公开(公告)号：US5272042A

公开(公告)日：1993-12-21

申请号：US761183

申请日：1991-09-17

申请人： Robert D. Allen ,  William R. Brunsvold ,  Burton J. Carpenter ,  William D. Hinsberg ,  Joseph LaTorre ,  Michael G. McMaster ,  Melvin W. Montgomery ,  Wayne M. Moreau ,  Logan L. Simpson ,  Robert J. Tweig ,  Gregory M. Wallraff

发明人： Robert D. Allen ,  William R. Brunsvold ,  Burton J. Carpenter ,  William D. Hinsberg ,  Joseph LaTorre ,  Michael G. McMaster ,  Melvin W. Montgomery ,  Wayne M. Moreau ,  Logan L. Simpson ,  Robert J. Tweig ,  Gregory M. Wallraff

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G03C1/73

CPC分类号： G03F7/039 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126 ,  Y10S430/127

摘要： Disclosed is a positive photoresist. The photoresist has as its polymeric component a substantially water and base insoluble, photolabile polymer. The photoresist further includes a photo acid generator that is capable of forming a strong acid. This photo acid generator may be a sulfonate ester derived from a N-hydroxyamide, or a N-hydroxyimide. Finally, the photoresist composition includes an appropriate photosensitizer.

摘要翻译： 公开了一种正性光致抗蚀剂。 光致抗蚀剂具有基本上水和碱不溶性的光不稳定聚合物作为其聚合物组分。 光致抗蚀剂还包括能够形成强酸的光酸产生剂。 该光酸产生剂可以是衍生自N-羟基酰胺或N-羟基酰亚胺的磺酸酯。 最后，光致抗蚀剂组合物包括适当的光敏剂。

公开(公告)号：US5374500A

公开(公告)日：1994-12-20

申请号：US41460

申请日：1993-04-02

申请人： Burton J. Carpenter, Jr. ,  Michael G. McMaster ,  Joseph LaTorre ,  Logan L. Simpson

发明人： Burton J. Carpenter, Jr. ,  Michael G. McMaster ,  Joseph LaTorre ,  Logan L. Simpson

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  H05K3/06 ,  C03C1/492

CPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115

摘要： A positive acting photoresist comprising a film forming reactive polymer; an iodonium initiator or a non-ionic compound that generates triflic acid upon exposure to radiation; and a multifunctional organic carboxylic acid is provided as well as use thereof.

摘要翻译： 包含成膜反应性聚合物的正性光致抗蚀剂; 碘鎓引发剂或在暴露于辐射时产生三氟甲磺酸的非离子化合物; 并提供多官能有机羧酸及其用途。

公开(公告)号：US5498765A

公开(公告)日：1996-03-12

申请号：US311027

申请日：1994-09-26

申请人： Burton J. Carpenter, Jr. ,  Michael G. McMaster ,  Joseph LaTorre ,  Logan L. Simpson

发明人： Burton J. Carpenter, Jr. ,  Michael G. McMaster ,  Joseph LaTorre ,  Logan L. Simpson

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  H05K3/06 ,  G03F7/30 ,  G03F7/40

CPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115

摘要： A positive acting photoresist comprising a film forming reactive polymer; an iodonium initiator or a non-ionic compound that generates triflic acid upon exposure to radiation; and a multifunctional organic carboxylic acid is provided as well as use thereof.

摘要翻译： 包含成膜反应性聚合物的正性光致抗蚀剂; 碘鎓引发剂或在暴露于辐射时产生三氟甲磺酸的非离子化合物; 并提供多官能有机羧酸及其用途。

公开(公告)号：US5266444A

公开(公告)日：1993-11-30

申请号：US943075

申请日：1992-09-10

申请人： Burton J. Carpenter, Jr. ,  Joseph LaTorre ,  Michael G. McMaster ,  Logan L. Simpson

发明人： Burton J. Carpenter, Jr. ,  Joseph LaTorre ,  Michael G. McMaster ,  Logan L. Simpson

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/38 ,  C03C1/725

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/38 ,  Y10S430/118

摘要： A method and composition are shown for producing a positive-acting photoimagible epoxy resin. In addition to the epoxy resin, the compositions include a dual component cross-linking system which combines a basic curing agent with an onium or arylonium salt. The onium or arylonium salt produces a protic acid upon exposure to irradiation causing a reaction with the basic curing agent which renders the agent ineffective as an epoxy curing agent during subsequent heating. During a subsequent bake operation, only the unexposed regions of the epoxy will cross-link. As a result, the exposed areas wash away, leaving only the cured reverse image.

摘要翻译： 显示了用于制备正性光可氧化环氧树脂的方法和组合物。 除了环氧树脂之外，组合物还包括将碱性固化剂与鎓盐或芳基鎓盐组合的双组分交联体系。 鎓或芳基盐在暴露于照射时产生质子酸，引起与碱性固化剂的反应，其使得该试剂在随后的加热期间作为环氧固化剂无效。 在随后的烘烤操作中，仅环氧树脂的未曝光区域将交联。 结果，暴露的区域被洗掉，只剩下固化的反转图像。

公开(公告)号：US5615387A

公开(公告)日：1997-03-25

申请号：US589795

申请日：1996-01-22

申请人： Charles H. Crockett, Jr. ,  Steven A. Duncan ,  Stephen A. Dunn ,  David W. Malone ,  Michael G. McMaster

发明人： Charles H. Crockett, Jr. ,  Steven A. Duncan ,  Stephen A. Dunn ,  David W. Malone ,  Michael G. McMaster

IPC分类号： H05K1/02 ,  H05K3/06 ,  H05K3/18 ,  H05K3/22 ,  H05K3/46 ,  H05K3/00

CPC分类号： H05K3/225 ,  H05K2203/162 ,  H05K3/064 ,  H05K3/181 ,  H05K3/4644 ,  Y10T29/49124 ,  Y10T29/49155 ,  Y10T29/49156 ,  Y10T29/49718 ,  Y10T29/49726 ,  Y10T29/49728 ,  Y10T29/4973

摘要： A method of reworking a printed circuit board having a surface including areas needing to be reworked including the steps of covering the surface with a dielectric leaving uncovered at least the areas of the surface to be reworked, and selectively providing corrective circuitry on the dielectric interconnected to the uncovered areas of the surface needing to be reworked. In addition, a printed circuit board having a surface including reworked areas including a dielectric covering the surface leaving uncovered at least the reworked areas, and corrective circuitry on the dielectric interconnected to the uncovered reworked areas.

摘要翻译： 一种对具有包括需要重新加工的区域的表面的印刷电路板进行返工的方法，包括以下步骤：用电介质覆盖该表面，至少覆盖待加工表面的区域，并且在介质上选择性地提供校正电路， 表面的未覆盖区域需要重新加工。 另外，印刷电路板具有包括再工作区域的表面，该表面包括覆盖该表面的电介质，至少覆盖了返工区域，以及在与未覆盖的返工区域互连的电介质上的校正电路。