公开(公告)号：US5691112A

公开(公告)日：1997-11-25

申请号：US762861

申请日：1996-12-10

申请人： Satoshi Watanabe ,  Youichi Ohsawa ,  Toshinobu Ishihara ,  Kazumasa Maruyama ,  Yoshihumi Takeda ,  Junji Shimada ,  Fujio Yagihashi ,  Katsuya Takemura

发明人： Satoshi Watanabe ,  Youichi Ohsawa ,  Toshinobu Ishihara ,  Kazumasa Maruyama ,  Yoshihumi Takeda ,  Junji Shimada ,  Fujio Yagihashi ,  Katsuya Takemura

IPC分类号： C07C317/22 ,  C07C381/12 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C317/22 ,  C07C381/12

摘要： Trifluoromethanesulfonic and p-toluenesulfonic acid bis- or tris(p-tert-butoxyphenyl)sulfonium salts are novel. They are prepared from bis(p-tert-butoxyphenyl)sulfoxide which is also novel. A chemically amplified positive resist composition which contains the sulfonium salt as a photo-acid generator is highly sensitive to deep-UV rays, electron beams and X-rays, can be developed with alkaline aqueous solution to form a pattern, and is thus suitable for use in a fine patterning technique.

摘要翻译： 三氟甲磺酸和对甲苯磺酸双或三（对叔丁氧基苯基）锍盐是新颖的。 它们由双（对叔丁氧基苯基）亚砜制备，也是新的。 含有锍盐作为光酸发生剂的化学增幅正性抗蚀剂组合物对深紫外线，电子束和X射线高度敏感，可以用碱性水溶液显影形成图案，因此适用于 使用精细图案化技术。

公开(公告)号：US5633409A

公开(公告)日：1997-05-27

申请号：US379986

申请日：1995-01-27

申请人： Satoshi Watanabe ,  Youichi Ohsawa ,  Toshinobu Ishihara ,  Kazumasa Maruyama ,  Yoshihumi Takeda ,  Junji Shimada ,  Fujio Yagihashi ,  Katsuya Takemura

发明人： Satoshi Watanabe ,  Youichi Ohsawa ,  Toshinobu Ishihara ,  Kazumasa Maruyama ,  Yoshihumi Takeda ,  Junji Shimada ,  Fujio Yagihashi ,  Katsuya Takemura

IPC分类号： C07C317/22 ,  C07C381/12 ,  G03F7/004 ,  C07C319/00

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C317/22 ,  C07C381/12

摘要： Trifluoromethanesulfonic and p-toluenesulfonic acid bis- or tris(p-tert-butoxyphenyl)sulfonium salts are novel. They are prepared from bis(p-tert-butoxyphenyl)sulfoxide which is also novel. A chemically amplified positive resist composition which contains the sulfonium salt as a photo-acid generator is highly sensitive to deep-UV rays, electron beams and X-rays, can be developed with alkaline aqueous solution to form a pattern, and is thus suitable for use in a fine patterning technique.

摘要翻译： 三氟甲磺酸和对甲苯磺酸双或三（对叔丁氧基苯基）锍盐是新颖的。 它们由双（对叔丁氧基苯基）亚砜制备，也是新的。 含有锍盐作为光酸发生剂的化学增幅正性抗蚀剂组合物对深紫外线，电子束和X射线高度敏感，可以用碱性水溶液显影形成图案，因此适用于 使用精细图案化技术。

公开(公告)号：US5569784A

公开(公告)日：1996-10-29

申请号：US379987

申请日：1995-01-27

申请人： Satoshi Watanabe ,  Junji Shimada ,  Youichi Ohsawa ,  Katsuya Takemura ,  Toshinobu Ishihara ,  Kazumasa Maruyama

发明人： Satoshi Watanabe ,  Junji Shimada ,  Youichi Ohsawa ,  Katsuya Takemura ,  Toshinobu Ishihara ,  Kazumasa Maruyama

IPC分类号： C07C381/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C07C217/48

CPC分类号： C07C381/12 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039

摘要： A novel sulfonium salt having at least one substituted aromatic group having acid labile groups and at least one nitrogenous aromatic group is provided. A chemically amplified, positive resist composition comprising the sulfonium salt as well as an alkali soluble resin and a dissolution inhibitor in an organic solvent has solved the PED problem.

摘要翻译： 提供具有至少一个具有酸不稳定基团和至少一个含氮芳族基团的取代芳族基团的新型锍盐。 在有机溶剂中包含锍盐以及碱溶性树脂和溶解抑制剂的化学增幅阳性抗蚀剂组合物解决了PED问题。

公开(公告)号：US5847218A

公开(公告)日：1998-12-08

申请号：US811530

申请日：1997-03-04

申请人： Youichi Ohsawa ,  Satoshi Watanabe ,  Junji Shimada ,  Katsuya Takemura ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara

发明人： Youichi Ohsawa ,  Satoshi Watanabe ,  Junji Shimada ,  Katsuya Takemura ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara

IPC分类号： C07C381/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  C07C211/44

CPC分类号： C07C381/12 ,  G03F7/0045

摘要： The invention provides a novel sulfonium salt having a substituted or unsubstituted arylsulfonate anion. The novel sulfonium salt minimizes the influence of deactivation by basic compounds not only at a resist surface, but also at a resist-substrate interface, assists a resist to be configured to a definite pattern profile. When the sulfonium salt has an acid labile group, it is effective for increasing the dissolution contrast between exposed and unexposed areas. The sulfonium salt is useful in a chemically amplified positive resist composition which lends itself to fine patterning and features high resolution.

摘要翻译： 本发明提供了具有取代或未取代的芳基磺酸根阴离子的新型锍盐。 新型锍盐不仅在抗蚀剂表面，而且在抗蚀剂 - 基材界面处，使碱性化合物失活的影响最小化，有助于将抗蚀剂配置成确定的图案轮廓。 当锍盐具有酸不稳定基团时，对于增加暴露区域和未暴露区域之间的溶解度对比度是有效的。 锍盐可用于化学放大的正性抗蚀剂组合物，其具有精细的图案化并具有高分辨率。

公开(公告)号：US5728508A

公开(公告)日：1998-03-17

申请号：US672961

申请日：1996-07-01

申请人： Katsuya Takemura ,  Toshinobu Ishihara ,  Satoshi Watanabe ,  Kazumasa Maruyama ,  Hirofumi Kishita ,  Kouichi Yamaguchi

发明人： Katsuya Takemura ,  Toshinobu Ishihara ,  Satoshi Watanabe ,  Kazumasa Maruyama ,  Hirofumi Kishita ,  Kouichi Yamaguchi

IPC分类号： G03F7/09 ,  G03C1/835

CPC分类号： G03F7/091

摘要： A method of forming a resist pattern comprising forming a photoresist layer on a substrate, forming a transparent anti-reflective film on said photoresist layer by applying an anti-reflective material onto said photoresist layer, said anti-reflective material comprising a fluorinated resin which is soluble in an organic hydrocarbon solvent, exposing a light to said resist layer through said transparent anti-reflective film, removing said anti-reflective film using an organic hydrocarbon solvent, and developing said photoresist layer.

摘要翻译： 一种形成抗蚀剂图案的方法，包括在基材上形成光致抗蚀剂层，在所述光致抗蚀剂层上形成透明的抗反射膜，通过在所述光致抗蚀剂层上施加抗反射材料，所述抗反射材料包括氟化树脂， 可溶于有机烃溶剂中，通过所述透明抗反射膜将光暴露于所述抗蚀剂层，使用有机烃溶剂除去所述抗反射膜，并显影所述光致抗蚀剂层。

公开(公告)号：US06312869B1

公开(公告)日：2001-11-06

申请号：US09592419

申请日：2000-06-12

申请人： Satoshi Watanabe ,  Osamu Watanabe ,  Tomoyoshi Furihata ,  Yoshihumi Takeda ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara ,  Tsuguo Yamaoka

发明人： Satoshi Watanabe ,  Osamu Watanabe ,  Tomoyoshi Furihata ,  Yoshihumi Takeda ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara ,  Tsuguo Yamaoka

IPC分类号： G03F7039

CPC分类号： G03F7/039 ,  C08F8/00 ,  C08F2810/20 ,  C08F2810/30 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106 ,  C08F112/14

摘要： A chemically amplified positive resist composition contains (A) an organic solvent, (B) a base resin in the form of a polymer having at least one acid labile group and crosslinked within a molecule and/or between molecules with a crosslinking group having a C—O—C linkage, the polymer having a weight average molecular weight of 1,000-500,000, (C) a photoacid generator, (D) a basic compound, and (E) an aromatic compound having a group ≡C—COOH in a molecule. The composition has a high alkali dissolution contrast, high sensitivity and high resolution.

摘要翻译： 化学放大正性抗蚀剂组合物包含（A）有机溶剂，（B）具有至少一个酸不稳定基团的聚合物形式的基础树脂，并且在分子内和/或具有交联基团的分子之间具有COC 连接，重均分子量为1,000〜500,000的聚合物，（C）光酸产生剂，（D）碱性化合物和（E）分子中具有= C-COOH基团的芳族化合物。 该组合物具有高碱溶性对比度，高灵敏度和高分辨率。

公开(公告)号：US5529888A

公开(公告)日：1996-06-25

申请号：US531328

申请日：1995-09-20

申请人： Satoshi Watanabe ,  Toshinobu Ishihara ,  Yoshihumi Takeda ,  Katsuyuki Oikawa

发明人： Satoshi Watanabe ,  Toshinobu Ishihara ,  Yoshihumi Takeda ,  Katsuyuki Oikawa

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/039 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/091

摘要： A water-soluble composition comprising a water-soluble N-vinylpyrrolidone copolymer and a fluorinated organic acid in a weight ratio of from 20:80 to 70:30 is useful in forming a water-soluble overlying film on a chemically amplified resist layer. The overlying film functions as both an anti-reflective film and a protective film during resist pattern formation by photolithography.

摘要翻译： 包含重量比为20:80至70:30的水溶性N-乙烯基吡咯烷酮共聚物和氟化有机酸的水溶性组合物可用于在化学放大抗蚀剂层上形成水溶性覆盖膜。 在通过光刻的抗蚀剂图案形成期间，上覆膜既用作抗反射膜，又用作保护膜。

公开(公告)号：US5942367A

公开(公告)日：1999-08-24

申请号：US839107

申请日：1997-04-23

申请人： Satoshi Watanabe ,  Osamu Watanabe ,  Tomoyoshi Furihata ,  Yoshihumi Takeda ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara ,  Tsuguo Yamaoka

发明人： Satoshi Watanabe ,  Osamu Watanabe ,  Tomoyoshi Furihata ,  Yoshihumi Takeda ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara ,  Tsuguo Yamaoka

IPC分类号： C08F8/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/039 ,  C08F8/00 ,  G03F7/0045 ,  C08F2810/20 ,  C08F2810/30 ,  Y10S430/106

摘要： A chemically amplified positive resist composition contains (A) an organic solvent, (B) a base resin in the form of a polymer having at least one acid labile group and crosslinked within a molecule and/or between molecules with a crosslinking group having a C--O--C linkage, the polymer having a weight average molecular weight of 1,000-500,000, (C) a photoacid generator, (D) a basic compound, and (E) an aromatic compound having a group .tbd.C--COOH in a molecule. The composition has a high alkali dissolution contrast, high sensitivity and high resolution.

公开(公告)号：US06335141B1

公开(公告)日：2002-01-01

申请号：US09592423

申请日：2000-06-12

申请人： Satoshi Watanabe ,  Osamu Watanabe ,  Tomoyoshi Furihata ,  Yoshihumi Takeda ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara ,  Tsuguo Yamaoka

发明人： Satoshi Watanabe ,  Osamu Watanabe ,  Tomoyoshi Furihata ,  Yoshihumi Takeda ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara ,  Tsuguo Yamaoka

IPC分类号： G03F7039

CPC分类号： G03F7/039 ,  C08F8/00 ,  C08F2810/20 ,  C08F2810/30 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106 ,  C08F112/14

摘要： A chemically amplified positive resist composition contains (A) an organic solvent, (B) a base resin in the form of a polymer having at least one acid labile group and crosslinked within a molecule and/or between molecules with a crosslinking group having a C—O—C linkage, the polymer having a weight average molecular weight of 1,000-500,000, (C) a photoacid generator, (D) a basic compound, and (E) an aromatic compound having a group ≡C—COOH in a molecule. The composition has a high alkali dissolution contrast, high sensitivity and high resolution.

摘要翻译： 化学放大正性抗蚀剂组合物包含（A）有机溶剂，（B）具有至少一个酸不稳定基团的聚合物形式的基础树脂，并且在分子内和/或具有交联基团的分子之间具有COC 连接，重均分子量为1,000〜500,000的聚合物，（C）光酸产生剂，（D）碱性化合物和（E）分子中具有= C-COOH基团的芳族化合物。 该组合物具有高碱溶性对比度，高灵敏度和高分辨率。

公开(公告)号：US6114462A

公开(公告)日：2000-09-05

申请号：US302304

申请日：1999-04-30

申请人： Satoshi Watanabe ,  Osamu Watanabe ,  Tomoyoshi Furihata ,  Yoshihumi Takeda ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara ,  Tsuguo Yamaoka

发明人： Satoshi Watanabe ,  Osamu Watanabe ,  Tomoyoshi Furihata ,  Yoshihumi Takeda ,  Shigehiro Nagura ,  Toshinobu Ishihara ,  Tsuguo Yamaoka

IPC分类号： C08F8/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F261/06

CPC分类号： G03F7/039 ,  C08F8/00 ,  G03F7/0045 ,  C08F2810/20 ,  C08F2810/30 ,  Y10S430/106

摘要： A chemically amplified positive resist composition contains (A) an organic solvent, (B) a base resin in the form of a polymer having at least one acid labile group and crosslinked within a molecule and/or between molecules with a crosslinking group having a C--O--C linkage, the polymer having a weight average molecular weight of 1,000-500,000, (C) a photoacid generator, (D) a basic compound, and (E) an aromatic compound having a group .tbd.C--COOH in a molecule. The composition has a high alkali dissolution contrast, high sensitivity and high resolution.

摘要翻译： 化学放大正性抗蚀剂组合物包含（A）有机溶剂，（B）具有至少一个酸不稳定基团的聚合物形式的基础树脂，并且在分子内和/或具有交联基团的分子之间具有COC 连接，重均分子量为1,000〜500,000的聚合物，（C）光酸产生剂，（D）碱性化合物和（E）分子中具有第3BOND C-COOH基团的芳族化合物。 该组合物具有高碱溶性对比度，高灵敏度和高分辨率。