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公开(公告)号:WO2015085641A1
公开(公告)日:2015-06-18
申请号:PCT/CN2013/091251
申请日:2013-12-31
申请人: 深圳市华星光电技术有限公司
发明人: 徐向阳
IPC分类号: G02F1/1343 , G02F1/1362 , H01L27/12
CPC分类号: G02F1/136286 , G02F1/133345 , G02F1/133512 , G02F1/133514 , G02F1/1339 , G02F1/13439 , G02F1/136209 , G02F1/1368 , G02F2001/133302 , G02F2001/134372 , G02F2001/13606 , G02F2001/136295 , G02F2201/121 , G02F2201/123 , G02F2202/103 , H01L21/02274 , H01L21/02532 , H01L21/02592 , H01L21/0262 , H01L21/0274 , H01L27/1218 , H01L27/1222 , H01L27/124 , H01L27/1259 , H01L27/1262 , H01L27/127 , H01L29/42364 , H01L29/42372 , H01L29/4908 , H01L29/495 , H01L29/66765 , H01L29/78633 , H01L29/78669
摘要: 一种阵列基板,该阵列基板包括:第一基板(32)、形成于第一基板(32)上的栅极线、形成于第一基板(32)上的数据线(34)、形成于第一基板(32)上的薄膜晶体管阵列、形成于薄膜晶体管阵列上的像素电极(36)、形成于像素电极(36)、数据线(34)与薄膜晶体管阵列上的第一钝化层(38)、形成于第一钝化层(38)上的黑色矩阵(42)、以及形成于黑色矩阵(42)与第一钝化层(38)上的公共电极(44)。该阵列基板将黑色矩阵形成于阵列基板上,减小了公共电极与栅极线、数据线之间的寄生电容,有利于提高公共电极上电压的均匀性。
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公开(公告)号:WO2015080171A1
公开(公告)日:2015-06-04
申请号:PCT/JP2014/081293
申请日:2014-11-26
申请人: 旭硝子株式会社
CPC分类号: C03C3/091 , G02F2001/133302 , H01L51/0096 , Y02E10/549
摘要: 本発明は、フッ酸(HF)エッチング処理により5μm以上薄板化された、板厚0.4mm以下の無アルカリガラス基板であって、前記無アルカリガラス基板が所定の無アルカリガラスであり、薄板化後の前記無アルカリガラス基板における、比弾性率が31MNm/kg以上であり、光弾性定数が30nm/MPa/cm以下である、無アルカリガラス基板に関する。
摘要翻译: 本发明涉及通过氢氟酸(HF)蚀刻将其减薄5μm以上并且板厚为0.4mm以下的无碱玻璃基板。 该无碱玻璃基板由规定的无碱玻璃构成,变薄后的无碱玻璃基板的比弹性模量为31MNm / kg以上,光弹性常数为30nm / MPa / cm以下。
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公开(公告)号:WO2015055274A1
公开(公告)日:2015-04-23
申请号:PCT/EP2014/002564
申请日:2014-09-22
申请人: MERCK PATENT GMBH
发明人: JUNGE, Michael , BEYER, Andreas , PATWAL, Ursula
CPC分类号: C09K19/601 , C09K19/0208 , C09K19/586 , C09K19/60 , C09K19/603 , C09K19/606 , C09K2219/13 , E06B9/24 , E06B2009/2464 , G02F1/133536 , G02F1/133723 , G02F1/133784 , G02F1/13475 , G02F1/13725 , G02F1/13737 , G02F1/1397 , G02F2001/133302 , G02F2001/133738 , G02F2202/40
摘要: Die Anmeldung betrifft eine Vorrichtung zur Regulierung des Lichteintritts in einen Raum, welche eine speziell gestaltete schaltbare Schicht enthaltend ein verdrillt nematisches flüssigkristallines Medium und eine dichroitische Verbindung aufweist.
摘要翻译: 该申请涉及一种设备,用于调节光的进入的空间,该方法包括包含特制切换层包括扭曲向列液晶介质和二色性化合物。
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公开(公告)号:WO2014136418A1
公开(公告)日:2014-09-12
申请号:PCT/JP2014/001119
申请日:2014-03-03
申请人: セイコーエプソン株式会社
IPC分类号: G09F9/30 , G02B5/02 , G02F1/13 , G02F1/1333 , G02F1/1335
CPC分类号: G02F1/133526 , C23C16/50 , G02F1/133504 , G02F1/133524 , G02F2001/133302 , G09F9/30 , H01L27/1218
摘要: プリズム素子に好適な、急峻な斜面を有する溝を安定して形成することを課題とする。第1の斜面(72a,72b)及び第2の斜面(73a,73b)が裏面(6b)から表面(6a)に向かうように配置された基板本体(6)と、第1の斜面及び第2の斜面を覆う第1絶縁膜(81)と、前記第1の斜面を覆う前記第1絶縁膜の表面である第3の斜面(76a,76b)と、前記第2の斜面を覆う前記第1絶縁膜の表面である第4の斜面(77a,77b)と、を有し、前記裏面(6b)の側から前記表面(6a)の側に向かう方向に広くなった第2溝部(75)と、前記第2溝部及び前記第1絶縁膜を覆う第2絶縁膜(82)を備え、第2絶縁膜の前記第2溝部を覆う部分の一部は前記第3の斜面と間隔を有し、前記第2の斜面は前記第1の斜面より前記表面(6a)の側に配置され、前記第2の斜面と前記法線とがなす角度は前記第1の斜面と前記法線とがなす角度よりも大きい。
摘要翻译: 本发明解决了稳定地形成适合于棱镜元件的凹槽的问题,该凹槽具有陡峭的斜面。 一种电光装置用基板,具备:具有从基板主体的背面(6b)延伸的第一斜面(72a,72b)和第二倾斜面(73a,73b)的基板主体(6) (6)朝向其前表面(6a); 覆盖所述第一斜面和所述第二斜面的第一绝缘膜(81); 具有第三斜面(76a,76b)和第四斜面(77a,77b)的第二槽部(75),并且具有从背面(6b)侧朝向前面(6a)侧的方向增大的宽度, 第三斜面是覆盖第一斜面的第一绝缘膜的表面,第四斜面是覆盖第二斜面的第一绝缘膜的表面; 以及覆盖所述第二槽部和所述第一绝缘膜的第二绝缘膜(82),其中覆盖所述第二槽部的所述第二绝缘膜的一部分与所述第三斜面间隔开,所述第二斜面配置在所述第一绝缘膜的前表面 (6a)侧,并且形成在第二斜面和法线之间的每个角度大于在第一斜面和法线之间形成的每个角度。
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公开(公告)号:WO2013057917A1
公开(公告)日:2013-04-25
申请号:PCT/JP2012/006594
申请日:2012-10-15
IPC分类号: G02F1/13 , C03B33/02 , C03C15/00 , G02F1/1333
CPC分类号: B81C1/00523 , C03C15/00 , C03C19/00 , G02F1/133351 , G02F2001/133302 , G06F3/041 , G06F2203/04103
摘要: ガラス基板(110a)の一方の表面をエッチングすることにより、ガラス基板(110a)の厚さを薄くする第1エッチング工程と、ガラス基板(110a)を薄くしたガラス基板(110b)の表面にガラス基板(110b)を分割するためのスクライブ溝(Ca)を形成するスクライブ工程と、ガラス基板(110b)にスクライブ溝(Ca)を形成したガラス基板(110c)の表面をエッチングすることにより、ガラス基板(110c)の厚さを薄くすると共に、スクライブ溝(Ca)を介してガラス基板(110c)を分割する第2エッチング工程とを備える。
摘要翻译: 一种制造薄基板的方法包括以下步骤:通过蚀刻玻璃基板(110a)的一个表面来减小玻璃基板(110a)的厚度的第一蚀刻步骤; 在玻璃基板(110b)的表面上形成有通过减小玻璃基板(110a)的厚度而形成的用于分割玻璃基板(110b)的划线槽(Ca)的划线工序; 以及通过蚀刻玻璃基板(110c)的表面来减少通过在玻璃基板(110b)上形成划线槽(Ca)而形成的玻璃基板(110c)的厚度的第二蚀刻步骤, 并且玻璃基板(110c)通过划线槽(Ca)分割。
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公开(公告)号:WO2013046683A1
公开(公告)日:2013-04-04
申请号:PCT/JP2012/006175
申请日:2012-09-27
IPC分类号: C03B17/06 , C03B33/02 , G02F1/1333
CPC分类号: C03B33/0215 , C03B17/067 , C03C3/091 , G02F2001/133302
摘要: ガラス板の製造方法は、ガラス原料を熔解して溶融ガラスを得る熔解工程と、前記溶融ガラスを、成形炉内に設けられた成形体に供給してガラスリボンを成形し、前記ガラスリボンの流れを作る成形工程と、前記ガラスリボンを、徐冷炉内に設けられたローラで牽引して前記徐冷炉内で冷却する徐冷工程と、冷却された前記ガラスリボンをガラスリボン切断空間内で切断するガラスリボン切断工程と、切断された前記ガラスリボンの幅方向の両端部に形成された耳部を耳部切断空間で切断する耳部切断工程と、を含む。前記ガラスリボン切断空間の気圧が前記耳部切断空間の気圧に対して高くなるように、前記ガラスリボン切断空間及び前記耳部切断空間の少なくとも一方の気圧は調整されている。
摘要翻译: 一种玻璃板的制造方法,其特征在于,包括:熔融玻璃原料的熔融工序,得到熔融玻璃; 用于将熔融玻璃供应到设置在成形炉中的成形体以形成玻璃带并产生玻璃带的流动的成形步骤; 缓慢的冷却步骤,通过设置在缓慢冷却炉中的辊来拉制玻璃带并冷却慢冷却炉中的玻璃带; 玻璃带切割步骤,用于在玻璃带切割空间中切割冷却的玻璃带; 以及边缘部分切割步骤,用于在边缘部分切割空间中切割分别形成在切割的玻璃带的宽度方向上的两端的边缘部分。 玻璃带切割空间和/或边缘部分切割空间中的大气压力被调节为使得玻璃带切割空间中的大气压力高于边缘部分切割空间中的大气压力。
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公开(公告)号:WO2013005402A1
公开(公告)日:2013-01-10
申请号:PCT/JP2012/004201
申请日:2012-06-28
申请人: AvanStrate株式会社 , 小山 昭浩 , 阿美 諭 , 市川 学
IPC分类号: C03C3/091 , G02F1/1333 , H01L51/50 , H05B33/02
CPC分类号: C03C3/091 , C03C3/093 , G02F2001/133302 , H01L51/0096
摘要: 本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、モル%表示で、SiO 2 を55~80%、Al 2 O 3 を3~20%、B 2 O 3 を3~15%、RO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量)を3~25%含有し、As 2 O 3 およびSb 2 O 3 を実質的に含有せず、かつ、失透温度が1250℃以下のガラスから構成され、熱収縮率が75ppm以下である。ただし、前記熱収縮率とは、昇降温速度が10℃/min、550℃で2時間保持の熱処理が施された後のガラス基板の収縮量を用いて、次式にて求められる値である。熱収縮率(ppm)={熱処理後のガラス基板の収縮量/熱処理前のガラス基板の長さ}×10 6
摘要翻译: 用于平板显示器的玻璃基板含有摩尔%为55%-80%SiO 2,3%-20%Al 2 O 3,3%-15%B 2 O 3和3%-25%RO(作为MgO的组合量, CaO,SrO和BaO)基本上不含As2O3或Sb2O3,由失透温度为1250℃以下的玻璃构成,其热收缩率为75ppm以下。 热收缩率是使用以下公式得到的值,使用在加热温度为10℃/分钟的升温/降温速度下的玻璃基板的收缩量,保持在550℃下2小时。 热收缩率(ppm)= {热处理后的玻璃基板收缩量/热处理前的玻璃基板的长度×10 6。
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公开(公告)号:WO2012053625A1
公开(公告)日:2012-04-26
申请号:PCT/JP2011/074237
申请日:2011-10-14
IPC分类号: H05K3/10 , G02F1/1343 , G06F3/041 , H01L21/288 , H01L21/3205 , H01L51/50 , H05B33/10 , H05B33/14
CPC分类号: H05K3/1283 , G02F1/1333 , G02F2001/133302 , G06F3/041 , G06F2203/04103 , H01L21/4867 , H01L27/3288 , H01L51/0021 , H05K1/02 , H05K1/095 , H05K3/1258
摘要: パターン基体(1)は、第1 の領域(R1)および第2の領域(R2)が形成された表面を有する基体(3)と、第1の領域(R1)および第2の領域(R2)のうち、第1の領域(R1)に形成されたパターン層(10)とを備える。パターン層(10)が、配線パターン層または透明電極であり、第1の領域(R1)が、パターン層形成用組成物(13)に対して毛管現象を発現する凹凸形状を有し、該凹凸形状が、複数の構造体(5)の集合からなる。
摘要翻译: 图案化基底(1)包括:基部(3),其具有设置有第一区域(R1)和第二区域(R2)的表面; 以及形成在所述第一区域(R1)和所述第二区域(R2)中的所述第一区域(R1)中的图案层(10)。 图案层(10)是布线图案层或透明电极,第一区域(R1)具有形成图案层的组合物(13)的毛细作用的凹凸形状。 凹入和投影的形状由多个结构(5)的组件组成。
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公开(公告)号:WO2011114821A1
公开(公告)日:2011-09-22
申请号:PCT/JP2011/053000
申请日:2011-02-14
IPC分类号: C03C3/091 , C03C3/093 , C03C21/00 , G02F1/1333
CPC分类号: C03C3/091 , C03C3/093 , C03C21/002 , G02F2001/133302
摘要: 【課題】溶融温度をアルミノシリケート系ガラスよりも低下させ、組成成分にLiを含有せず、クラックの発生を低減する化学強化用ガラス組成物、及びこれを化学強化して得た化学強化ガラス材を提供する。 【解決手段】イオン交換法により化学強化される被強化ガラス材とは、SiO 2 を35~65モル%、Al 2 O 3 を6~20モル%、B 2 O 3 を5~30モル%、Na 2 Oを7~20モル%、K 2 Oを0~15モル%を含有し、Na 2 O及びK 2 Oのモル%の和が10~25モル%であることを満たす主成分(A1)と、MgO、CaO、またはZnOのいずれか1種以上を被強化ガラス材全体において1~15モル%含有することを満たす当該被強化ガラス材の補助成分(A2)とを含んでなるアルミノボロシリケートガラスの化学強化用ガラス組成物であり、これを化学強化してなる化学強化ガラス材である。
摘要翻译: 公开了一种用于化学强化的玻璃组合物,其将熔融温度降低到低于铝硅酸盐玻璃的玻璃组合物,并且在组合物的组分中不包含Li的情况减少裂缝的发生。 还公开了通过化学强化该玻璃组合物获得的化学强化玻璃材料。 具体地说,通过使用离子交换的化学强化来强化的玻璃材料含有35-65mol%的SiO 2,6-20mol%的Al 2 O 3,5-30mol%的B 2 O 3,7-20mol%的Na 2 O和0-15mol%的K 2 O. 用于化学强化的玻璃组合物是用于化学强化的铝硼硅酸盐玻璃组合物,其包含主要组分(A1),使得Na 2 O和K 2 O的摩尔%之和为10-25mol%,并且该玻璃的辅助组分(A2) 被加强使得包含MgO,CaO或ZnO中的任何一种或多种以构成整体上要加强的玻璃的1-15mol%。 这种玻璃组合物通过化学强化成为化学强化的玻璃材料。
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100.SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SEMICONDUCTOR DEVICE 审中-公开
标题翻译: 用于制造半导体器件的半导体器件和方法公开(公告)号:WO2011081041A1
公开(公告)日:2011-07-07
申请号:PCT/JP2010/072820
申请日:2010-12-13
申请人: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. , YAMAZAKI, Shunpei , KOYAMA, Jun , HIRAKATA, Yoshiharu
IPC分类号: G09G3/36 , G02F1/133 , G02F1/1335 , G02F1/13357 , G02F1/1368 , G09G3/20 , G09G3/34
CPC分类号: G09G3/3413 , G02F1/133345 , G02F1/1334 , G02F1/133514 , G02F1/133555 , G02F1/1337 , G02F1/134309 , G02F1/136286 , G02F1/1368 , G02F2001/133302 , G02F2201/121 , G02F2201/123 , G02F2203/01 , G02F2203/04 , G09G3/2003 , G09G3/3406 , G09G3/3677 , G09G2300/0426 , G09G2310/0237 , G09G2310/08 , G09G2320/0247 , G09G2320/0261 , G09G2320/064 , G09G2320/0646 , G09G2320/103 , G09G2330/021 , G09G2330/022
摘要: An object is to provide a liquid crystal display device which can recognize image display even when the liquid crystal display device is used in a dim environment. In one pixel, a pixel electrode including both of a region where incident light through a liquid crystal layer is reflected and a transmissive region is provided, and image display can be performed in both modes: the reflective mode where external light is used as an illumination light source; and the transmissive mode where the backlight is used as an illumination light source. When there is external light with insufficient brightness, that is, in a dim environment, the backlight emits weak light and an image is displayed in the reflective mode, whereby image display can be performed.
摘要翻译: 本发明的目的是提供一种液晶显示装置,即使在液晶显示装置在昏暗的环境中使用时也能够识别图像显示。 在一个像素中,包括反射通过液晶层的入射光的区域和设置有透射区域的像素电极的像素电极,并且可以以两种模式执行图像显示:将外部光用作照明的反射模式 光源; 以及将背光用作照明光源的透射模式。 当存在亮度不足的外部光,即,在昏暗的环境中,背光发出弱光,并且以反射模式显示图像,由此可以执行图像显示。
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