公开(公告)号：US06795474B2

公开(公告)日：2004-09-21

申请号：US10000991

申请日：2001-11-14

申请人： William N. Partlo ,  Richard L. Sandstrom ,  Holzer K. Glatzel ,  Raymond F. Cybulski ,  Peter C. Newman ,  James K. Howey ,  William G. Hulburd ,  John T. Melchior ,  Alex P. Ivaschenko

发明人： William N. Partlo ,  Richard L. Sandstrom ,  Holzer K. Glatzel ,  Raymond F. Cybulski ,  Peter C. Newman ,  James K. Howey ,  William G. Hulburd ,  John T. Melchior ,  Alex P. Ivaschenko

IPC分类号： H01S322

CPC分类号： G03F7/70025 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/02 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0401 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/097 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/1024 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2366

摘要： An excimer laser with a purged beam path capable of producing a high quality pulsed laser beam at pulse rates in excess of 2,000 Hz at pulse energies of about 5 mJ or greater. The entire purged beam path through the laser system is sealed to minimize contamination of the beam path. A preferred embodiment comprises a thermally decoupled LNP aperture element to minimize thermal distortions in the LNP. This preferred embodiment is an ArF excimer laser specifically designed as a light source for integrated circuit lithography. An improved wavemeter is provided with a special purge of a compartment exposed to the output laser beam.

摘要翻译： 具有清除光束路径的准分子激光器，其能够以大约5mJ或更大的脉冲能量产生超过2000Hz的脉冲速率的高质量脉冲激光束。 通过激光系统的整个清除的光束路径被密封以最小化光束路径的污染。 优选实施例包括热去耦LNP孔元件以最小化LNP中的热失真。 该优选实施例是专门设计为用于集成电路光刻的光源的ArF准分子激光器。 改进的波形计提供了暴露于输出激光束的隔室的特殊吹扫。