公开(公告)号：US4324856A

公开(公告)日：1982-04-13

申请号：US194799

申请日：1980-10-07

申请人： Satoshi Kawakatsu ,  Shigeto Hirabayashi ,  Hidetaka Ninomiya ,  Yutaka Kaneko

发明人： Satoshi Kawakatsu ,  Shigeto Hirabayashi ,  Hidetaka Ninomiya ,  Yutaka Kaneko

IPC分类号： G03C7/30 ,  G03C1/06 ,  G03C1/09 ,  G03C1/42 ,  G03C5/30 ,  G03C5/305 ,  G03C5/50 ,  G03C7/392 ,  G03C1/34

CPC分类号： G03C5/50 ,  G03C1/09 ,  G03C5/30 ,  G03C5/305 ,  G03C7/39288 ,  Y10S430/156 ,  Y10S430/158 ,  Y10S430/16 ,  Y10S430/161

摘要： A photographic silver halide material is disclosed which contains a precursor of photographic chemicals.

摘要翻译： 公开了含有照相化学品前体的照相卤化银材料。

公开(公告)号：US4297441A

公开(公告)日：1981-10-27

申请号：US163347

申请日：1980-06-26

申请人： Yutaka Kaneko ,  Satoshi Kawakatsu ,  Shigeto Hirabayashi ,  Hidetaka Ninomiya

发明人： Yutaka Kaneko ,  Satoshi Kawakatsu ,  Shigeto Hirabayashi ,  Hidetaka Ninomiya

IPC分类号： G03C7/30 ,  C07F5/02 ,  G03C1/015 ,  G03C1/06 ,  G03C1/34 ,  G03C1/42 ,  G03C5/30 ,  G03C5/305 ,  G03C7/392

CPC分类号： G03C1/34 ,  C07F5/027 ,  G03C1/015 ,  G03C1/42 ,  G03C5/3021 ,  G03C5/305 ,  G03C7/39208 ,  G03C2200/06

摘要： This invention relates to photographic materials containing an ion pair compound which has a quaternary nitrogen atom as a cation and a boron compound as an anion.

摘要翻译： 本发明涉及含有作为阳离子的季氮原子和作为阴离子的硼化合物的离子对化合物的照相材料。

公开(公告)号：US4297437A

公开(公告)日：1981-10-27

申请号：US209582

申请日：1980-11-24

申请人： Yutaka Kaneko ,  Shigeto Hirabayashi ,  Satoshi Kawakatsu ,  Hidetaka Ninomiya

发明人： Yutaka Kaneko ,  Shigeto Hirabayashi ,  Satoshi Kawakatsu ,  Hidetaka Ninomiya

IPC分类号： G03C1/42 ,  G03C7/30 ,  G03C7/44 ,  G03C7/00

CPC分类号： G03C7/44

摘要： A method for processing an exposed color photographic material containing a color developing agent or precursor by developing with a color developer which is replenished.

摘要翻译： 一种通过用补充的彩色显影剂显影来处理含有彩色显影剂或前体的曝光的彩色照相材料的方法。

公开(公告)号：US5011766A

公开(公告)日：1991-04-30

申请号：US460803

申请日：1990-01-04

申请人： Shuji Kida ,  Hiroshi Kita ,  Shigeto Hirabayashi ,  Yutaka Kaneko

发明人： Shuji Kida ,  Hiroshi Kita ,  Shigeto Hirabayashi ,  Yutaka Kaneko

IPC分类号： C07D487/04 ,  G03C7/305 ,  G03C7/38

CPC分类号： C07D487/04 ,  G03C7/30529 ,  G03C7/3825

摘要： A silver halide color photographic light-sensitive material is disclosed, which is improved in the color forming efficiency, the color reproducibility and the resistivity of color image against heat and humidity. The photographic material comprises a silver halide emulsion layer which contains a pyrazoloazole type cyan coupler having a group represented by Formula I which is directly bonded to the azole ring of the pyrazoloazole coupler:--(X.dbd.Y)n--R.sub.1 (I)wherein X and Y each is a substituted or unsubstituted methine group or a nitrogen atom; R.sub.1 is a hydrogen atom or a substituent; and n is an integer of 1 or 2, provided that two of Xs and two of Ys may be the same or different from each other when n is 2, and two of either X, Y and R.sub.1 are allowed to be bonded each other to form a ring other than benzene ring.

公开(公告)号：US4871658A

公开(公告)日：1989-10-03

申请号：US279081

申请日：1988-12-02

申请人： Eiichi Sakamoto ,  Yutaka Kaneko ,  Hidetaka Ninomiya ,  Takashi Kamio ,  Atsuo Ezaki ,  Hideo Akamatsu ,  Hideaki Haraga

发明人： Eiichi Sakamoto ,  Yutaka Kaneko ,  Hidetaka Ninomiya ,  Takashi Kamio ,  Atsuo Ezaki ,  Hideo Akamatsu ,  Hideaki Haraga

IPC分类号： G03C1/34 ,  G03C7/392

CPC分类号： G03C1/34 ,  G03C7/3926

摘要： A silver halide photographic material is disclosed which comprises a support coated with photographic layers including one or more silver halide emulsion layers, at least one of said silver halide emulsion layers containing silver halide grains with a silver iodide content of 3.0-15 mol %, and at least one of said photographic layers containing a compound represented by the following general formula (I): ##STR1## where Y is an aromatic group or a 5- or 6-membered heterocyclic group.

摘要翻译： 公开了一种卤化银照相材料，其包括涂覆有包含一种或多种卤化银乳剂层的照相层的载体，所述卤化银乳剂层中至少一种含有碘化银颗粒的碘化银含量为3.0-15mol％，以及 所述照相层中的至少一个包含由以下通式（I）表示的化合物：其中Y是芳族基团或5或6元杂环基团。

公开(公告)号：US4675280A

公开(公告)日：1987-06-23

申请号：US785545

申请日：1985-10-08

申请人： Yutaka Kaneko ,  Kenji Kadokura ,  Toshihiko Kimura ,  Noritaka Nakayama ,  Satoshi Kawakatsu ,  Katsunori Katoh ,  Kaoru Shinozaki

发明人： Yutaka Kaneko ,  Kenji Kadokura ,  Toshihiko Kimura ,  Noritaka Nakayama ,  Satoshi Kawakatsu ,  Katsunori Katoh ,  Kaoru Shinozaki

IPC分类号： G03C7/30 ,  G03C7/38 ,  G03C1/08 ,  G03C7/26

CPC分类号： G03C7/3835 ,  G03C7/301

摘要： A silver halide color photographic material that has at least one silver halide emulsion layer on a support is disclosed. Said silver halide emulsion layer contains at least one magenta coupler having the following formula: ##STR1## wherein R.sub.1 is a tertiary alkyl group; R.sub.2 is a primary alkyl group; and X is a halogen atom.

摘要翻译： 公开了一种在载体上具有至少一个卤化银乳剂层的卤化银彩色照相材料。 所述卤化银乳剂层含有至少一种具有下式的品红成色剂：其中R1是叔烷基; R2是伯烷基; X为卤素原子。

公开(公告)号：US4451558A

公开(公告)日：1984-05-29

申请号：US500270

申请日：1983-06-02

申请人： Hiroshi Sugita ,  Satoshi Kawakatsu ,  Yutaka Kaneko

发明人： Hiroshi Sugita ,  Satoshi Kawakatsu ,  Yutaka Kaneko

IPC分类号： G03C7/26 ,  G03C7/30 ,  G03C7/34 ,  G03C7/388

CPC分类号： G03C7/3006 ,  G03C7/3885 ,  G03C2007/3034

摘要： A silver halide color photographic light-sensitive material containing a phenol cyan coupler having an ureido group in the 2-position dispersed in a phthalic ester.

摘要翻译： 含有2位上具有脲基的苯酚青色成色剂的卤化银彩色照相感光材料分散在邻苯二甲酸酯中。

公开(公告)号：US08604430B2

公开(公告)日：2013-12-10

申请号：US13366874

申请日：2012-02-06

申请人： Yuko Iwabuchi ,  Hideo Todokoro ,  Hiroyoshi Mori ,  Mitsugu Sato ,  Yasutsugu Usami ,  Mikio Ichihashi ,  Satoru Fukuhara ,  Hiroyuki Shinada ,  Yutaka Kaneko ,  Katsuya Sugiyama ,  Atsuko Takafuji ,  Hiroshi Toyama

发明人： Yuko Iwabuchi ,  Hideo Todokoro ,  Hiroyoshi Mori ,  Mitsugu Sato ,  Yasutsugu Usami ,  Mikio Ichihashi ,  Satoru Fukuhara ,  Hiroyuki Shinada ,  Yutaka Kaneko ,  Katsuya Sugiyama ,  Atsuko Takafuji ,  Hiroshi Toyama

IPC分类号： H01J37/28

CPC分类号： H01J37/28 ,  G01N23/20 ,  G01N23/2251 ,  G03F7/7065 ,  G06T7/001 ,  G06T2207/10056 ,  G06T2207/30148 ,  H01J37/04 ,  H01J37/20 ,  H01J37/265 ,  H01J2237/04756 ,  H01J2237/20221 ,  H01J2237/2444 ,  H01J2237/24592 ,  H01J2237/2817 ,  H01J2237/31766

摘要： The inspection apparatus disclosed generates an electron beam, an acceleration electrode accelerates the electron beam, a convergence lens converges the electron beam, an electron beam deflector scans the beam over a sample, an objective lens converges the electron beam on the sample, a detector located between the sample and the objective lens detects charged particles emitted from the sample, a power supply applies a retarding voltage to the sample for decelerating the electron beam to the sample, an electrode is disposed between the objective lens and the sample, and a voltage is generated between the sample and the electrode by said electrode, the voltage being determined depending on the sample. The apparatus solves problems encountered in conventional inspection systems.

摘要翻译： 所公开的检查装置产生电子束，加速电极加速电子束，会聚透镜会聚电子束，电子束偏转器扫描样品上的光束，物镜会将电子束会聚在样品上，检测器位于 在样品和物镜之间检测从样品发射的带电粒子，电源向样品施加延迟电压以将电子束减速到样品，电极设置在物镜和样品之间，电压为 通过所述电极在样品和电极之间产生，电压根据样品确定。 该装置解决了常规检测系统遇到的问题。

公开(公告)号：US07417444B2

公开(公告)日：2008-08-26

申请号：US11269617

申请日：2005-11-09

申请人： Hiroyuki Shinada ,  Mari Nozoe ,  Haruo Yoda ,  Kimiaki Ando ,  Katsuhiro Kuroda ,  Yutaka Kaneko ,  Maki Tanaka ,  Shunji Maeda ,  Hitoshi Kubota ,  Aritoshi Sugimoto ,  Katsuya Sugiyama ,  Atsuko Takafuji ,  Yusuke Yajima ,  Hiroshi Tooyama ,  Tadao Ino ,  Takashi Hiroi ,  Kazushi Yoshimura ,  Yasutsugu Usami

发明人： Hiroyuki Shinada ,  Mari Nozoe ,  Haruo Yoda ,  Kimiaki Ando ,  Katsuhiro Kuroda ,  Yutaka Kaneko ,  Maki Tanaka ,  Shunji Maeda ,  Hitoshi Kubota ,  Aritoshi Sugimoto ,  Katsuya Sugiyama ,  Atsuko Takafuji ,  Yusuke Yajima ,  Hiroshi Tooyama ,  Tadao Ino ,  Takashi Hiroi ,  Kazushi Yoshimura ,  Yasutsugu Usami

IPC分类号： G01R31/305 ,  H01J37/28

CPC分类号： G01R31/305 ,  G01R31/307 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/2817

摘要： A circuit pattern inspection method and an apparatus therefor, in which the whole of a portion to be inspected of a sample to be inspected is made to be in a predetermined charged state, the portion to be inspected is irradiated with an image-forming high-density electron beam while scanning the electron beam, secondary charged particles are detected at a portion irradiated with the electron beam after a predetermined period of time from an instance when the electron beam is irradiated, an image is formed on the basis of the thus detected secondary charged particle signal, and the portion to be inspected is inspected by using the thus formed image.

摘要翻译： 一种电路图案检查方法及其装置，其中待检查样品的待检查部分的整个部分被制成处于预定的充电状态，被检查的部分用图像形成高分辨率照射， 在扫描电子束时，在从电子束照射的时刻起经过规定的时间后，在照射电子束的部分检测到二次带电粒子，根据这样检测的次级 通过使用如此形成的图像来检查带电粒子信号，并检查待检查的部分。

公开(公告)号：US07026830B2

公开(公告)日：2006-04-11

申请号：US10379555

申请日：2003-03-06

申请人： Hiroyuki Shinada ,  Mari Nozoe ,  Haruo Yoda ,  Kimiaki Ando ,  Katsuhiro Kuroda ,  Yutaka Kaneko ,  Maki Tanaka ,  Shunji Maeda ,  Hitoshi Kubota ,  Aritoshi Sugimoto ,  Katsuya Sugiyama ,  Atsuko Takafuji ,  Yusuke Yajima ,  Hiroshi Tooyama ,  Tadao Ino ,  Takashi Hiroi ,  Kazushi Yoshimura ,  Yasutsugu Usami

发明人： Hiroyuki Shinada ,  Mari Nozoe ,  Haruo Yoda ,  Kimiaki Ando ,  Katsuhiro Kuroda ,  Yutaka Kaneko ,  Maki Tanaka ,  Shunji Maeda ,  Hitoshi Kubota ,  Aritoshi Sugimoto ,  Katsuya Sugiyama ,  Atsuko Takafuji ,  Yusuke Yajima ,  Hiroshi Tooyama ,  Tadao Ino ,  Takashi Hiroi ,  Kazushi Yoshimura ,  Yasutsugu Usami

IPC分类号： G01R31/305 ,  G01R31/28

CPC分类号： G01R31/305 ,  G01R31/307 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/2817

摘要： To make possible the in-line inspection of a pattern of an insulating material.A patterned wafer 40 formed with a pattern by a resist film is placed on a specimen table 21 of a patterned wafer inspection apparatus 1 in opposed relation to a SEM 3. An electron beam 10 of a large current is emitted from an electron gun 11 and the pattern of the patterned wafer is scanned only once at a high scanning rate. The secondary electrons generated by this scanning from the patterned wafer are detected by a secondary electron detector 16 thereby to acquire an electron beam image. Using this electron beam image, the comparative inspection is conducted on the patterned wafer through an arithmetic operation unit 32 and a defect determining unit 33. Since an electron beam image of high contrast can be obtained by scanning an electron beam only once, a patterned wafer inspection method using a SEM can be implemented in the IC fabrication method.

摘要翻译： 使绝缘材料的图案能够在线检查。 通过抗蚀剂膜形成图案的图案化晶片40与SEM 3相对地放置在图案化晶片检查装置1的样本台21上。 从电子枪11发射大电流的电子束10，以高扫描速度扫描图案化晶片的图案一次。 通过二次电子检测器16检测来自图案化晶片的该扫描产生的二次电子，从而获得电子束图像。 使用该电子束图像，通过算术运算单元32和缺陷判定单元33对图案化晶片进行比较检查。由于可以通过仅扫描电子束一次来获得高对比度的电子束图像，因此图案化晶片 使用SEM的检查方法可以在IC制造方法中实现。