公开(公告)号：US09632435B2

公开(公告)日：2017-04-25

申请号：US13046211

申请日：2011-03-11

申请人： Nicolaas Ten Kate ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Joost Jeroen Ottens ,  Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus Knarren ,  Thibault Simon Mathieu Laurent ,  Robbert Jan Voogd ,  Giovanni Francisco Nino ,  Johan Gertrudis Cornelis Kunnen ,  Marinus Jan Remie

发明人： Nicolaas Ten Kate ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Joost Jeroen Ottens ,  Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus Knarren ,  Thibault Simon Mathieu Laurent ,  Robbert Jan Voogd ,  Giovanni Francisco Nino ,  Johan Gertrudis Cornelis Kunnen ,  Marinus Jan Remie

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/58 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/7085

摘要： A lithographic apparatus is disclosed that includes a substrate table configured to support a substrate on a substrate supporting area and a heater and/or temperature sensor on a surface adjacent the substrate supporting area.

公开(公告)号：US10551752B2

公开(公告)日：2020-02-04

申请号：US13046283

申请日：2011-03-11

申请人： Nicolaas Ten Kate ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Joost Jeroen Ottens ,  Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus Knarren ,  Thibault Simon Mathieu Laurent ,  Robbert Jan Voogd ,  Giovanni Francisco Nino ,  Johan Gertrudis Cornelis Kunnen ,  Marinus Jan Remie

发明人： Nicolaas Ten Kate ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Joost Jeroen Ottens ,  Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus Knarren ,  Thibault Simon Mathieu Laurent ,  Robbert Jan Voogd ,  Giovanni Francisco Nino ,  Johan Gertrudis Cornelis Kunnen ,  Marinus Jan Remie

IPC分类号： G03F7/20

摘要： A lithographic apparatus is disclosed that includes a substrate table configured to support a substrate on a substrate supporting area and a heater and/or temperature sensor on a surface adjacent the substrate supporting area.

公开(公告)号：US20110222033A1

公开(公告)日：2011-09-15

申请号：US13046283

申请日：2011-03-11

申请人： Nicolaas Ten Kate ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Joost Jeroen Ottens ,  Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus Knarren ,  Thibault Simon Mathieu Laurent ,  Robbert Jan Voogd ,  Giovanni Francisco Nino ,  Johan Gertrudis Cornelis Kunnen ,  Marinus Jan Remie

发明人： Nicolaas Ten Kate ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Joost Jeroen Ottens ,  Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus Knarren ,  Thibault Simon Mathieu Laurent ,  Robbert Jan Voogd ,  Giovanni Francisco Nino ,  Johan Gertrudis Cornelis Kunnen ,  Marinus Jan Remie

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/7085

摘要： A lithographic apparatus is disclosed that includes a substrate table configured to support a substrate on a substrate supporting area and a heater and/or temperature sensor on a surface adjacent the substrate supporting area.

公开(公告)号：US09298107B2

公开(公告)日：2016-03-29

申请号：US13183220

申请日：2011-07-14

申请人： Thibault Simon Mathieu Laurent ,  Gerardus Adrianus Antonius Maria Kusters ,  Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus Knarren ,  Raymond Wilhelmus Louis Lafarre ,  Koen Steffens ,  Takeshi Kaneko ,  Robbert Jan Voogd ,  Gregory Martin Mason Corcoran ,  Ruud Hendrikus Martinus Johannes Bloks ,  Johan Gertrudis Cornelis Kunnen ,  Ramin Badie

发明人： Thibault Simon Mathieu Laurent ,  Gerardus Adrianus Antonius Maria Kusters ,  Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus Knarren ,  Raymond Wilhelmus Louis Lafarre ,  Koen Steffens ,  Takeshi Kaneko ,  Robbert Jan Voogd ,  Gregory Martin Mason Corcoran ,  Ruud Hendrikus Martinus Johannes Bloks ,  Johan Gertrudis Cornelis Kunnen ,  Ramin Badie

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70483 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70875

摘要： A substrate table to support a substrate on a substrate supporting area, the substrate table having a heat transfer fluid channel at least under the substrate supporting area, and a plurality of heaters and/or coolers to thermally control the heat transfer fluid in the channel at a location under the substrate supporting area.

摘要翻译： 一种用于支撑衬底支撑区域上的衬底的衬底台，所述衬底台具有至少在衬底支撑区域下方的传热流体通道，以及多个加热器和/或冷却器，以热控制通道中的传热流体 位于基板支撑区域下方的位置。

公开(公告)号：US20120013865A1

公开(公告)日：2012-01-19

申请号：US13183220

申请日：2011-07-14

申请人： Thibault Simon Mathieu LAURENT ,  Gerardus Adrianus Antonius Maria Kusters ,  Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus Knarren ,  Raymond Wilhelmus Louis Lafarre ,  Koen Steffens ,  Takeshi Kaneko ,  Robbert Jan Voogd ,  Gregory Martin Mason Corcoran ,  Ruud Hendricus Martinus Johannes Bloks ,  Johan Gertrudis Cornelis Kunnen ,  Ramin Badie

发明人： Thibault Simon Mathieu LAURENT ,  Gerardus Adrianus Antonius Maria Kusters ,  Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus Knarren ,  Raymond Wilhelmus Louis Lafarre ,  Koen Steffens ,  Takeshi Kaneko ,  Robbert Jan Voogd ,  Gregory Martin Mason Corcoran ,  Ruud Hendricus Martinus Johannes Bloks ,  Johan Gertrudis Cornelis Kunnen ,  Ramin Badie

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70483 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70875

摘要： A substrate table to support a substrate on a substrate supporting area, the substrate table having a heat transfer fluid channel at least under the substrate supporting area, and a plurality of heaters and/or coolers to thermally control the heat transfer fluid in the channel at a location under the substrate supporting area.

摘要翻译： 一种用于支撑衬底支撑区域上的衬底的衬底台，所述衬底台具有至少在衬底支撑区域下方的传热流体通道，以及多个加热器和/或冷却器，以热控制通道中的传热流体 位于基板支撑区域下方的位置。

公开(公告)号：US08817228B2

公开(公告)日：2014-08-26

申请号：US12750337

申请日：2010-03-30

申请人： Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus Knarren ,  Raymond Turk ,  Allard Eelco Kooiker ,  Nico Antonius Hubertus Johannes Boonen

发明人： Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus Knarren ,  Raymond Turk ,  Allard Eelco Kooiker ,  Nico Antonius Hubertus Johannes Boonen

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70858 ,  H01L21/67109

摘要： A cooling arrangement is described and includes a heat sink having a first thermal contact surface, an object having a second thermal contact surface and a resilient wall. The first thermal contact surface and the second thermal contact surface face each other and define a gap. The resilient wall is part of an enclosure that surrounds a space at least comprising the gap, and the cooling arrangement includes a facility to maintain a pressure difference between the space and an environment of the cooling arrangement. Additionally, a lithographic apparatus comprising such a cooling arrangement is described.

摘要翻译： 描述了冷却装置，并且包括具有第一热接触表面的散热器，具有第二热接触表面的物体和弹性壁。 第一热接触表面和第二热接触表面彼此面对并限定间隙。 弹性壁是围绕至少包括间隙的空间的外壳的一部分，并且冷却装置包括维持空间与冷却装置的环境之间的压力差的设备。 另外，描述了包括这种冷却装置的光刻设备。

公开(公告)号：US20120075607A1

公开(公告)日：2012-03-29

申请号：US13259969

申请日：2010-02-16

申请人： Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus Knarren ,  Raymond Turk ,  Allard Eelco Kooiker

发明人： Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus Knarren ,  Raymond Turk ,  Allard Eelco Kooiker

IPC分类号： G03B27/54 ,  H01J7/24 ,  H01J40/14

CPC分类号： G03F7/70858 ,  G03F7/706 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/7085

摘要： A detector module (20) is described that includes at least one detector (30) for sensing photon radiation, an electronic circuit (40) coupled to the at least one detector (30), and a housing (50) having a first and a second body (60, 70), each having a bottom part (62, 72) and an at least partially cylindrical part (64, 74) extending from the bottom part (62, 72), wherein the at least partially cylindrical part (64) of the first body (60) is thermally coupled with the at least partially cylindrical part (74) of the second body (70), wherein the at least partially cylindrical part (64) of the first body (60) extends towards the bottom part (72) of the second body (70), and wherein the electronic circuit (40) is arranged inside the housing (50). A lithographic apparatus including the detector module (20) is also described.

摘要翻译： 描述了检测器模块（20），其包括用于感测光子辐射的至少一个检测器（30），耦合到所述至少一个检测器（30）的电子电路（40）和具有第一和第二检测器 第二主体（60,70），每个具有底部部分（62,72）和从底部部分（62,72）延伸的至少部分圆柱形部分（64,74），其中至少部分圆柱形部分（64,74） 第一主体（60）的至少部分圆柱形部分（64）与第二主体（70）的至少部分圆柱形部分（74）热耦合，其中第一主体（60）的至少部分圆柱形部分（64）朝向底部 第二主体（70）的部分（72），并且其中电子电路（40）布置在壳体（50）内。 还描述了包括检测器模块（20）的光刻设备。

公开(公告)号：US09081309B2

公开(公告)日：2015-07-14

申请号：US13259969

申请日：2010-02-16

申请人： Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus Knarren ,  Raymond Turk ,  Allard Eelco Kooiker

发明人： Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus Knarren ,  Raymond Turk ,  Allard Eelco Kooiker

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70858 ,  G03F7/706 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/7085

摘要： A detector module (20) is described that includes at least one detector (30) for sensing photon radiation, an electronic circuit (40) coupled to the at least one detector (30), and a housing (50) having a first and a second body (60, 70), each having a bottom part (62, 72) and an at least partially cylindrical part (64, 74) extending from the bottom part (62, 72), wherein the at least partially cylindrical part (64) of the first body (60) is thermally coupled with the at least partially cylindrical part (74) of the second body (70), wherein the at least partially cylindrical part (64) of the first body (60) extends towards the bottom part (72) of the second body (70), and wherein the electronic circuit (40) is arranged inside the housing (50). A lithographic apparatus including the detector module (20) is also described.

摘要翻译： 描述了检测器模块（20），其包括用于感测光子辐射的至少一个检测器（30），耦合到所述至少一个检测器（30）的电子电路（40）和具有第一和第二检测器 第二主体（60,70），每个具有底部部分（62,72）和从底部部分（62,72）延伸的至少部分圆柱形部分（64,74），其中至少部分圆柱形部分（64,74） 第一主体（60）的至少部分圆柱形部分（64）与第二主体（70）的至少部分圆柱形部分（74）热耦合，其中第一主体（60）的至少部分圆柱形部分（64）朝向底部 第二主体（70）的部分（72），并且其中电子电路（40）布置在壳体（50）内。 还描述了包括检测器模块（20）的光刻设备。