公开(公告)号：US20060110069A1

公开(公告)日：2006-05-25

申请号：US10995837

申请日：2004-11-23

申请人： William Tong ,  Wei Wu ,  Jun Gao ,  Carl Picciotto

发明人： William Tong ,  Wei Wu ,  Jun Gao ,  Carl Picciotto

IPC分类号： G06K9/32 ,  G06K9/36

CPC分类号： G06T7/0004

摘要： Using an imaging system in relation to a plurality of material layers in an initial alignment state is provided, a first of the plurality of material layers at least partially obscuring a second of the plurality of material layers in the initial alignment state. The first material layer is moved from a first position corresponding to the initial alignment state to a second position out of a field of view of the imaging system, and a first image of the second material layer is stored. The first material layer is moved back the first position to restore the initial alignment state. A second image of the first material layer is acquired. The second image and the stored first image are processed to determine the initial alignment state.

摘要翻译： 提供了在初始对准状态下相对于多个材料层使用成像系统，多个材料层中的第一个在初始对准状态下至少部分地遮蔽多个材料层中的第二个材料层。 第一材料层从对应于初始取向状态的第一位置移动到成像系统的视野外的第二位置，并且存储第二材料层的第一图像。 第一材料层被移回第一位置以恢复初始对准状态。 获取第一材料层的第二图像。 处理第二图像和存储的第一图像以确定初始对准状态。

公开(公告)号：US20060043626A1

公开(公告)日：2006-03-02

申请号：US10931672

申请日：2004-09-01

申请人： Wei Wu ,  William Tong ,  Jun Gao ,  Carl Picciotto

发明人： Wei Wu ,  William Tong ,  Jun Gao ,  Carl Picciotto

IPC分类号： B29C59/02

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： An imprint apparatus and method employ an effective pressure in imprint lithography. The imprint apparatus includes a compressible chamber that encloses an imprint mold having a mold pattern and a sample to be imprinted. The chamber is compressed to imprint the mold pattern on the sample. The mold is pressed against the sample with the effective pressure. The effective pressure is controlled by a selected ratio of a cavity area of the chamber to a contact area between the mold and the sample.

摘要翻译： 压印设备和方法在压印光刻中采用有效压力。 压印装置包括可压缩室，其包围具有模具图案和要印刷的样品的压印模具。 压缩室以将模具图案压印在样品上。 模具以有效的压力压在样品上。 有效压力通过腔室的空腔面积与模具和样品之间的接触面积的选定比例来控制。

公开(公告)号：US07830498B2

公开(公告)日：2010-11-09

申请号：US11548216

申请日：2006-10-10

申请人： Jun Gao ,  Wei Wu ,  Carl Picciotto

发明人： Jun Gao ,  Wei Wu ,  Carl Picciotto

IPC分类号： G03B27/20 ,  G03B27/02 ,  G03B27/58 ,  G03B27/60 ,  G03B27/62 ,  G03B27/64

CPC分类号： G03F7/2014 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： A contact lithography apparatus, system and method use a hydraulic deformation to facilitate pattern transfer. The apparatus, system and method include a spacer that provides a spaced apart proximal orientation of lithographic elements, and a hydraulic force member that provides the hydraulic deformation. One or more of the lithographic elements and the spacer is deformable, such that hydraulic deformation thereof facilitates the pattern transfer.

摘要翻译： 接触式光刻设备，系统和方法使用液压变形来促进图案转印。 装置，系统和方法包括提供光刻元件的间隔开的近端取向的间隔件，以及提供液压变形的液压力构件。 一个或多个光刻元件和间隔件是可变形的，使得其液压变形有利于图案转印。

公开(公告)号：US20060047473A1

公开(公告)日：2006-03-02

申请号：US10930614

申请日：2004-08-31

申请人： Carl Picciotto ,  Jun Gao ,  Wei Wu

发明人： Carl Picciotto ,  Jun Gao ,  Wei Wu

IPC分类号： G01B21/02

CPC分类号： G06T7/20 ,  G06T7/70

摘要： A displacement estimation system comprising a data acquisition system and a processing system is provided. The data acquisition system is configured to capture a first frame from a first substrate including a first pattern and a second substrate including a second pattern at a first time and capture a second frame from a third substrate including a third pattern and a fourth substrate including a fourth pattern at a second time subsequent to the first time. The first pattern and the third pattern are substantially identical, and the second pattern and the fourth pattern are substantially identical. The processing system is configured to calculate a first displacement between the first pattern and the third pattern using the first frame and the second frame and calculate a second displacement between the second pattern and the fourth pattern using the first frame and the second frame.

摘要翻译： 提供一种包括数据采集系统和处理系统的位移估计系统。 数据采集​​系统被配置为在第一时间从包括第一图案的第一基板和包括第二图案的第二基板捕获第一帧，并从包括第三图案的第三基板和包括第三图案的第四基板捕获第二帧 第四模式在第一次之后的第二时间。 第一图案和第三图案基本相同，第二图案和第四图案基本相同。 处理系统被配置为使用第一帧和第二帧来计算第一图案和第三图案之间的第一位移，并且使用第一帧和第二帧计算第二图案和第四图案之间的第二位移。

公开(公告)号：US07641468B2

公开(公告)日：2010-01-05

申请号：US10931672

申请日：2004-09-01

申请人： Wei Wu ,  William M. Tong ,  Jun Gao ,  Carl Picciotto

发明人： Wei Wu ,  William M. Tong ,  Jun Gao ,  Carl Picciotto

IPC分类号： B29D17/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： An imprint apparatus and method employ an effective pressure in imprint lithography. The imprint apparatus includes a compressible chamber that encloses an imprint mold having a mold pattern and a sample to be imprinted. The chamber is compressed to imprint the mold pattern on the sample. The mold is pressed against the sample with the effective pressure. The effective pressure is controlled by a selected ratio of a cavity area of the chamber to a contact area between the mold and the sample.

摘要翻译： 压印设备和方法在压印光刻中采用有效压力。 压印装置包括可压缩室，其包围具有模具图案和要印刷的样品的压印模具。 压缩室以将模具图案压印在样品上。 模具以有效的压力压在样品上。 有效压力通过腔室的空腔面积与模具和样品之间的接触面积的选定比例来控制。

公开(公告)号：US20080084006A1

公开(公告)日：2008-04-10

申请号：US11548216

申请日：2006-10-10

申请人： Jun Gao ,  Wei Wu ,  Carl Picciotto

发明人： Jun Gao ,  Wei Wu ,  Carl Picciotto

IPC分类号： B29C59/00

CPC分类号： G03F7/2014 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： A contact lithography apparatus, system and method use a hydraulic deformation to facilitate pattern transfer. The apparatus, system and method include a spacer that provides a spaced apart proximal orientation of lithographic elements, and a hydraulic force member that provides the hydraulic deformation. One or more of the lithographic elements and the spacer is deformable, such that hydraulic deformation thereof facilitates the pattern transfer.

摘要翻译： 接触式光刻设备，系统和方法使用液压变形来促进图案转印。 装置，系统和方法包括提供光刻元件的间隔开的近端取向的间隔件，以及提供液压变形的液压力构件。 一个或多个光刻元件和间隔件是可变形的，使得其液压变形有利于图案转印。

公开(公告)号：US20080026305A1

公开(公告)日：2008-01-31

申请号：US11492838

申请日：2006-07-26

申请人： Wei Wu ,  William M. Tong ,  Jun Gao ,  Carl Picciotto

发明人： Wei Wu ,  William M. Tong ,  Jun Gao ,  Carl Picciotto

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03B27/42 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F9/7069 ,  G03F9/7065 ,  G03F9/7088

摘要： A method and system are disclosed for aligning a lithography template having a pattern with a substrate in preparation for transferring the pattern to a surface of the substrate. The system includes an optical imaging system adapted to image a first alignment structure formed on a top surface of the template using light of a first wavelength and a second alignment structure formed on a top surface of the substrate using light of a second wavelength.

摘要翻译： 公开了一种方法和系统，用于将具有图案的光刻模板与衬底对准以准备将图案转移到衬底的表面。 该系统包括光学成像系统，其适于使用第二波长的光形成在基板的顶表面上的第一波长的光和形成在第二对准结构上的形成在模板的顶表面上的第一对准结构。

公开(公告)号：US20080094629A1

公开(公告)日：2008-04-24

申请号：US11584461

申请日：2006-10-20

申请人： Wei Wu ,  Warren Robinett ,  Shih-Yuan Wang ,  Jun Gao ,  Zhaoning Yu

发明人： Wei Wu ,  Warren Robinett ,  Shih-Yuan Wang ,  Jun Gao ,  Zhaoning Yu

IPC分类号： G01B11/00

CPC分类号： G03F9/7049 ,  G03F9/7003

摘要： Lithography tools and substrates are aligned by generating geometric interference patterns using optical gratings associated with the lithography tools and substrates. In some embodiments, the relative position between a substrate and lithography tool is adjusted to cause at least one geometric shape to have a predetermined size or shape representing acceptable alignment. In additional embodiments, Moiré patterns that exhibit varying sensitivity are used to align substrates and lithography tools. Furthermore, lithography tools and substrates are aligned by causing radiation to interact with optical gratings positioned between the lithography tools and substrates. Lithography tools include an optical grating configured to generate a portion of an interference pattern that exhibits a sensitivity that increases as the relative position between the tools and a substrate moves towards a predetermined alignment position.

摘要翻译： 通过使用与光刻工具和衬底相关的光栅产生几何干涉图案来对准平版印刷工具和衬底。 在一些实施例中，调整衬底和光刻工具之间的相对位置以使得至少一个几何形状具有表示可接受对准的预定尺寸或形状。 在另外的实施例中，使用呈现不同灵敏度的莫尔图案来对准衬底和光刻工具。 此外，光刻工具和衬底通过使辐射与位于光刻工具和衬底之间的光栅相互作用来对准。 平版印刷工具包括光栅，其被配置为产生表现出灵敏度的一部分干涉图案，该灵敏度随着工具和基板之间的相对位置朝向预定对准位置移动而增加。

公开(公告)号：US07226797B2

公开(公告)日：2007-06-05

申请号：US10995837

申请日：2004-11-23

申请人： William M. Tong ,  Wei Wu ,  Jun Gao ,  Carl E. Picciotto

发明人： William M. Tong ,  Wei Wu ,  Jun Gao ,  Carl E. Picciotto

IPC分类号： H01L21/00

CPC分类号： G06T7/0004

摘要： Using an imaging system in relation to a plurality of material layers in an initial alignment state is provided, a first of the plurality of material layers at least partially obscuring a second of the plurality of material layers in the initial alignment state. The first material layer is moved from a first position corresponding to the initial alignment state to a second position out of a field of view of the imaging system, and a first image of the second material layer is stored. The first material layer is moved back the first position to restore the initial alignment state. A second image of the first material layer is acquired. The second image and the stored first image are processed to determine the initial alignment state.

摘要翻译： 提供了在初始对准状态下相对于多个材料层使用成像系统，多个材料层中的第一个在初始对准状态下至少部分地遮蔽多个材料层中的第二个材料层。 第一材料层从对应于初始取向状态的第一位置移动到成像系统的视野外的第二位置，并且存储第二材料层的第一图像。 第一材料层被移回第一位置以恢复初始对准状态。 获取第一材料层的第二图像。 处理第二图像和存储的第一图像以确定初始对准状态。

公开(公告)号：US07085673B2

公开(公告)日：2006-08-01

申请号：US10930614

申请日：2004-08-31

申请人： Carl E. Picciotto ,  Jun Gao ,  Wei Wu

发明人： Carl E. Picciotto ,  Jun Gao ,  Wei Wu

IPC分类号： G01B21/02 ,  G06K9/32

CPC分类号： G06T7/20 ,  G06T7/70

摘要： A displacement estimation system including a data acquisition system and a processing system is provided. The data acquisition system is configured to capture a first frame from a first substrate including a first pattern and a second substrate including a second pattern at a first time and capture a second frame from a third substrate including a third pattern and a fourth substrate including a fourth pattern at a second time subsequent to the first time. The first pattern and the third pattern are substantially identical, and the second pattern and the fourth pattern are substantially identical. The processing system is configured to calculate a first displacement between the first pattern and the third pattern using the first frame and the second frame and calculate a second displacement between the second pattern and the fourth pattern using the first frame and the second frame.

摘要翻译： 提供了包括数据采集系统和处理系统的位移估计系统。 数据采集​​系统被配置为在第一时间从包括第一图案的第一基板和包括第二图案的第二基板捕获第一帧，并从包括第三图案的第三基板和包括第三图案的第四基板捕获第二帧 第四模式在第一次之后的第二时间。 第一图案和第三图案基本相同，第二图案和第四图案基本相同。 处理系统被配置为使用第一帧和第二帧来计算第一图案和第三图案之间的第一位移，并且使用第一帧和第二帧计算第二图案和第四图案之间的第二位移。