公开(公告)号：US06278600B1

公开(公告)日：2001-08-21

申请号：US09231318

申请日：1999-01-13

申请人： Shamouil Shamouilian ,  Arnold Kholodenko ,  Semyon Kats ,  Semyon Sherstinsky ,  Jon Clinton ,  Surinder Bedi

发明人： Shamouil Shamouilian ,  Arnold Kholodenko ,  Semyon Kats ,  Semyon Sherstinsky ,  Jon Clinton ,  Surinder Bedi

IPC分类号： H01G2300

CPC分类号： H02N13/00 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/6833

摘要： Apparatus for supporting a workpiece and method of making same. The apparatus comprises a flex circuit laminated to a contoured support pedestal. The flex circuit includes a reinforced layer to improve puncture resistance of the flex circuit. The top surface of the chuck has a contoured topography that is achieved by machining the upper surface of the pedestal prior to lamination of the flex circuit to the pedestal. The contoured topography improves the flow of backside cooling gas resulting in a more uniform wafer temperature profile.

摘要翻译： 用于支撑工件的装置及其制造方法。 该装置包括层压到轮廓支撑基座上的柔性电路。 柔性电路包括增强层，以提高柔性电路的抗穿刺性。 卡盘的顶表面具有轮廓的形貌，其通过在将柔性电路层压到基座之前加工基座的上表面来实现。 轮廓形状改善了背面冷却气体的流动，导致更均匀的晶片温度分布。

公开(公告)号：US06055150A

公开(公告)日：2000-04-25

申请号：US188038

申请日：1998-11-06

申请人： Jon Clinton ,  Mark Contreras ,  Anand H. Kumar ,  Shamouil Shamouilian ,  You Wang ,  Surinder Bedi

发明人： Jon Clinton ,  Mark Contreras ,  Anand H. Kumar ,  Shamouil Shamouilian ,  You Wang ,  Surinder Bedi

IPC分类号： H01L21/683 ,  H02N13/00

CPC分类号： H01L21/6833 ,  Y10T279/23

摘要： A failure resistant electrostatic chuck 20 for holding a substrate 35 during processing of the substrate 35 comprises one or more electrodes 25 covered by an insulator 30, the electrodes 25 capable of electrostatically holding a substrate 35 when a voltage is applied thereto. An electrical power bus 40 comprises one or more output terminals 45 that conduct voltage to the electrodes 25. The fuses 50 are positioned in hollow cavities 55 in the insulator 30, and electrically connect the electrodes 25 in series to the output terminals 45 of the power bus 40. Each fuse 50 can electrically disconnect an electrode 25 from an output terminal 45 when the insulator 30 covering the electrode 25 punctures and exposes the electrode 25 to a plasma process environment thereby causing a plasma current discharge to flow through the fuse 50.

摘要翻译： 用于在基板35的处理期间保持基板35的耐破坏静电卡盘20包括由绝缘体30覆盖的一个或多个电极25，当施加电压时能够静电保持基板35的电极25。 电力总线40包括向电极25传导电压的一个或多个输出端子45.保险丝50定位在绝缘体30中的空腔55中，并将电极25串联电连接到电源的输出端子45 总线40.当覆盖电极25的绝缘体30刺穿并将电极25暴露于等离子体处理环境时，每个保险丝50可以将电极25与输出端子45电断开，从而使等离子体电流放电流过保险丝50。

公开(公告)号：US20100145513A1

公开(公告)日：2010-06-10

申请号：US12712091

申请日：2010-02-24

申请人： Pyongwon Yim ,  Satish Sundar ,  Vinay Shah ,  Mario David Silvetti ,  Douglas Kitajima ,  Venkatesh Babu ,  Visweswaren Sivaramakrishnan ,  Indrajit Lahiri ,  Surinder Bedi

发明人： Pyongwon Yim ,  Satish Sundar ,  Vinay Shah ,  Mario David Silvetti ,  Douglas Kitajima ,  Venkatesh Babu ,  Visweswaren Sivaramakrishnan ,  Indrajit Lahiri ,  Surinder Bedi

IPC分类号： G05B15/00 ,  G06F19/00 ,  H01L21/67

CPC分类号： H01L21/67259 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/681

摘要： A robotic positioning system that cooperates with a sensing system to correct robot motion is provided. The sensing system is decoupled from the sensors used conventionally to control the robot's motion, thereby providing repeatable detection of the robot's true position. In one embodiment, the positioning system includes a robot, a controller, a motor sensor and a decoupled sensor. The robot has at least one motor for manipulating a linkage controlling the displacement of a substrate support coupled thereto. The motor sensor is provides the controller with motor actuation information utilized to move the substrate support. The decoupled sensor provides information indicative of the true position the substrate support that may be utilized to correct the robot's motion.

摘要翻译： 提供了与传感系统配合以校正机器人运动的机器人定位系统。 感测系统与常规用于控制机器人运动的传感器分离，从而提供机器人真实位置的可重复检测。 在一个实施例中，定位系统包括机器人，控制器，马达传感器和去耦传感器。 机器人具有至少一个用于操纵联动装置的电动机，控制联接到其上的衬底支架的位移。 马达传感器为控制器提供用于移动基板支架的马达驱动信息。 解耦传感器提供指示可用于校正机器人运动的基板支撑件的真实位置的信息。

公开(公告)号：US07107125B2

公开(公告)日：2006-09-12

申请号：US10697731

申请日：2003-10-29

申请人： Pyongwon Yim ,  Satish Sundar ,  Vinay Shah ,  Mario David Silvetti ,  Douglas Kitajima ,  Venkatesh Babu ,  Visweswaren Sivaramakrishnan ,  Indrajit Lahiri ,  Surinder Bedi

发明人： Pyongwon Yim ,  Satish Sundar ,  Vinay Shah ,  Mario David Silvetti ,  Douglas Kitajima ,  Venkatesh Babu ,  Visweswaren Sivaramakrishnan ,  Indrajit Lahiri ,  Surinder Bedi

IPC分类号： G05B15/00 ,  G05B19/00

CPC分类号： H01L21/67259 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/681

摘要： A robotic positioning system that cooperates with a sensing system to correct robot motion is provided. The sensing system is decoupled from the sensors used conventionally to control the robot's motion, thereby providing repeatable detection of the robot's true position. In one embodiment, the positioning system includes a robot, a controller, a motor sensor and a decoupled sensor. The robot has at least one motor for manipulating a linkage controlling the displacement of a substrate support coupled thereto. The motor sensor is provides the controller with motor actuation information utilized to move the substrate support. The decoupled sensor provides information indicative of the true position the substrate support that may be utilized to correct the robot's motion.

摘要翻译： 提供了与传感系统配合以校正机器人运动的机器人定位系统。 感测系统与常规用于控制机器人运动的传感器分离，从而提供机器人真实位置的可重复检测。 在一个实施例中，定位系统包括机器人，控制器，马达传感器和去耦传感器。 机器人具有至少一个用于操纵联动装置的电动机，控制联接到其上的衬底支架的位移。 马达传感器为控制器提供用于移动基板支架的马达驱动信息。 解耦传感器提供指示可用于校正机器人运动的基板支撑件的真实位置的信息。

公开(公告)号：US06913670B2

公开(公告)日：2005-07-05

申请号：US10118758

申请日：2002-04-08

申请人： Kadthala R. Narendrnath ,  Michael Douglas ,  Surinder Bedi

发明人： Kadthala R. Narendrnath ,  Michael Douglas ,  Surinder Bedi

IPC分类号： C23C16/458 ,  C23C16/52 ,  H01L21/00 ,  H01L21/687 ,  C23C16/00

CPC分类号： H01L21/68785 ,  C23C16/4586 ,  C23C16/463 ,  C23C16/52 ,  H01J37/32009 ,  H01J2237/2001 ,  H01L21/67288

摘要： A substrate support has a receiving surface capable of receiving a substrate during processing in a substrate processing chamber. The substrate support has a pedestal having a conduit to circulate a heat transfer fluid therein. A barrier about the conduit includes a fluid detection material capable of detecting a leakage of the fluid from the conduit be changing an attribute, for example, an optical or electrical property.

摘要翻译： 衬底支撑件具有能够在衬底处理室中处理期间能够接收衬底的接收表面。 衬底支撑件具有底座，其具有使传热流体在其中循环的导管。 围绕导管的屏障包括能够检测来自导管的流体泄漏的流体检测材料，以改变属性，例如光学或电学性质。

公开(公告)号：US20050096794A1

公开(公告)日：2005-05-05

申请号：US10697731

申请日：2003-10-29

申请人： Pyongwon Yim ,  Satish Sundar ,  Vinay Shah ,  Mario Silvetti ,  Douglas Kitajima ,  Venkatesh Babu ,  Visweswaren Sivaramakrishnan ,  Indrajit Lahiri ,  Surinder Bedi

发明人： Pyongwon Yim ,  Satish Sundar ,  Vinay Shah ,  Mario Silvetti ,  Douglas Kitajima ,  Venkatesh Babu ,  Visweswaren Sivaramakrishnan ,  Indrajit Lahiri ,  Surinder Bedi

IPC分类号： G06F19/00 ,  H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  H01L21/68

CPC分类号： H01L21/67259 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/681

摘要： A robotic positioning system that cooperates with a sensing system to correct robot motion is provided. The sensing system is decoupled from the sensors used conventionally to control the robot's motion, thereby providing repeatable detection of the robot's true position. In one embodiment, the positioning system includes a robot, a controller, a motor sensor and a decoupled sensor. The robot has at least one motor for manipulating a linkage controlling the displacement of a substrate support coupled thereto. The motor sensor is provides the controller with motor actuation information utilized to move the substrate support. The decoupled sensor provides information indicative of the true position the substrate support that may be utilized to correct the robot's motion.

摘要翻译： 提供了与传感系统配合以校正机器人运动的机器人定位系统。 感测系统与常规用于控制机器人运动的传感器分离，从而提供机器人真实位置的可重复检测。 在一个实施例中，定位系统包括机器人，控制器，马达传感器和去耦传感器。 机器人具有至少一个用于操纵联动装置的电动机，控制联接到其上的衬底支架的位移。 马达传感器为控制器提供用于移动基板支架的马达驱动信息。 解耦传感器提供指示可用于校正机器人运动的基板支撑件的真实位置的信息。

公开(公告)号：US20080017115A1

公开(公告)日：2008-01-24

申请号：US11866505

申请日：2007-10-03

申请人： Andrzej Kaszuba ,  Sophia Velastegui ,  Visweswaren Sivaramakrishnan ,  Pyongwon Yim ,  Mario Silvetti ,  Tom Cho ,  Indrajit Lahiri ,  Surinder Bedi

发明人： Andrzej Kaszuba ,  Sophia Velastegui ,  Visweswaren Sivaramakrishnan ,  Pyongwon Yim ,  Mario Silvetti ,  Tom Cho ,  Indrajit Lahiri ,  Surinder Bedi

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： H01L21/67126 ,  C23C16/4401

摘要： In one embodiment, the invention is a guard ring for reducing particle entrapment along a moveable shaft of a substrate support. In one embodiment, the guard ring comprises a substantially annular guard ring positioned within a step formed in a sleeve that circumscribes the shaft. The guard ring is positioned to substantially seal a gap separating the shaft from the sleeve, so that the amount of particles and foreign matter that travel within or become trapped in the gap is substantially reduced. In another embodiment, a guard ring comprises a base portion having an inner perimeter and an outer perimeter, a first flange coupled to the inner perimeter, a second flange coupled to the outer perimeter, and a continuous channel separating the first flange from the second flange. The first flange is adapted to function as a spring that accommodates displacement of the shaft.

摘要翻译： 在一个实施例中，本发明是用于减少沿基板支撑件的可移动轴的颗粒捕获的保护环。 在一个实施例中，保护环包括大致环形的保护环，其定位在形成在套筒内的步骤中，该套筒环绕轴。 保护环被定位成基本上密封将轴与套筒分开的间隙，使得在间隙内行进或被捕获在间隙中的颗粒和异物的量显着减少。 在另一个实施例中，保护环包括具有内周边和外周边的基部，连接到内周边的第一凸缘，联接到外周边的第二凸缘和将第一凸缘与第二凸缘分开的连续通道 。 第一凸缘适于用作容纳轴的位移的弹簧。

公开(公告)号：US20060224276A1

公开(公告)日：2006-10-05

申请号：US11424377

申请日：2006-06-15

申请人： Pyongwon Yim ,  Satish Sundar ,  Vinay Shah ,  Mario Silvetti ,  Douglas Kitajima ,  Venkatesh Babu ,  Visweswaren Sivaramakrishnan ,  Indrajit Lahiri ,  Surinder Bedi

发明人： Pyongwon Yim ,  Satish Sundar ,  Vinay Shah ,  Mario Silvetti ,  Douglas Kitajima ,  Venkatesh Babu ,  Visweswaren Sivaramakrishnan ,  Indrajit Lahiri ,  Surinder Bedi

IPC分类号： G06F19/00 ,  H01L21/306 ,  C23C16/00

CPC分类号： H01L21/67259 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/681

摘要： A robotic positioning system that cooperates with a sensing system to correct robot motion is provided. The sensing system is decoupled from the sensors used conventionally to control the robot's motion, thereby providing repeatable detection of the robot's true position. In one embodiment, the positioning system includes a robot, a controller, a motor sensor and a decoupled sensor. The robot has at least one motor for manipulating a linkage controlling the displacement of a substrate support coupled thereto. The motor sensor is provides the controller with motor actuation information utilized to move the substrate support. The decoupled sensor provides information indicative of the true position the substrate support that may be utilized to correct the robot's motion.

摘要翻译： 提供了与传感系统配合以校正机器人运动的机器人定位系统。 感测系统与常规用于控制机器人运动的传感器解耦，从而提供机器人真实位置的可重复检测。 在一个实施例中，定位系统包括机器人，控制器，马达传感器和去耦传感器。 机器人具有至少一个用于操纵联动装置的电动机，控制联接到其上的衬底支架的位移。 马达传感器为控制器提供用于移动基板支架的马达驱动信息。 解耦传感器提供指示可用于校正机器人运动的基板支撑件的真实位置的信息。

公开(公告)号：US20050172905A1

公开(公告)日：2005-08-11

申请号：US10775769

申请日：2004-02-05

申请人： Andrzej Kaszuba ,  Sophia Velastegui ,  Visweswaren Sivaramakrishnan ,  Pyongwon Yim ,  Mario Silvetti ,  Tom Cho ,  Indrajit Lahiri ,  Surinder Bedi

发明人： Andrzej Kaszuba ,  Sophia Velastegui ,  Visweswaren Sivaramakrishnan ,  Pyongwon Yim ,  Mario Silvetti ,  Tom Cho ,  Indrajit Lahiri ,  Surinder Bedi

IPC分类号： C23C16/00 ,  C23C16/44 ,  H01L21/00

CPC分类号： H01L21/67126 ,  C23C16/4401

摘要： In one embodiment, the invention is a guard ring for reducing particle entrapment along a moveable shaft of a substrate support. In one embodiment, the guard ring comprises a substantially annular guard ring positioned within a step formed in a sleeve that circumscribes the shaft. The guard ring is positioned to substantially seal a gap separating the shaft from the sleeve, so that the amount of particles and foreign matter that travel within or become trapped in the gap is substantially reduced. In another embodiment, a guard ring comprises a base portion having an inner perimeter and an outer perimeter, a first flange coupled to the inner perimeter, a second flange coupled to the outer perimeter, and a continuous channel separating the first flange from the second flange. The first flange is adapted to function as a spring that accommodates displacement of the shaft.

摘要翻译： 在一个实施例中，本发明是用于减少沿基板支撑件的可移动轴的颗粒捕获的保护环。 在一个实施例中，保护环包括大致环形的保护环，其定位在形成在套筒内的步骤中，该套筒环绕轴。 保护环被定位成基本上密封将轴与套筒分开的间隙，使得在间隙内行进或被捕获在间隙中的颗粒和异物的量显着减少。 在另一个实施例中，保护环包括具有内周边和外周边的基部，连接到内周边的第一凸缘，联接到外周边的第二凸缘以及将第一凸缘与第二凸缘分开的连续通道 。 第一凸缘适于用作容纳轴的位移的弹簧。