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    RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
    1.
    发明申请
    RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION 审中-公开
    辐射敏感性树脂组合物

    公开(公告)号：US20110143279A1

    公开(公告)日：2011-06-16

    申请号：US13005539

    申请日：2011-01-13

    申请人： Tsutomu SHIMOKAWA ,  Takuma Ebata ,  Kaori Sakai ,  Yoshifumi Oizumi ,  Akimasa Soyano ,  Noboru Otsuka

    发明人： Tsutomu SHIMOKAWA ,  Takuma Ebata ,  Kaori Sakai ,  Yoshifumi Oizumi ,  Akimasa Soyano ,  Noboru Otsuka

    IPC分类号： G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

    摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a sulfonate or sulfonic acid group-containing photoacid generator and a resin. The sulfonate or sulfonic acid group-containing photoacid generator includes a partial structure shown by a following formula (1), wherein R1 represents a substituted or unsubstituted linear or branched monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cyclic or partially cyclic monovalent hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted cyclic monovalent organic group having 4 to 30 carbon atoms that include a hetero atom.

    摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包含含磺酸酯基或含磺酸基的光酸产生剂和树脂。 含有磺酸基或含磺酸基的光酸产生剂包括由下式（1）表示的部分结构，其中R 1表示取代或未取代的具有1至30个碳原子的直链或支链一价烃基，取代或未取代的环状或部分 具有3〜30个碳原子的环状一价烃基，取代或未取代的碳原子数为6〜30的芳基，或取代或未取代的包含杂原子的碳原子数为4〜30的环状一价有机基团。

    Radiation-sensitive resin composition
    4.
    发明授权
    Radiation-sensitive resin composition 有权
    辐射敏感树脂组合物

    公开(公告)号：US08431324B2

    公开(公告)日：2013-04-30

    申请号：US12775475

    申请日：2010-05-07

    申请人： Tsutomu Shimokawa ,  Takuma Ebata

    发明人： Tsutomu Shimokawa ,  Takuma Ebata

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/039

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

    摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a resin, a radiation-sensitive acid generator, an acid diffusion controller, and a mixed solvent. The radiation-sensitive acid generator includes a compound (I) shown by a following general formula (I). The mixed solvent includes about 50 mass % to about 90 mass % of propylene glycol monomethyl ether acetate, wherein M+ represents a sulfonium cation or an iodonium cation, R represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, Rf represents a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, n represents an integer from 1 to 10, and m represents an integer from 1 to 4.

    摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括树脂，辐射敏感性酸产生剂，酸扩散控制剂和混合溶剂。 辐射敏感性酸产生剂包括由以下通式（I）表示的化合物（I）。 混合溶剂包括约50质量％至约90质量％的丙二醇单甲醚乙酸酯，其中M +表示锍阳离子或碘鎓阳离子，R表示氢原子或具有1至8个碳原子的烃基，Rf表示 氟原子或碳原子数1〜4的全氟烷基，n表示1〜10的整数，m表示1〜4的整数。

    RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
    6.
    发明申请
    RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION 有权
    辐射敏感性树脂组合物

    公开(公告)号：US20100285405A1

    公开(公告)日：2010-11-11

    申请号：US12775475

    申请日：2010-05-07

    申请人： Tsutomu SHIMOKAWA ,  Takuma Ebata

    发明人： Tsutomu SHIMOKAWA ,  Takuma Ebata

    IPC分类号： G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

    摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a resin, a radiation-sensitive acid generator, an acid diffusion controller, and a mixed solvent. The radiation-sensitive acid generator includes a compound (I) shown by a following general formula (I). The mixed solvent includes about 50 mass % to about 90 mass % of propylene glycol monomethyl ether acetate, wherein M+ represents a sulfonium cation or an iodonium cation, R represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, Rf represents a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, n represents an integer from 1 to 10, and m represents an integer from 1 to 4.

    摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括树脂，辐射敏感性酸产生剂，酸扩散控制剂和混合溶剂。 辐射敏感性酸产生剂包括由以下通式（I）表示的化合物（I）。 混合溶剂包括约50质量％至约90质量％的丙二醇单甲醚乙酸酯，其中M +表示锍阳离子或碘鎓阳离子，R表示氢原子或具有1至8个碳原子的烃基，Rf表示 氟原子或碳原子数1〜4的全氟烷基，n表示1〜10的整数，m表示1〜4的整数。

    RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
    9.
    发明申请
    RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION 有权
    辐射敏感性树脂组合物

    公开(公告)号：US20100040977A1

    公开(公告)日：2010-02-18

    申请号：US12514212

    申请日：2007-11-09

    申请人： Tomoki Nagai ,  Takuma Ebata ,  Makoto Shimizu

    发明人： Tomoki Nagai ,  Takuma Ebata ,  Makoto Shimizu

    IPC分类号： G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

    摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a resin that includes a repeating unit shown by the following formula (1) and a solvent. The radiation-sensitive resin composition has an excellent performance as a radiation-sensitive acid generator, includes a resin that adversely affects the environment and a human body to only a small extent, and can form a resist film that has a high resolution and forms an excellent resist pattern. wherein R1 represents a hydrogen atom or the like, M+ represents a specific cation, and n represents an integer from 1 to 5.

    摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括包含下式（1）所示的重复单元和溶剂的树脂。 辐射敏感性树脂组合物作为辐射敏感性酸产生剂具有优异的性能，包括仅在很小程度上对环境和人体有不利影响的树脂，并且可以形成具有高分辨率并形成 优异的抗蚀剂图案。 其中R1表示氢原子等，M +表示特定的阳离子，n表示1〜5的整数。

    NOVEL COMPOUND, POLYMER, AND RESIN COMPOSITION
    10.
    发明申请
    NOVEL COMPOUND, POLYMER, AND RESIN COMPOSITION 有权
    新型化合物，聚合物和树脂组合物

    公开(公告)号：US20090318652A1

    公开(公告)日：2009-12-24

    申请号：US12097414

    申请日：2006-12-13

    申请人： Tomoki Nagai ,  Takuma Ebata ,  Nobuji Matsumura

    发明人： Tomoki Nagai ,  Takuma Ebata ,  Nobuji Matsumura

    IPC分类号： C08F28/02 ,  C07C69/533

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C309/06 ,  C07C309/19 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C08F220/38 ,  G03F7/0397

    摘要： A radiation-sensitive resin composition which has high transparency to radiation, excelling in basic properties as a resist such as sensitivity, resolution, and pattern shape, and, in particular, exhibiting high resolution performance, excellent DOF and LER, and high resistance to a liquid medium used in liquid immersion lithography is provided. Also provided are a polymer which can be used in the composition, a novel compound useful for synthesizing the polymer, and a method of producing the composition. A radiation-sensitive resin composition having an excellent resistance to a liquid medium can be obtained by using the novel compound shown by the following formula (1), wherein R1 represents a methyl group or a hydrogen atom, R2, R3 and R4 individually represent a substituted or unsubstituted monovalent organic group having 1 to 10 carbon atoms, n is an integer from 0 to 3, A represents a methylene group, a linear or branched alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, or an arylene group, and X− represents a counter ion of S+.

    摘要翻译： 对辐射具有高透明度的辐射敏感性树脂组合物，作为抗敏剂如感光度，分辨率和图案形状的基本性能优异，特别是表现出高分辨率性能，优异的DOF和LER，以及对 提供了用于液浸光刻的液体介质。 还提供了可用于组合物中的聚合物，可用于合成聚合物的新化合物，以及该组合物的制备方法。 通过使用由下式（1）表示的新化合物，其中R 1表示甲基或氢原子，可以得到对液体介质具有优异抗性的辐射敏感性树脂组合物，R2，R3和R4分别表示 取代或未取代的碳原子数1〜10的一价有机基团，n表示0〜3的整数，A表示亚甲基，碳原子数2〜10的直链或支链亚烷基或亚芳基，X表示 S +的反离子。