公开(公告)号：US20110143279A1

公开(公告)日：2011-06-16

申请号：US13005539

申请日：2011-01-13

申请人： Tsutomu SHIMOKAWA ,  Takuma Ebata ,  Kaori Sakai ,  Yoshifumi Oizumi ,  Akimasa Soyano ,  Noboru Otsuka

发明人： Tsutomu SHIMOKAWA ,  Takuma Ebata ,  Kaori Sakai ,  Yoshifumi Oizumi ,  Akimasa Soyano ,  Noboru Otsuka

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a sulfonate or sulfonic acid group-containing photoacid generator and a resin. The sulfonate or sulfonic acid group-containing photoacid generator includes a partial structure shown by a following formula (1), wherein R1 represents a substituted or unsubstituted linear or branched monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cyclic or partially cyclic monovalent hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted cyclic monovalent organic group having 4 to 30 carbon atoms that include a hetero atom.

摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包含含磺酸酯基或含磺酸基的光酸产生剂和树脂。 含有磺酸基或含磺酸基的光酸产生剂包括由下式（1）表示的部分结构，其中R 1表示取代或未取代的具有1至30个碳原子的直链或支链一价烃基，取代或未取代的环状或部分 具有3〜30个碳原子的环状一价烃基，取代或未取代的碳原子数为6〜30的芳基，或取代或未取代的包含杂原子的碳原子数为4〜30的环状一价有机基团。

公开(公告)号：US07897821B2

公开(公告)日：2011-03-01

申请号：US12873265

申请日：2010-08-31

申请人： Tomoki Nagai ,  Eiji Yoneda ,  Takuma Ebata ,  Takanori Kawakami ,  Makoto Sugiura ,  Tsutomu Shimokawa ,  Makoto Shimizu

发明人： Tomoki Nagai ,  Eiji Yoneda ,  Takuma Ebata ,  Takanori Kawakami ,  Makoto Sugiura ,  Tsutomu Shimokawa ,  Makoto Shimizu

IPC分类号： C07C31/34

CPC分类号： C09D133/14 ,  C07C309/10 ,  C07C309/12 ,  C07C309/19 ,  C07C309/20 ,  C07C381/12 ,  C07D209/76 ,  C08F20/38 ,  C08F28/00 ,  C08F28/02 ,  C08F214/18 ,  C08F220/12 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F228/02 ,  C09D141/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： A compound is shown by the following formula (5) in which at least one of Rf groups represents a fluorine atom or a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, A′ represents a substituted or unsubstituted, linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an alkylene group having at least one hetero atom, or a single bond, G represents a divalent organic group having a fluorine atom or a single bond, Mm+ represents an onium cation, m represents a natural number of 1 to 3, and p represents a natural number of 1 to 8.

摘要翻译： 下式（5）表示化合物，其中Rf基中的至少一个表示氟原子或具有1-10个碳原子的直链或支链全氟烷基，A'表示取代或未取代的直链或支链亚烷基 具有1至20个碳原子，具有至少一个杂原子的亚烷基或单键，G表示具有氟原子或单键的二价有机基团，Mm +表示鎓阳离子，m表示1的自然数 至3，p表示1至8的自然数。

公开(公告)号：US07812105B2

公开(公告)日：2010-10-12

申请号：US11914024

申请日：2006-05-11

申请人： Tomoki Nagai ,  Eiji Yoneda ,  Takuma Ebata ,  Takanori Kawakami ,  Makoto Sugiura ,  Tsutomu Shimokawa ,  Makoto Shimizu

发明人： Tomoki Nagai ,  Eiji Yoneda ,  Takuma Ebata ,  Takanori Kawakami ,  Makoto Sugiura ,  Tsutomu Shimokawa ,  Makoto Shimizu

IPC分类号： C08F14/18 ,  C08F28/02

CPC分类号： C09D133/14 ,  C07C309/10 ,  C07C309/12 ,  C07C309/19 ,  C07C309/20 ,  C07C381/12 ,  C07D209/76 ,  C08F20/38 ,  C08F28/00 ,  C08F28/02 ,  C08F214/18 ,  C08F220/12 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F228/02 ,  C09D141/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： A radiation-sensitive resin composition is provided which has high transparency to radiation, excelling in basic properties as a resist such as sensitivity, resolution, and pattern shape, and, in particular, a high resolution radiation-sensitive resin composition providing a wide DOF and excelling in LER. Also provided are a polymer which can be used in the composition and a novel compound useful for synthesizing the polymer. The novel compound is shown by the following formula (2), wherein R4 represents a methyl group, a trifluoromethyl group, or a hydrogen atom, at least one of the Rfs represents a fluorine atom or a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, A represents a divalent organic group or a single bond, G represents a divalent organic group having a fluorine atom or a single bond, Mm+ represents a metal ion or an onium cation, m represents an integer of 1 to 3, and p is an integer of 1 to 8.

摘要翻译： 提供了对辐射具有高透明度的辐射敏感性树脂组合物，作为抗敏剂，例如灵敏度，分辨率和图案形状，具有优异的基本性能，特别是提供宽DOF和高分辨率辐射敏感性树脂组合物 优秀的LER。 还提供了可用于组合物中的聚合物和用于合成聚合物的新型化合物。 该新化合物由下式（2）表示，其中R4表示甲基，三氟甲基或氢原子，Rfs中的至少一个表示氟原子或具有1至10个的直链或支链全氟烷基 碳原子，A表示二价有机基团或单键，G表示具有氟原子或单键的二价有机基团，Mm +表示金属离子或鎓阳离子，m表示1〜3的整数，p表示 是1〜8的整数。

公开(公告)号：US08431324B2

公开(公告)日：2013-04-30

申请号：US12775475

申请日：2010-05-07

申请人： Tsutomu Shimokawa ,  Takuma Ebata

发明人： Tsutomu Shimokawa ,  Takuma Ebata

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a resin, a radiation-sensitive acid generator, an acid diffusion controller, and a mixed solvent. The radiation-sensitive acid generator includes a compound (I) shown by a following general formula (I). The mixed solvent includes about 50 mass % to about 90 mass % of propylene glycol monomethyl ether acetate, wherein M+ represents a sulfonium cation or an iodonium cation, R represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, Rf represents a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, n represents an integer from 1 to 10, and m represents an integer from 1 to 4.

摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括树脂，辐射敏感性酸产生剂，酸扩散控制剂和混合溶剂。 辐射敏感性酸产生剂包括由以下通式（I）表示的化合物（I）。 混合溶剂包括约50质量％至约90质量％的丙二醇单甲醚乙酸酯，其中M +表示锍阳离子或碘鎓阳离子，R表示氢原子或具有1至8个碳原子的烃基，Rf表示 氟原子或碳原子数1〜4的全氟烷基，n表示1〜10的整数，m表示1〜4的整数。

公开(公告)号：US20100324329A1

公开(公告)日：2010-12-23

申请号：US12873265

申请日：2010-08-31

申请人： Tomoki Nagai ,  Eiji Yoneda ,  Takuma Ebata ,  Takanori Kawakami ,  Makoto Sugiura ,  Tsutomu Shimokawa ,  Makoto Shimizu

发明人： Tomoki Nagai ,  Eiji Yoneda ,  Takuma Ebata ,  Takanori Kawakami ,  Makoto Sugiura ,  Tsutomu Shimokawa ,  Makoto Shimizu

IPC分类号： C07C309/04

CPC分类号： C09D133/14 ,  C07C309/10 ,  C07C309/12 ,  C07C309/19 ,  C07C309/20 ,  C07C381/12 ,  C07D209/76 ,  C08F20/38 ,  C08F28/00 ,  C08F28/02 ,  C08F214/18 ,  C08F220/12 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F228/02 ,  C09D141/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： A compound is shown by the following formula (5) in which at least one of Rf groups represents a fluorine atom or a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, A′ represents a substituted or unsubstituted, linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an alkylene group having at least one hetero atom, or a single bond, G represents a divalent organic group having a fluorine atom or a single bond, Mm+ represents an onium cation, m represents a natural number of 1 to 3, and p represents a natural number of 1 to 8.

摘要翻译： 下式（5）表示化合物，其中Rf基中的至少一个表示氟原子或具有1-10个碳原子的直链或支链全氟烷基，A'表示取代或未取代的直链或支链亚烷基 具有1至20个碳原子，具有至少一个杂原子的亚烷基或单键，G表示具有氟原子或单键的二价有机基团，Mm +表示鎓阳离子，m表示1的自然数 至3，p表示1至8的自然数。

公开(公告)号：US20100285405A1

公开(公告)日：2010-11-11

申请号：US12775475

申请日：2010-05-07

申请人： Tsutomu SHIMOKAWA ,  Takuma Ebata

发明人： Tsutomu SHIMOKAWA ,  Takuma Ebata

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a resin, a radiation-sensitive acid generator, an acid diffusion controller, and a mixed solvent. The radiation-sensitive acid generator includes a compound (I) shown by a following general formula (I). The mixed solvent includes about 50 mass % to about 90 mass % of propylene glycol monomethyl ether acetate, wherein M+ represents a sulfonium cation or an iodonium cation, R represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, Rf represents a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, n represents an integer from 1 to 10, and m represents an integer from 1 to 4.

摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括树脂，辐射敏感性酸产生剂，酸扩散控制剂和混合溶剂。 辐射敏感性酸产生剂包括由以下通式（I）表示的化合物（I）。 混合溶剂包括约50质量％至约90质量％的丙二醇单甲醚乙酸酯，其中M +表示锍阳离子或碘鎓阳离子，R表示氢原子或具有1至8个碳原子的烃基，Rf表示 氟原子或碳原子数1〜4的全氟烷基，n表示1〜10的整数，m表示1〜4的整数。

公开(公告)号：US20090069521A1

公开(公告)日：2009-03-12

申请号：US11914024

申请日：2006-05-11

申请人： Tomoki Nagai ,  Eiji Yoneda ,  Takuma Ebata ,  Takanori Kawakami ,  Makoto Sugiura ,  Tsutomu Shimokawa ,  Makoto Shimizu

发明人： Tomoki Nagai ,  Eiji Yoneda ,  Takuma Ebata ,  Takanori Kawakami ,  Makoto Sugiura ,  Tsutomu Shimokawa ,  Makoto Shimizu

IPC分类号： C08F214/18 ,  C07C317/02 ,  C07C69/52 ,  C07D209/56 ,  C08F228/02

CPC分类号： C09D133/14 ,  C07C309/10 ,  C07C309/12 ,  C07C309/19 ,  C07C309/20 ,  C07C381/12 ,  C07D209/76 ,  C08F20/38 ,  C08F28/00 ,  C08F28/02 ,  C08F214/18 ,  C08F220/12 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F228/02 ,  C09D141/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： A radiation-sensitive resin composition is provided which has high transparency to radiation, excelling in basic properties as a resist such as sensitivity, resolution, and pattern shape, and, in particular, a high resolution radiation-sensitive resin composition providing a wide DOF and excelling in LER. Also provided are a polymer which can be used in the composition and a novel compound useful for synthesizing the polymer. The novel compound is shown by the following formula (2), wherein R4 represents a methyl group, a trifluoromethyl group, or a hydrogen atom, at least one of the Rfs represents a fluorine atom or a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, A represents a divalent organic group or a single bond, G represents a divalent organic group having a fluorine atom or a single bond, Mm+ represents a metal ion or an onium cation, m represents an integer of 1 to 3, and p is an integer of 1 to 8.

摘要翻译： 提供了对辐射具有高透明度的辐射敏感性树脂组合物，作为抗敏剂，例如灵敏度，分辨率和图案形状，具有优异的基本性能，特别是提供宽DOF和高分辨率辐射敏感性树脂组合物 优秀的LER。 还提供了可用于组合物中的聚合物和用于合成聚合物的新型化合物。 该新化合物由下式（2）表示，其中R4表示甲基，三氟甲基或氢原子，Rfs中的至少一个表示氟原子或具有1至10个的直链或支链全氟烷基 碳原子，A表示二价有机基团或单键，G表示具有氟原子或单键的二价有机基团，Mm +表示金属离子或鎓阳离子，m表示1〜3的整数，p表示 是1〜8的整数。

公开(公告)号：US20110223537A1

公开(公告)日：2011-09-15

申请号：US13044573

申请日：2011-03-10

申请人： Takuma Ebata ,  Hiroki Nakagawa ,  Yasuhiko Matsuda ,  Kazuki Kasahara ,  Kenji Hoshiko ,  Hiromitsu Nakashima ,  Norihiko Ikeda ,  Kaori Sakai ,  Saki Harada

发明人： Takuma Ebata ,  Hiroki Nakagawa ,  Yasuhiko Matsuda ,  Kazuki Kasahara ,  Kenji Hoshiko ,  Hiromitsu Nakashima ,  Norihiko Ikeda ,  Kaori Sakai ,  Saki Harada

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F34/02

CPC分类号： C08F20/28 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a polymer, a photoacid generator, and an acid diffusion controller. The polymer includes a first repeating unit shown by a following formula (a-1). The acid diffusion controller includes at least one of a base shown by a following formula (C-1) and a photodegradable base, wherein each R1 represents a hydrogen atom or the like, R represents a monovalent group shown by an above formula (a′), each R19 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or the like, A represents a divalent chain hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms or the like, and m and n are integers from 0 to 3 (m+n=1 to 3), wherein each of R2 and R3 represents a monovalent chain hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or the like.

摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括聚合物，光致酸发生剂和酸扩散控制剂。 聚合物包括由下式（a-1）表示的第一重复单元。 酸扩散控制器包括由下式（C-1）表示的碱和可光降解碱中的至少一种，其中每个R 1表示氢原子等，R表示由上式（a' ），各R 19表示碳原子数为1〜5的链状烃基等，A表示碳原子数1〜30的二价链状烃基等，m和n为0〜3的整数（m + n = 1至3），其中R 2和R 3各自表示具有1至20个碳原子的一价链烃基等。

公开(公告)号：US20100063232A1

公开(公告)日：2010-03-11

申请号：US12514168

申请日：2007-11-09

申请人： Tomoki Nagai ,  Takuma Ebata ,  Makoto Shimizu ,  Jonathan Joachim Jodry ,  Satoru Narizuka ,  Masaki Fujiwara

发明人： Tomoki Nagai ,  Takuma Ebata ,  Makoto Shimizu ,  Jonathan Joachim Jodry ,  Satoru Narizuka ,  Masaki Fujiwara

IPC分类号： C08F28/02 ,  C07C69/533

CPC分类号： C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C08F20/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392

摘要： A resin that includes a repeating unit shown by the following formula (10) has an excellent performance as a radiation sensitive acid generator, and exhibits only a small adverse effect on the environment and a human body. wherein R1 represents a hydrogen atom or the like, M+ represents a specific cation, and n is an integer from 1 to 5.

摘要翻译： 包含下式（10）所示的重复单元的树脂作为辐射敏感性酸发生剂具有优异的性能，并且对环境和人体仅表现出小的不利影响。 其中R1表示氢原子等，M +表示特定阳离子，n为1至5的整数。

公开(公告)号：US20100040977A1

公开(公告)日：2010-02-18

申请号：US12514212

申请日：2007-11-09

申请人： Tomoki Nagai ,  Takuma Ebata ,  Makoto Shimizu

发明人： Tomoki Nagai ,  Takuma Ebata ,  Makoto Shimizu

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a resin that includes a repeating unit shown by the following formula (1) and a solvent. The radiation-sensitive resin composition has an excellent performance as a radiation-sensitive acid generator, includes a resin that adversely affects the environment and a human body to only a small extent, and can form a resist film that has a high resolution and forms an excellent resist pattern. wherein R1 represents a hydrogen atom or the like, M+ represents a specific cation, and n represents an integer from 1 to 5.

摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括包含下式（1）所示的重复单元和溶剂的树脂。 辐射敏感性树脂组合物作为辐射敏感性酸产生剂具有优异的性能，包括仅在很小程度上对环境和人体有不利影响的树脂，并且可以形成具有高分辨率并形成 优异的抗蚀剂图案。 其中R1表示氢原子等，M +表示特定的阳离子，n表示1〜5的整数。