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公开(公告)号：US08080849B2
公开(公告)日：2011-12-20
申请号：US12015795
申请日：2008-01-17
申请人： Shahin Zangooie , Lin Zhou , Sean D. Burns
发明人： Shahin Zangooie , Lin Zhou , Sean D. Burns
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： G01N21/8422 , G01B11/0625 , G01B11/0641 , G01B11/0683
摘要： A system and method of characterizing a parameter of an ultra thin film, such as a gate oxide layer. A system is disclosed that includes a structure having a pseudo substrate positioned below an ultra thin film, wherein the pseudo substrate includes an optical mirror for enhancing an optical response; and a system for characterizing the ultra thin film by applying a light source to the ultra thin film and analyzing the optical response.
摘要翻译： 表征超薄膜（例如栅极氧化物层）的参数的系统和方法。 公开了一种包括具有位于超薄膜下方的伪衬底的结构的系统，其中所述伪衬底包括用于增强光学响应的光学镜; 以及通过将光源施加到超薄膜并分析光学响应来表征超薄膜的系统。
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公开(公告)号：US20090186427A1
公开(公告)日：2009-07-23
申请号：US12015795
申请日：2008-01-17
申请人： Shahin Zangooie , Lin Zhou , Sean D. Burns
发明人： Shahin Zangooie , Lin Zhou , Sean D. Burns
CPC分类号： G01N21/8422 , G01B11/0625 , G01B11/0641 , G01B11/0683
摘要： A system and method of characterizing a parameter of an ultra thin film, such as a gate oxide layer. A system is disclosed that includes a structure having a pseudo substrate positioned below an ultra thin film, wherein the pseudo substrate includes an optical mirror for enhancing an optical response; and a system for characterizing the ultra thin film by applying a light source to the ultra thin film and analyzing the optical response.
摘要翻译： 表征超薄膜（例如栅极氧化物层）的参数的系统和方法。 公开了一种包括具有位于超薄膜下方的伪衬底的结构的系统，其中所述伪衬底包括用于增强光学响应的光学镜; 以及通过将光源施加到超薄膜并分析光学响应来表征超薄膜的系统。
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公开(公告)号：US08411270B2
公开(公告)日：2013-04-02
申请号：US12015789
申请日：2008-01-17
申请人： Shahin Zangooie , Lin Zhou , Roger M. Young , Clemente Bottini , Ronald D. Fiege
发明人： Shahin Zangooie , Lin Zhou , Roger M. Young , Clemente Bottini , Ronald D. Fiege
IPC分类号： G01B11/00
CPC分类号： H01L21/681
摘要： Methods, apparatuses and systems for monitoring a stage alignment in a processing system are disclosed. A method for monitoring a stage alignment in a processing system may include providing a calibration target on a surface of the stage; measuring an angle of incident of a light beam to the calibration target; and monitoring the stage alignment based on the determined angle of incidence.
摘要翻译： 公开了用于监视处理系统中的台对准的方法，装置和系统。 用于监测处理系统中的台对准的方法可以包括在台的表面上提供校准目标; 测量光束入射到校准目标的角度; 以及基于所确定的入射角来监视所述平台对准。
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公开(公告)号：US07477365B2
公开(公告)日：2009-01-13
申请号：US11828666
申请日：2007-07-26
申请人： Shahin Zangooie , Roger M. Young , Lin Zhou , Clemente Bottini , Ronald D. Fiege
发明人： Shahin Zangooie , Roger M. Young , Lin Zhou , Clemente Bottini , Ronald D. Fiege
CPC分类号： G03F7/70516
摘要： A method, system and computer program product for determining a geometric parameter of an optical spot of a light beam are disclosed. A method comprises: providing a calibration target, the calibration target including a systematic variation in a parameter; measuring the calibration target with respect to the systematic variation using the light beam to obtain a plurality of measurements; and analyzing the measurements and the systematic variation to determine the geometric parameter of the optical spot.
摘要翻译： 公开了一种用于确定光束的光点的几何参数的方法，系统和计算机程序产品。 一种方法包括：提供校准目标，所述校准目标包括参数中的系统变化; 使用光束测量相对于系统变化的校准目标以获得多个测量值; 并分析测量和系统变化，以确定光点的几何参数。
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公开(公告)号：US20080316471A1
公开(公告)日：2008-12-25
申请号：US11766820
申请日：2007-06-22
申请人： Shahin Zangooie , Roger M. Young , Lin Zhou , Clemente Bottini , Ronald D. Fiege
发明人： Shahin Zangooie , Roger M. Young , Lin Zhou , Clemente Bottini , Ronald D. Fiege
IPC分类号： G01B11/26
CPC分类号： G01B11/26
摘要： A method, system and computer program product for determining an Azimuth angle of an incident beam to a wafer are disclosed. A method comprises: using the incident beam to make a first set of measurements of calibration targets of a first set of grating angles that are different than one another; analyzing the first set of measurements to determine an reference grating angle which corresponds to a grating line to which the incident beam has a practically zero Azimuth angle; and determining the Azimuth angle of the incident beam to the wafer using the determined reference grating angle.
摘要翻译： 公开了一种用于确定入射光束到晶片的方位角的方法，系统和计算机程序产品。 一种方法包括：使用入射光束对彼此不同的第一组光栅角进行校准目标的第一组测量; 分析第一组测量以确定对应于入射光束具有实际上零方位角的光栅线的参考光栅角度; 以及使用所确定的参考光栅角度确定入射光束到晶片的方位角。
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公开(公告)号：US20080024781A1
公开(公告)日：2008-01-31
申请号：US11828666
申请日：2007-07-26
申请人： Shahin Zangooie , Roger M. Young , Lin Zhou , Clemente Bottini , Ronald D. Fiege
发明人： Shahin Zangooie , Roger M. Young , Lin Zhou , Clemente Bottini , Ronald D. Fiege
IPC分类号： G01B9/08
CPC分类号： G03F7/70516
摘要： A method, system and computer program product for determining a geometric parameter of an optical spot of a light beam are disclosed. A method comprises: providing a calibration target, the calibration target including a systematic variation in a parameter; measuring the calibration target with respect to the systematic variation using the light beam to obtain a plurality of measurements; and analyzing the measurements and the systematic variation to determine the geometric parameter of the optical spot.
摘要翻译： 公开了一种用于确定光束的光点的几何参数的方法，系统和计算机程序产品。 一种方法包括：提供校准目标，所述校准目标包括参数中的系统变化; 使用光束测量相对于系统变化的校准目标以获得多个测量值; 并分析测量和系统变化，以确定光点的几何参数。
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公开(公告)号：US07592817B2
公开(公告)日：2009-09-22
申请号：US11778679
申请日：2007-07-17
摘要： A system and method for correcting alignment of a product on a tool and, more particularly, to a system and method for correcting alignment of a wafer on a chuck of a tool. The system is a tool comprising at least one contact near a circumference of the tool and a grounded contact proximate to the at least one contact. The method comprises measuring current on each branch of a circuit and calculating an angle of a wafer based on a difference in the current on each branch of the circuit.
摘要翻译： 一种用于校正工具上的产品对准的系统和方法，更具体地，涉及一种用于校正工具的卡盘上的晶片对准的系统和方法。 该系统是一种工具，其包括在工具的圆周附近的至少一个触点和靠近该至少一个触点的接地触点。 该方法包括测量电路的每个分支上的电流，并且基于电路的每个分支上的电流差来计算晶片的角度。
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公开(公告)号：US20090002721A1
公开(公告)日：2009-01-01
申请号：US11770105
申请日：2007-06-28
申请人： Shahin Zangooie , Lin Zhou
发明人： Shahin Zangooie , Lin Zhou
IPC分类号： G01B11/14
CPC分类号： G01B11/002
摘要： A position sensing system for an optical metrology system, includes a plurality of photonic devices distributed on a carrier for providing a photonic response when interrogated with a measuring light, wherein a collective photonic response from the plurality indicates the position of the carrier. A method and an optical metrology system are also provided.
摘要翻译： 用于光学测量系统的位置感测系统包括分布在载体上的多个光子器件，用于当用测量光询问时提供光子响应，其中来自多个的集体光子响应指示载体的位置。 还提供了一种方法和光学测量系统。
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公开(公告)号：US07808657B2
公开(公告)日：2010-10-05
申请号：US11770105
申请日：2007-06-28
申请人： Shahin Zangooie , Lin Zhou
发明人： Shahin Zangooie , Lin Zhou
IPC分类号： G01B11/14
CPC分类号： G01B11/002
摘要： A position sensing system for an optical metrology system, includes a plurality of photonic devices distributed on a carrier for providing a photonic response when interrogated with a measuring light, wherein a collective photonic response from the plurality indicates the position of the carrier. A method and an optical metrology system are also provided.
摘要翻译： 用于光学测量系统的位置感测系统包括分布在载体上的多个光子器件，用于当用测量光询问时提供光子响应，其中来自多个的集体光子响应指示载体的位置。 还提供了一种方法和光学测量系统。
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公开(公告)号：US20090182529A1
公开(公告)日：2009-07-16
申请号：US12013614
申请日：2008-01-14
申请人： Shahin Zangooie , Roger M. Young , Lin Zhou
发明人： Shahin Zangooie , Roger M. Young , Lin Zhou
IPC分类号： G06F17/18
CPC分类号： G01B21/045 , G03F7/70508 , G03F7/70625
摘要： A method, system and computer program product for determining a signal quality of an optical metrology tool are disclosed. A method comprises: collecting a data pool regarding measurements of a target made by the optical metrology tool, the data pool including a wavelength of incident light used in a measurement; and statistically analyzing the data pool to obtain a wavelength specific signal quality of the optical metrology tool.
摘要翻译： 公开了一种用于确定光学测量工具的信号质量的方法，系统和计算机程序产品。 一种方法包括：收集关于由光学测量工具制作的目标的测量的数据池，所述数据池包括在测量中使用的入射光的波长; 并统计分析数据池，以获得光学计量工具的波长特定信号质量。
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