division masks are directly bonded to each other by welding, thereby forming welding portion between the first and the second division masks. A method and apparatus for manufacturing a mask for evaporation are also provided. The division masks according to the embodiment do not use subframes, and are directly bonded to one another by welding, so that a shadow effect does not occur. The apparatus for manufacturing a mask for evaporation includes a work stage, a clamp fixing a first division mask and a second division mask to the work stage, and a laser welding part welding the first division mask to the second division mask. The apparatus may further include a first roller leading the laser welding part and a second roller following the laser welding part.

摘要翻译： 提供了一种用于蒸发装置的掩模，其包括第一分隔掩模和第二分隔掩模。 第一和第二分割掩模通过焊接直接接合，从而在第一和第二分隔掩模之间形成焊接部分。 还提供了用于制造用于蒸发的掩模的方法和装置。 根据本实施例的分割掩模不使用子帧，并且通过焊接直接接合，从而不发生阴影效应。 用于制造用于蒸发的掩模的装置包括工作台，将第一分区掩模固定到工作台的夹具和将第一分隔掩模焊接到第二分隔掩模的激光焊接部。 该装置还可以包括引导激光焊接部的第一辊和跟随激光焊接部的第二辊。

公开(公告)号：US20110129595A1

公开(公告)日：2011-06-02

申请号：US12926587

申请日：2010-11-29

申请人： Suk-Won Jung ,  Seung-Ho Choi ,  Kang-Il Lee ,  Hyun-Keun Song ,  Cheol-Lae Roh

发明人： Suk-Won Jung ,  Seung-Ho Choi ,  Kang-Il Lee ,  Hyun-Keun Song ,  Cheol-Lae Roh

IPC分类号： C23C16/448 ,  C23C16/04 ,  B05D5/12

CPC分类号： C23C14/243 ,  C23C14/24 ,  H01L51/001 ,  H01L51/56

摘要： A deposition source includes a first deposition source section, the first deposition source section being configured to store a deposition material, a second deposition source section, the second deposition source section being separate from the first deposition source section and being configured to store the deposition material, the first and second deposition source sections being configured to alternately supply the deposition material while heating or cooling the deposition material, a feed section configured to receive evaporated deposition material from the first and second deposition source sections, and a nozzle section configured to receive the deposition material from the feed section.

摘要翻译： 沉积源包括第一沉积源部分，第一沉积源部分被配置为存储沉积材料，第二沉积源部分，第二沉积源部分与第一沉积源部分分离，并被配置为存储沉积材料 第一和第二沉积源部分被配置为在加热或冷却沉积材料的同时交替地供应沉积材料;构造成从第一和第二沉积源部分接收蒸发的沉积材料的进料部分和被配置成接收 来自进料部分的沉积材料。

公开(公告)号：US08986783B2

公开(公告)日：2015-03-24

申请号：US12926587

申请日：2010-11-29

申请人： Suk-Won Jung ,  Seung-Ho Choi ,  Kang-Il Lee ,  Hyun-Keun Song ,  Cheol-Lae Roh

发明人： Suk-Won Jung ,  Seung-Ho Choi ,  Kang-Il Lee ,  Hyun-Keun Song ,  Cheol-Lae Roh

IPC分类号： C23C16/448 ,  C23C14/24 ,  H01L51/00 ,  H01L51/56

CPC分类号： C23C14/243 ,  C23C14/24 ,  H01L51/001 ,  H01L51/56

摘要： A method of depositing a material on a substrate is provided for use in manufacturing electronic and display devices such as semiconductors, liquid crystal displays, and organic light emitting diode displays. A deposition material stored in a first deposition source section is heated to evaporate the deposition material. A second deposition source section, which is separate from the first deposition source section, is cooled. The first deposition source section is cooled, and deposition material stored in a second deposition source section is heated so as to alternately supply evaporated deposition material from the first and second deposition source sections to a feed section. The evaporated deposition material from the feed section is supplied to a nozzle section. A substrate can be provided to receive the evaporated deposition material from the nozzle section. A thin film of deposition material can then be formed on the substrate.

摘要翻译： 提供了一种在衬底上沉积材料的方法，用于制造诸如半导体，液晶显示器和有机发光二极管显示器的电子和显示装置。 存储在第一沉积源部分中的沉积材料被加热以蒸发沉积材料。 与第一沉积源部分分开的第二沉积源部分被冷却。 第一沉积源部分被冷却，并且存储在第二沉积源部分中的沉积材料被加热，从而将蒸发的沉积材料从第一和第二沉积源部分交替地供应到进料部分。 来自进料部分的蒸发的沉积材料被供应到喷嘴部分。 可以提供衬底以从喷嘴部分接收蒸发的沉积材料。 然后可以在衬底上形成沉积材料的薄膜。

公开(公告)号：US07622071B2

公开(公告)日：2009-11-24

申请号：US11575525

申请日：2005-10-18

申请人： Kwang-Hee Lee ,  Sung-Kee Shin ,  Min-Chul Park ,  Sang-Hoon Joo ,  Deuk-Chae Kim ,  Soo-Young Bang ,  Kwang-Soo Choi ,  Il-Hyun Cho ,  Seung-Ho Choi ,  Myung-Sik Kim ,  Chong-Won Choi

发明人： Kwang-Hee Lee ,  Sung-Kee Shin ,  Min-Chul Park ,  Sang-Hoon Joo ,  Deuk-Chae Kim ,  Soo-Young Bang ,  Kwang-Soo Choi ,  Il-Hyun Cho ,  Seung-Ho Choi ,  Myung-Sik Kim ,  Chong-Won Choi

IPC分类号： C22B1/24

CPC分类号： B30B11/16 ,  B30B15/308 ,  C21B13/0086 ,  C22B1/248 ,  Y02P10/136

摘要： The present invention relates to an apparatus for manufacturing compacted irons of the reduced materials containing fine reduce irons and an apparatus for manufacturing molten irons provided with the same. The apparatus for manufacturing compacted irons according to the present invention includes a couple of rollers for compacting reduced materials containing fine reduced irons and manufacturing compacted irons, a guide chute for guiding compacted irons which are discharged from the couple of rollers; and crushers for crushing compacted irons which are guided into the guide chute. A guiding surface of the guide chute, which guides the compacted irons, includes a straight slanted surface and a curved slanted surface.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于制造含有精细还原铁的还原材料的压制铁的装置和一种用于制造设置有这种熨斗的铁水的装置。 根据本发明的用于制造压实铁的装置包括一对辊，用于压缩含有精细还原铁的还原材料和制造压实的熨斗;导向滑槽，用于引导从一对辊排出的压实的熨斗; 用于破碎导入滑槽的压实铁的破碎机。 导向滑槽的引导表面，其引导压实的熨斗，包括直的倾斜表面和弯曲的倾斜表面。

公开(公告)号：US20080046849A1

公开(公告)日：2008-02-21

申请号：US11839206

申请日：2007-08-15

申请人： Seung-Ho Choi

发明人： Seung-Ho Choi

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06F17/5068

摘要： A method for changing physical layout data using a virtual layer is provided. The method codes a target design and synthesizes a logic for it. It may generate a virtual layer, places logic blocks at positions and route them for connection to execution elements. Wiring resistance or capacitance values may be extracted. A timing check may be performed and crosstalk may be analyzed for physical implementation. Interconnections and wirings of transistors may be checked for correspondence with the circuit. Wiring spaces and gate lengths may be checked for compliance with preset specifications. A mask based on the virtual layer may be produced. Thus, the virtual layer is generated by software prior to physical verification when physical layout data is changed, which allows use of LVS/DRC suitable for a fab in which actual processes are performed, achieving reliable physical verification.

摘要翻译： 提供了使用虚拟层来改变物理布局数据的方法。 该方法对目标设计进行编码并合成逻辑。 它可以生成虚拟层，将逻辑块放置在位置，并将它们路由到连接到执行元素。 可以提取接线电阻或电容值。 可以执行定时检查，并且可以分析串扰以进行物理实现。 可以检查晶体管的互连和布线与电路的对应关系。 可以检查接线间距和门长度是否符合预设规格。 可以产生基于虚拟层的掩码。 因此，当物理布局数据被改变时，虚拟层由物理验证之前的软件产生，这允许使用适合于执行实际处理的晶圆厂的LVS / DRC，实现可靠的物理验证。

公开(公告)号：US08802488B2

公开(公告)日：2014-08-12

申请号：US13179350

申请日：2011-07-08

申请人： Jeong-Ho Yi ,  Suk-Won Jung ,  Seung-Ho Choi

发明人： Jeong-Ho Yi ,  Suk-Won Jung ,  Seung-Ho Choi

IPC分类号： H01L51/40 ,  C23C16/00

CPC分类号： H01L21/67184 ,  C23C14/50 ,  C23C14/566 ,  C23C14/568 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67748

摘要： A substrate depositing system and a method of using a substrate depositing system. A substrate depositing system includes a load-lock chamber for loading and unloading a substrate, at least one transfer chamber connected to the load-lock chamber and including a substrate transfer device configured to vertically transfer the substrate, and a pair of depositing chambers connected to opposite sides of the at least one transfer chamber and including a depositing source and a pair of substrate fixing devices, the substrate transfer device including a pair of substrate installing members.

摘要翻译： 衬底沉积系统和使用衬底沉​​积系统的方法。 衬底沉积系统包括用于装载和卸载衬底的加载锁定室，连接到加载锁定室的至少一个传送室，并且包括被配置为垂直传送衬底的衬底传送装置，以及连接到 所述至少一个传送室的相对侧并且包括沉积源和一对基板固定装置，所述基板传送装置包括一对基板安装构件。

公开(公告)号：US08778115B2

公开(公告)日：2014-07-15

申请号：US12969365

申请日：2010-12-15

申请人： Choong-Ho Lee ,  Yoon-Chan Oh ,  Seung-Ho Choi ,  Suk-Won Jung ,  Jung-Soo Rhee

发明人： Choong-Ho Lee ,  Yoon-Chan Oh ,  Seung-Ho Choi ,  Suk-Won Jung ,  Jung-Soo Rhee

IPC分类号： B29C65/78

CPC分类号： C23C14/042 ,  B23K26/0846 ,  H01L51/56

摘要： A method of efficiently manufacturing a large-sized mask is disclosed. In one embodiment, the method includes: 1) providing a first mask member comprising i) a first pattern unit having a plurality of slits, ii) a first buffer unit spaced apart from the first pattern unit, and iii) a first bonding unit interconnecting the first pattern unit and the first buffer unit and 2) providing a second mask member comprising i) a second pattern unit having a plurality of slits, ii) a second buffer unit spaced apart from the second pattern unit, and iii) a second bonding unit interconnecting the second pattern unit and the second buffer unit. The method may further include contacting the first bonding unit and the second bonding unit; and connecting the first mask member to the second mask member while tensile forces are applied to the first mask member and the second mask member.

摘要翻译： 公开了一种有效地制造大尺寸掩模的方法。 在一个实施例中，该方法包括：1）提供第一掩模构件，其包括i）具有多个狭缝的第一图案单元，ii）与第一图案单元间隔开的第一缓冲单元，以及iii） 第一图案单元和第一缓冲单元，以及2）提供第二掩模构件，其包括i）具有多个狭缝的第二图案单元，ii）与第二图案单元间隔开的第二缓冲单元，以及iii）第二粘合 将第二图案单元和第二缓冲单元互连的单元。 该方法还可以包括使第一接合单元和第二接合单元接触; 以及当所述第一掩模构件和所述第二掩模构件施加张力时，将所述第一掩模构件连接到所述第二掩模构件。