利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

12 条记录 (耗时 0.024 秒)

    Process for the selective hydroformylation of terminal olefin groups and its use in the preparation of 1,4-butanedial monoacetal
    2.
    发明授权
    Process for the selective hydroformylation of terminal olefin groups and its use in the preparation of 1,4-butanedial monoacetal 失效
    末端烯烃基团的选择性羰基化方法及其在1,4-丁二醛单缩醛的制备中的应用

    公开(公告)号：US5606079A

    公开(公告)日：1997-02-25

    申请号：US453762

    申请日：1995-05-30

    申请人： Shuji Ichikawa ,  Akiko Fujita ,  Naoko Sumitani ,  Yuji Ohgomori

    发明人： Shuji Ichikawa ,  Akiko Fujita ,  Naoko Sumitani ,  Yuji Ohgomori

    IPC分类号： B01J31/24 ,  C07B61/00 ,  C07D319/06 ,  C07F9/655

    CPC分类号： C07F9/65515 ,  C07D319/06

    摘要： A process for producing 1,4-butanedial monoacetal by reacting acrolein acetal with a synthesis gas containing carbon monoxide and hydrogen, in the presence of a rhodium catalyst and an accelerator of formula (I) ##STR1## wherein R.sup.1 and R.sup.2 each, independently, denote a hydrogen atom, a C.sub.1 -C.sub.20 alkyl group or a C.sub.6 -C.sub.20 aryl group, or R.sup.1 and R.sup.2 together form a --(CH.sub.2).sub.n -- group, n is an integer of from 2 to 7, R.sup.3 and R.sup.4 each, independently, denote halogen or a trifluoromethyl group, and p and q are each, independently, an integer of from 0 to 3, which process can also be extended to the hydroformylation of other compounds which contain an olefin group in a terminal position.

    摘要翻译： 在铑催化剂和式（I）的促进剂存在下，使丙烯醛缩醛与含有一氧化碳和氢气的合成气反应制备1,4-丁二醛单缩醛的方法，其中R1和R2各自 独立地表示氢原子，C 1 -C 20烷基或C 6 -C 20芳基，或者R 1和R 2一起形成 - （CH 2）n - 基，n是2至7的整数，R 3和R 4 各自独立地表示卤素或三氟甲基，p和q各自独立地为0-3的整数，该方法也可以扩展到在末端含有烯烃基团的其它化合物的加氢甲酰基化。

    Method of producing aromatic carbonate
    3.
    发明授权
    Method of producing aromatic carbonate 失效
    芳香族碳酸酯的制造方法

    公开(公告)号：US5726340A

    公开(公告)日：1998-03-10

    申请号：US796673

    申请日：1997-03-04

    申请人： Masatoshi Takagi ,  Katsufumi Kujira ,  Takahiro Yoneyama ,  Yuji Ohgomori

    发明人： Masatoshi Takagi ,  Katsufumi Kujira ,  Takahiro Yoneyama ,  Yuji Ohgomori

    IPC分类号： B01J27/135 ,  B01J31/26 ,  C07B61/00 ,  C07C68/00 ,  C07C69/96

    CPC分类号： C07C68/005 ,  Y10T307/729 ,  Y10T307/944 ,  Y10T307/951

    摘要： The present invention relates to a method of producing an aromatic carbonate by reacting an aromatic hydroxy compound, carbon monoxide, and oxygen, wherein the reaction is carried out in the presence of a catalyst comprising: (A) at least one selected from palladium and palladium compounds; (B) at least one lead compound; (C) at least one cobalt compound; and, (D) at least one halide. According to this method an aromatic carbonate which produces only a small amount of impurities and has excellent selectivity can be produced.

    摘要翻译： 本发明涉及通过使芳族羟基化合物，一氧化碳和氧气反应制备芳族碳酸酯的方法，其中反应在催化剂存在下进行，所述催化剂包含：（A）至少一种选自钯和钯 化合物 （B）至少一种铅化合物; （C）至少一种钴化合物; 和（D）至少一种卤化物。 根据该方法，可以生产仅产生少量杂质并具有优异选择性的芳族碳酸酯。

    RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
    4.
    发明申请
    RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN 有权
    树脂，耐蚀组合物和形成耐力图案的方法

    公开(公告)号：US20100159389A1

    公开(公告)日：2010-06-24

    申请号：US12160742

    申请日：2006-12-26

    申请人： Masaru Takeshita ,  Jun Iwashita ,  Takeshi Iwai ,  Yuji Ohgomori

    发明人： Masaru Takeshita ,  Jun Iwashita ,  Takeshi Iwai ,  Yuji Ohgomori

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C08F224/00

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0382 ,  Y10S430/111

    摘要： A resist composition including a base resin component (A) and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the component (A) including a resin (A1) which has a structural unit (a0) represented by general formula (a-0) shown below: wherein R represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; a represents an integer of 0 to 2; b represents an integer of 1 to 3; c represents an integer of 1 to 2; and a+b is an integer of 2 or more.

    摘要翻译： 包含曝光时产生酸的基础树脂组分（A）和酸产生剂组分（B）的抗蚀剂组合物包括具有由通式（a）表示的结构单元（a0）的树脂（A1）的组分（A） a-0）：其中R表示氢原子，卤素原子，低级烷基或卤代低级烷基; a表示0〜2的整数， b表示1〜3的整数， c表示1〜2的整数， a + b为2以上的整数。

    Resin, resist composition and method of forming resist pattern
    6.
    发明授权
    Resin, resist composition and method of forming resist pattern 有权
    树脂，抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法

    公开(公告)号：US07939243B2

    公开(公告)日：2011-05-10

    申请号：US12160742

    申请日：2006-12-26

    申请人： Masaru Takeshita ,  Jun Iwashita ,  Takeshi Iwai ,  Yuji Ohgomori

    发明人： Masaru Takeshita ,  Jun Iwashita ,  Takeshi Iwai ,  Yuji Ohgomori

    IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  C08F24/00

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0382 ,  Y10S430/111

    摘要： A resist composition including a base resin component (A) and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the component (A) including a resin (A1) which has a structural unit (a0) represented by general formula (a-0) shown below: wherein R represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; a represents an integer of 0 to 2; b represents an integer of 1 to 3; c represents an integer of 1 to 2; and a+b is an integer of 2 or more.

    摘要翻译： 包含曝光时产生酸的基础树脂组分（A）和酸产生剂组分（B）的抗蚀剂组合物包括具有由通式（a）表示的结构单元（a0）的树脂（A1）的组分（A） a-0）：其中R表示氢原子，卤素原子，低级烷基或卤代低级烷基; a表示0〜2的整数， b表示1〜3的整数， c表示1〜2的整数， a + b为2以上的整数。

    TETRACARBOXYLIC ACID COMPOUND, POLYIMIDE THEREOF, AND PRODUCTION METHOD THEREOF
    8.
    发明申请
    TETRACARBOXYLIC ACID COMPOUND, POLYIMIDE THEREOF, AND PRODUCTION METHOD THEREOF 有权
    四羧酸类化合物，其聚酰亚胺及其制备方法

    公开(公告)号：US20090182114A1

    公开(公告)日：2009-07-16

    申请号：US12093685

    申请日：2006-11-14

    申请人： Haruhiko Kusaka ,  Yuji Ohgomori ,  Masashi Yamanashi

    发明人： Haruhiko Kusaka ,  Yuji Ohgomori ,  Masashi Yamanashi

    IPC分类号： C08G73/16 ,  C07C61/13 ,  C07D407/12 ,  C07D307/60 ,  C08G63/40 ,  C07D403/12 ,  C07C69/753

    CPC分类号： C08G73/16 ,  C07D307/93 ,  C08G73/1046 ,  C08G73/105 ,  C08G73/1075 ,  C08G73/1078 ,  G02F1/133723 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31507

    摘要： Disclosed is a novel tetracarboxylic acid compound having excellent characteristics such as high transparency, low dielectric property, low water absorption, low thermal expansion, solvent solubility and etching characteristics, while exhibiting high heat resistance at the same time. This tetracarboxylic acid compound is useful as a raw material monomer for producing a polyesterimide or a polyamideimide. Specifically disclosed is a tetracarboxylic acid compound represented by the general formula (1) or (2) below. In the formulae, A represents a divalent group; X1, X2 and X3 respectively represent a hydrogen atom or the like; R1, R2, R3 and R4 respectively represent a carboxyl group or an acid anhydride group; n represents 1 or 2; and ring B represents a cyclic group.

    摘要翻译： 公开了具有高透明性，低介电性，低吸水性，低热膨胀性，溶剂溶解性和蚀刻特性等优异特性的新型四羧酸化合物，同时具有高耐热性。 该四羧酸化合物可用作生产聚酯酰亚胺或聚酰胺酰亚胺的原料单体。 具体公开了下述通式（1）或（2）表示的四羧酸化合物。 在该式中，A表示二价基团; X1，X2和X3分别表示氢原子等; R1，R2，R3和R4分别表示羧基或酸酐基; n表示1或2; 环B表示环状基团。

    (METH) ACRYLOYLOXYTETRAHYDROFURANS AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF
    9.
    发明申请
    (METH) ACRYLOYLOXYTETRAHYDROFURANS AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF 审中-公开
    （METH）丙烯酰氧基聚四氢呋喃及其生产方法

    公开(公告)号：US20090076201A1

    公开(公告)日：2009-03-19

    申请号：US11915043

    申请日：2006-03-16

    申请人： Haruhiko Kusaka ,  Hiroko Takahashi ,  Yuji Ohgomori ,  Kaoru Hamashima ,  Gan Wen ,  Taketoshi Naito

    发明人： Haruhiko Kusaka ,  Hiroko Takahashi ,  Yuji Ohgomori ,  Kaoru Hamashima ,  Gan Wen ,  Taketoshi Naito

    IPC分类号： C08K5/1535 ,  C07D307/12 ,  C09K3/00

    CPC分类号： C07D307/20 ,  C08F220/28

    摘要： The present invention provides a (meth)acrylate containing a heterocyclic ring, which is a structure necessary for achieving physical properties required in many fields, and a hydrophilic group in the same monomer molecule and further provides a process for producing the same from industrially easily-available starting materials by industrially feasible reactions.A (meth)acryloyloxytetrahydrofuran having a structure represented by the following general formula (1): wherein R1 and R2 each is a hydrogen atom or a (meth)acryloyl group represented by the following general formula (2) and at least one of R1 and R2 is a (meth)acryloyl group represented by the general formula (2).

    摘要翻译： 本发明提供了含有杂环的（甲基）丙烯酸酯，其为实现许多领域所需的物理性能所必需的结构，并且在同一单体分子中提供亲水基团，并进一步提供其工业上容易制备的方法， 可用的原料通过工业上可行的反应。 具有由以下通式（1）表示的结构的（甲基）丙烯酰氧基四氢呋喃：其中R1和R2各自为氢原子或由以下通式（2）表示的（甲基）丙烯酰基，R1和 R2是由通式（2）表示的（甲基）丙烯酰基。

    Process for Producing 2-Methyladamantan-2-Yl (Meth)Acrylate and 2-Methyladamantan-2-Yl (Meth)Acrylate
    10.
    发明申请
    Process for Producing 2-Methyladamantan-2-Yl (Meth)Acrylate and 2-Methyladamantan-2-Yl (Meth)Acrylate 审中-公开
    制备2-甲基金刚烷-2-基（甲基）丙烯酸酯和2-甲基金刚烷-2-基（甲基）丙烯酸酯的方法

    公开(公告)号：US20080051597A1

    公开(公告)日：2008-02-28

    申请号：US11573843

    申请日：2004-08-19

    申请人： Hidekichi Hashimoto ,  Kaoru Hamashima ,  Shigenori Kawamura ,  Toshiyuki Suzuki ,  Yuji Ohgomori

    发明人： Hidekichi Hashimoto ,  Kaoru Hamashima ,  Shigenori Kawamura ,  Toshiyuki Suzuki ,  Yuji Ohgomori

    IPC分类号： C07C69/74

    CPC分类号： C07C67/54 ,  C07C67/04 ,  C07C2603/74 ,  C07C69/54

    摘要： An object of the present invention is to provide a process for purifying 2-methyladamantan-2-yl(meth)acrylate with high separation efficiency and an industrially advantageous preparation process of 2-methyladamantan-2-yl(meth)acrylate. The present invention pertains to a preparation process of 2-methyladamantan-2-yl(meth)acrylate which comprises reacting 2-methyleneadamantane and (meth)acrylic acid by an acid catalyst to obtain a reaction mixture, and then separating 2-methyleneadamantane from the reaction mixture to obtain 2-methyladamantan-2-yl(meth)acrylate, wherein the reaction mixture is distilled in the presence of an organic compound having a boiling point, under atmospheric pressure, of 150° C. or greater but not greater than 260° C.

    摘要翻译： 本发明的目的是提供一种高分离效率的2-甲基金刚烷-2-基（甲基）丙烯酸酯和（甲基）丙烯酸2-甲基金刚烷-2-基的工业上有利的制备方法。 本发明涉及2-甲基金刚烷-2-基（甲基）丙烯酸酯的制备方法，其包括使2-亚甲基金刚烷与（甲基）丙烯酸通过酸催化剂反应得到反应混合物，然后将2-亚甲基金刚烷与 反应混合物，得到2-甲基金刚烷-2-基（甲基）丙烯酸酯，其中反应混合物在沸点有机化合物存在下，在大气压下，150℃以上但不大于260℃蒸馏 C。