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    Magnetic transducer with milling mask
    1.
    发明申请
    Magnetic transducer with milling mask 失效
    具有铣削面罩的磁性换能器

    公开(公告)号：US20070139816A1

    公开(公告)日：2007-06-21

    申请号：US11707524

    申请日：2007-02-12

    申请人： Tsung Chen ,  David Druist ,  Quang Le ,  Kim Lee ,  Chun-Ming Wang ,  Howard Zolla

    发明人： Tsung Chen ,  David Druist ,  Quang Le ,  Kim Lee ,  Chun-Ming Wang ,  Howard Zolla

    IPC分类号： B44C1/22 ,  G11B5/127

    CPC分类号： G11B5/3163 ,  G11B5/1278 ,  G11B5/3116 ,  Y10T29/49032

    摘要： A method for fabricating a magnetic head with a trapezoidal shaped pole piece tip is described. The body of the main pole piece is deposited; then one or more layers for the pole piece tip are deposited. A bed material is deposited over the pole piece tip material. A void is formed in the bed material over the area for the pole piece tip. The void is filled with an ion-milling resistant material such as alumina preferably using atomic layer deposition or atomic layer chemical vapor deposition. The excess ion-milling resistant material and the bed material are removed. The result is an ion-milling mask formed over the area for the pole piece tip. Ion milling is then used to remove the unmasked material in the pole piece tip layer and to form a beveled pole piece tip and preferably a beveled face on the main pole piece.

    摘要翻译： 描述了制造具有梯形极片尖端的磁头的方法。 主极片的主体被沉积; 然后沉积用于极片尖端的一个或多个层。 床材料沉积在极片末端材料上。 在用于极片尖端的区域上的床材料中形成空隙。 空隙填充有耐离子碾磨材料，例如氧化铝，优选使用原子层沉积或原子层化学气相沉积。 除去过量的抗离子碾磨材料和床料。 结果是在极片尖端的区域上形成离子铣削掩模。 然后使用离子铣削去除极片末端层中的未掩模材料，并且在主极片上形成斜面极片末端，并且优选地形成斜面。

    Method for fabricating a pole tip in a magnetic transducer
    2.
    发明申请
    Method for fabricating a pole tip in a magnetic transducer 有权
    用于在磁换能器中制造极尖的方法

    公开(公告)号：US20060000795A1

    公开(公告)日：2006-01-05

    申请号：US10882883

    申请日：2004-06-30

    申请人： Tsung Chen ,  David Druist ,  Quang Le ,  Kim Lee ,  Chun-Ming Wang ,  Howard Zolla

    发明人： Tsung Chen ,  David Druist ,  Quang Le ,  Kim Lee ,  Chun-Ming Wang ,  Howard Zolla

    IPC分类号： B44C1/22

    CPC分类号： G11B5/3163 ,  G11B5/1278 ,  G11B5/3116 ,  Y10T29/49032

    摘要： A method for fabricating a magnetic head with a trapezoidal shaped pole piece tip is described. The body of the main pole piece is deposited, then one or more layers for the pole piece tip are deposited. A bed material is deposited over the pole piece tip material. A void is formed in the bed material over the area for the pole piece tip. The void is filled with an ion-milling resistant material such as alumina preferably using atomic layer deposition or atomic layer chemical vapor deposition. The excess ion-milling resistant material and the bed material are removed. The result is an ion-milling mask formed over the area for the pole piece tip. Ion milling is then used to remove the unmasked material in the pole piece tip layer and to form a beveled pole piece tip and preferably a beveled face on the main pole piece.

    摘要翻译： 描述了制造具有梯形极片尖端的磁头的方法。 沉积主极片的主体，然后沉积用于极片尖端的一个或多个层。 床材料沉积在极片末端材料上。 在用于极片尖端的区域上的床材料中形成空隙。 空隙填充有耐离子碾磨材料，例如氧化铝，优选使用原子层沉积或原子层化学气相沉积。 除去过量的抗离子碾磨材料和床料。 结果是在极片尖端的区域上形成离子铣削掩模。 然后使用离子铣削去除极片末端层中的未掩模材料，并且在主极片上形成斜面极片末端，并且优选地形成斜面。

    Liftoff process for thin photoresist
    6.
    发明申请
    Liftoff process for thin photoresist 失效
    薄光刻胶的剥离工艺

    公开(公告)号：US20050068672A1

    公开(公告)日：2005-03-31

    申请号：US10631579

    申请日：2003-07-30

    申请人： Kim Lee ,  Chun-Ming Wang

    发明人： Kim Lee ,  Chun-Ming Wang

    IPC分类号： G11B5/147 ,  G11B5/31 ,  H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/302 ,  H01L21/461

    CPC分类号： G11B5/3163 ,  H01L21/0272 ,  Y10T29/49021

    摘要： A method is invented for processing a thin-film head/semiconductor wafer. A layer of polymer is applied onto a wafer. A layer of dielectric material is added above the polymer layer. A layer of photoresist is added above the dielectric layer. The photoresist layer is patterned using a photolithography process. Exposed portions of the dielectric layer are removed. Exposed portions of the polymer layer are removed. Exposed portions of the wafer are removed. The polymer layer and any material thereabove is removed after hard bias/leads deposition.

    摘要翻译： 发明了一种用于处理薄膜头/半导体晶片的方法。 将一层聚合物施加到晶片上。 在聚合物层之上添加介电材料层。 在介电层上方添加一层光致抗蚀剂。 使用光刻工艺对光致抗蚀剂层进行图案化。 除去介电层的露出部分。 去除聚合物层的暴露部分。 去除晶片的暴露部分。 在硬偏压/引线沉积之后，去除聚合物层和其上的任何材料。

    Method for making a contact magnetic transfer template
    9.
    发明申请
    Method for making a contact magnetic transfer template 失效
    制造接触磁传输模板的方法

    公开(公告)号：US20060163195A1

    公开(公告)日：2006-07-27

    申请号：US11044288

    申请日：2005-01-26

    申请人： Zvonimir Bandic ,  A. Erpelding ,  Jordan Katine ,  Quang Le ,  Kim Lee ,  Jui-Lung Li ,  Michael Rooks

    发明人： Zvonimir Bandic ,  A. Erpelding ,  Jordan Katine ,  Quang Le ,  Kim Lee ,  Jui-Lung Li ,  Michael Rooks

    IPC分类号： B44C1/22 ,  C23F1/00 ,  C03C25/68

    CPC分类号： G11B5/865 ,  B82Y10/00 ,  C23F3/04 ,  C23F4/00 ,  G11B5/72 ,  G11B5/743 ,  G11B5/82 ,  G11B5/855 ,  Y10T29/4903 ,  Y10T29/49032

    摘要： A contact magnetic transfer (CMT) master template is made by first adhering a plastic film to a first surface of a silicon wafer. A resist pattern is then formed on the polyimide film and the polyimide is reactive-ion-etched through the resist to form recesses. The resist is removed and a chemical-mechanical-polishing (CMP) stop layer is deposited over the non-recessed regions of the polyimide, and optionally into the bottoms of the recesses. A layer of magnetic material is then deposited over the polyimide film to fill the recesses. A CMP process is then performed to remove magnetic material above the recesses and above the non-recessed regions and continued until the CMP stop layer is reached. The resulting upper surface of the polyimide film is then a continuous planar film of magnetic islands and regions of CMP stop layer material that function as the nonmagnetic regions of the template.

    摘要翻译： 通过首先将塑料膜粘附到硅晶片的第一表面上来制造接触磁传递（CMT）主模板。 然后在聚酰亚胺膜上形成抗蚀剂图案，并通过抗蚀剂反应离子蚀刻聚酰亚胺以形成凹陷。 去除抗蚀剂，并在化学机械抛光（CMP）停止层上沉积在聚酰亚胺的非凹陷区域上，并且任选地沉积到凹部的底部中。 然后将一层磁性材料沉积在聚酰亚胺膜上以填充凹部。 然后执行CMP处理以除去凹部上方的磁性材料并且在非凹陷区域上方并继续直到达到CMP停止层。 所得到的聚酰亚胺膜的上表面是磁性岛的连续平面膜和作为模板的非磁性区域的CMP停止层材料的区域。