高強度強靱性ZrO2‐Al2O3系固溶体セラミックスの作製法
    14.
    发明申请
    高強度強靱性ZrO2‐Al2O3系固溶体セラミックスの作製法 审中-公开
    生产高强度高韧性ZrO2-Al2O3基固体溶液陶瓷的方法

    公开(公告)号:WO2012153645A1

    公开(公告)日:2012-11-15

    申请号:PCT/JP2012/061196

    申请日:2012-04-26

    IPC分类号: C04B35/48 C04B35/64

    摘要: 高強度強靱性ZrO 2 ‐Al 2 O 3 系固溶体セラミックスの作製法を提供する。 ゾル‐ゲル法を用いてZrO 2 に対し0.3~1.7mol%Y 2 O 3 を添加したZrO 2 ‐20~30mol%Al 2 O 3 の非晶質固溶体粉体を調製し、得られた非晶質固溶体粉体を結晶化温度以上で仮焼して結晶質のZrO 2 固溶体粉体を調製し(工程A)、得られた結晶質のZrO 2 固溶体粉体を成形し、次いで、不活性ガス雰囲気下、昇温速度50℃/min以上、圧力30~100MPa、焼結温度1250~1350℃で3~30分の条件にて焼結する(工程B)。この際、工程Bにおける成形を冷間静水圧プレスで行い、焼結を、アルゴンガス又は窒素ガス雰囲気下でのパルス通電加圧焼結法又は放電プラズマ焼結法により行うことが好ましい。

    摘要翻译: 提供一种高强度高韧性ZrO2-Al2O3系固溶陶瓷的制造方法。 使用溶胶 - 凝胶法加入0.3〜1.7mol%的Y 2 O 3,制备无定形ZrO 2 - (20-30mol%Al 2 O 3)固溶体粉末,得到的无定形固溶体粉末在 温度等于或高于结晶温度,由此制备结晶ZrO 2固溶体粉末(步骤A)。 将得到的结晶ZrO 2固溶粉末成形,然后在惰性气体气氛中,在升温速度为50℃/分钟以上,压力为30〜100MPa,烧结温度为1250℃的条件下, -1350℃3-30分钟(步骤B)。 在该方法中,优选通过冷等静压机在步骤B中进行成型,并且在氩或氮气氛中通过脉冲电流加压烧结法或放电等离子体烧结法进行烧结。

    酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット
    15.
    发明申请
    酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット 审中-公开
    氧化物烧结体和溅射目标

    公开(公告)号:WO2012096343A1

    公开(公告)日:2012-07-19

    申请号:PCT/JP2012/050487

    申请日:2012-01-12

    摘要:  表示装置用酸化物半導体膜の製造に好適に用いられる酸化物焼結体であって、高い導電性と相対密度を兼ね備えており、高いキャリア移動度を有する酸化物半導体膜を成膜可能な酸化物焼結体を提供する。本発明の酸化物焼結体は、酸化亜鉛と、酸化スズと、酸化インジウムの各粉末を混合および焼結して得られる酸化物焼結体であって、前記酸化物焼結体をX線回折したとき、Zn 2 SnO 4 相を主相とし、ビックスバイト型結晶構造であるZn X Sn X In Y O m 相(X、Y、mは任意の整数)を有すると共に、前記酸化物焼結体に含まれる金属元素の含有量(原子%)をそれぞれ、[Zn]、[Sn]、[In]としたとき、[Zn]+[Sn]+[In]に対する[In]の比、[Zn]+[Sn]に対する[Zn]の比、[Sn]の比は、それぞれ下式を満足するものである。 [In]/([Zn]+[Sn]+[In])=0.01~0.25未満 [Zn]/([Zn]+[Sn])=0.50~0.80 [Sn]/([Zn]+[Sn])=0.20~0.50

    摘要翻译: 本发明提供一种氧化物烧结体,其可适用于制造显示装置用氧化物半导体膜,该导电性和相对密度高的氧化物烧结体,能够沉积具有高载流子迁移率的氧化物半导体膜。 该氧化物烧结体通过混合并烧结氧化锌,氧化锡和氧化铟的粉末而获得。 当X射线衍射时,氧化物烧结体具有Zn2SnO4相作为主相,ZnXSnXInYOm相(X,Y和m为整数)为双晶型晶体结构,并且当含量(原子%)为 包含在氧化物烧结体中的金属元素是[Zn],[Sn]和[In],[In]相对于[Zn] + [Sn] + [In]的比例,[Zn]和 [Sn]相对于[Zn] + [Sn]的比率分别满足下式。 [In] /([Zn] + [Sn] + [In])= 0.01-小于0.25 [Zn] /([Zn] + [Sn])= 0.50-0.80 [Sn] /([Zn] 的Sn])= 0.20-0.50

    SOLID-STATE CATALYSIS OF SUPERCONDUCTING CUPRATES
    17.
    发明申请
    SOLID-STATE CATALYSIS OF SUPERCONDUCTING CUPRATES 审中-公开
    超级电容器的固态催化分析

    公开(公告)号:WO2012018988A1

    公开(公告)日:2012-02-09

    申请号:PCT/US2011/046554

    申请日:2011-08-04

    摘要: Catalytically active (001) ceria substrates or buffers are used to modify the structure of the epitaxial high temperature superconductor YBa 2 Cu 3 O 7 . The catalytically active substrate has a small lateral grain size, typically less than 50 nm, to provide a high density of nucleation sites, at some of which nucleate a previously unknown metastable phase. The modification is achieved by catalytically assisted synthesis of the metastable phase. The new phase, a long-period (3.5-nm) perovskite, intercalates into the YBa 2 Cu 3 O 7 matrix without negatively affecting the critical temperature of the film. Analysis of electron microscopy and synchrotron X-ray diffraction data allow identification of the phase as a long-period YBa 2 Cu 3 O 7 derivative formed through short-range cation displacement. The films, from about 100-nm to about 1000-nm thick, exhibit strong enhancement of the critical current density, reaching a maximum of approximately 4.2 MA/cm 2 at 77 K.

    摘要翻译: 使用催化活性(001)二氧化铈底物或缓冲液来改变外延高温超导体YBa2Cu3O7的结构。 催化活性底物具有通常小于50nm的小的横向晶粒尺寸,以提供高密度的成核位点,其中某些核成核可以形成先前未知的亚稳相。 该修饰通过催化辅助合成亚稳相来实现。 新相,长周期(3.5nm)钙钛矿,嵌入到YBa2Cu3O7基体中,而不会对薄膜的临界温度产生不利影响。 电子显微镜和同步加速器X射线衍射数据的分析可以将相位识别为通过短程阳离子置换形成的长周期YBa2Cu3O7衍生物。 约100nm至约1000nm厚的膜表现出强烈的临界电流密度增强,在77K时达到最大约4.2MA / cm 2。