公开(公告)号：WO2010115526A1

公开(公告)日：2010-10-14

申请号：PCT/EP2010/001908

申请日：2010-03-26

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  KRAUS, Dieter ,  EHM, Dirk, Heinrich ,  SCHMIDT, Stefan-Wolfgang ,  WIESNER, Stefan ,  CZAP, Almut ,  KOEHLER, Stefan ,  CHUNG, Hin, Yiu, Anthony

Inventor： KRAUS, Dieter ,  EHM, Dirk, Heinrich ,  SCHMIDT, Stefan-Wolfgang ,  WIESNER, Stefan ,  CZAP, Almut ,  KOEHLER, Stefan ,  CHUNG, Hin, Yiu, Anthony

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70916

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Verhindern des Durchtretens von kontaminierenden gasförmigen Stoffen (18) durch eine Öffnung (17b) in einer Einhausung (4a) einer EUV-Lithographieanlage (1), wobei in der Einhausung (4a) mindestens ein optisches Element zur Führung von EUV-Strahlung (6) angeordnet ist, und wobei das Verfahren umfasst: Erzeugen mindestens eines die kontaminierenden Stoffe (18, 18') umlenkenden, insbesondere deren Strömungsrichtung (Z) entgegen gerichteten Gasstroms (21 a, 21 b) im Bereich der Öffnung (17b). Der Gasstrom (21 a, 21 b) und die EUV-Strahlung (6) werden gepulst erzeugt und die Pulsrate des Gasstroms (21 a, 21 b) wird in Abhängigkeit von der Pulsrate der unter Einwirkung der gepulsten EUV-Strahlung (6) freigesetzten kontaminierenden Stoffe (18, 18') festgelegt, wobei beide Pulsraten insbesondere gleich groß sind, und wobei sich im Bereich der Öffnung (17b) die Gaspulse zeitlich mit den Pulsen der kontaminierenden Stoffe (18, 18') überlappen. Die Erfindung betrifft auch eine EUV-Lithographieanlage, an der das Verfahren durchgeführt werden kann.

Abstract translation: 本发明涉及一种方法，用于通过EUV光刻设备（1），的壳体（图4a），其中，在所述壳体（4a）中的开口（17b）的至少一个光学元件的污染气态物质（18）的通过的防止用于引导 EUV辐射（6）设置，并且其中所述方法包括：生成所述污染物中的至少一个（18，18“）偏转，尤其是其流动方向（Z）相反方向的气体流（21 A，21 b）（在开口的区域中 17B）。 的气体流（21，21 b）和极紫外辐射（6）产生的脉冲和所述气体流的脉冲率（21 A，21 B）是脉冲EUV辐射的作用下释放，脉冲速率的函数（6） 污染物质（18，18“）固定，特别是两个脉冲率相等的尺寸，并且其中在所述开口的区域（17b）的与所述污染物质（18，18的脉冲在时间上的气体脉冲的”重叠）。 本发明还涉及一种EUV光刻设备，其中，可以执行该方法。

公开(公告)号：WO2008088397A2

公开(公告)日：2008-07-24

申请号：PCT/US2007018869

申请日：2007-08-28

Applicant: CORNING INC ,  COBB JOSHUA M ,  DEWA PAUL G

Inventor： COBB JOSHUA M ,  DEWA PAUL G

IPC: G03B27/00 ,  G03B27/42 ,  G03B27/54

CPC classification number: G03B27/42 ,  G03F7/70041

Abstract: An apparatus for providing a pulsed radiation beam has a radiation source providing a pulsed radiation beam at a constant pulse repetition frequency. A beam deflector in the path of the pulsed radiation beam is actuable to redirect the pulsed radiation beam cyclically towards each of a plurality of beam intensity modulators in turn. A beam recombiner combines modulated light from each of the plurality of beam intensity modulators in order to form the modulated pulsed radiation beam at the constant pulse repetition frequency.

Abstract translation: 用于提供脉冲辐射束的装置具有以恒定脉冲重复频率提供脉冲辐射束的辐射源。 在脉冲辐射束的路径中的光束偏转器可被致动以依次将脉冲辐射束循环地重定向到多个光束强度调制器中的每一个。 光束重组器组合来自多个光束强度调制器中的每一个的调制光，以便以恒定脉冲重复频率形成调制的脉冲辐射束。

公开(公告)号：WO2008019936A2

公开(公告)日：2008-02-21

申请号：PCT/EP2007057776

申请日：2007-07-27

Applicant: ZEISS CARL SMT AG ,  MENGEL MARKUS

Inventor： MENGEL MARKUS

IPC: G02F1/01 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70125 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/701 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70566

Abstract: The invention relates to a microlithographic projection exposure apparatus and to a microlithographic exposure method. A microlithographic projection exposure apparatus according to the invention comprises a pulsed light source (110, 210) for generating pulsed light, an illumination device (130, 230) and a projection objective, the illumination device (130, 230) illuminating an object plane of the projection objective and the object plane being imaged into an image plane of the projection objective by means of the projection objective, and at least one photoelastic modulator (120, 220) being arranged between the pulsed light source (110, 210) and the illumination device (130, 230).

Abstract translation: 微光刻投影曝光设备和微光刻曝光方法 根据本发明的微光刻投射曝光设备包括用于产生脉冲光的脉冲光源（110,210），照明装置（130,230）和投影物镜，照明装置（130,230）照射物体平面 通过投影物镜将投影物镜和物平面成像到投影物镜的像平面中，并且至少一个光弹性调制器（120,220）被布置在脉冲光源（110,210）和照明装置 设备（130,230）。

公开(公告)号：WO2005034193A3

公开(公告)日：2006-12-14

申请号：PCT/US2004030801

申请日：2004-09-17

Applicant: UNIV COLUMBIA ,  IM JAMES S ,  VAN DER WILT PAUL CHRISTIAN

Inventor： IM JAMES S ,  VAN DER WILT PAUL CHRISTIAN

IPC: C30B25/12 ,  C30B1/00 ,  C30B3/00 ,  C30B5/00 ,  C30B13/24 ,  C30B25/14 ,  G03F7/20 ,  H01L20060101

CPC classification number: C30B35/00 ,  B23K26/066 ,  C30B13/24 ,  C30B28/08 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70725 ,  Y10S117/90 ,  Y10T117/10 ,  Y10T117/1008

Abstract: A method of processing a polycrystalline film on a substrate includes generating a plurality of laser beam pulses, positioning the film on a support capable of movement in at least one direction, directing the plurality of laser beam pulses through a mask to generate patterned laser beams; each of said beams having a length l', a width w' and a spacing between adjacent beams d', irradiating a region of the film with the patterned beams, said beams having an intensity that is sufficient to melt an irradiated portion of the film to induce crystallization of the irradiated portion of the film, wherein the film region is irradiated n times; and after irradiation of each film portion, translating either the film or the mask, or both, a distance in the x- and y-directions, where the distance of translation in the y-direction is in the range of about l'/n-d, where d is a value selected to form overlapping the beamlets from the one irradiation step to the next, and where the distance of translation in the x-direction is selected such that the film is moved a distance of about ?' after n irradiations, where ?' = w' + d'.

Abstract translation: 在衬底上处理多晶膜的方法包括产生多个激光束脉冲，将膜定位在能够在至少一个方向上移动的支撑件上，将多个激光束脉冲引导通过掩模以产生图案化的激光束; 每个所述光束具有长度l'，宽度w'和相邻光束d'之间的间隔，用图案化光束照射膜的区域，所述光束具有足以熔化膜的照射部分的强度 以引起膜的照射部分的结晶，其中膜区域被照射n次; 并且在每个膜部分的照射之后，将膜或掩模或两者平移，沿x方向和y方向的距离，其中在y方向上的平移距离在约1'/ nd的范围内 其中d是被选择以形成从一个照射步骤到下一个照射步骤的子束重叠的值，并且其中选择x方向上的平移距离使得胶片移动约“ 在n辐射之后，哪里？ = w'+ d'。

公开(公告)号：WO2006080513A1

公开(公告)日：2006-08-03

申请号：PCT/JP2006/301493

申请日：2006-01-30

Applicant: 株式会社ニコン ,  新井 誠義

Inventor： 新井 誠義

IPC: H01S3/13 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01S3/00 ,  H01S3/03

CPC classification number: H01S3/225 ,  B23K26/032 ,  B23K26/064 ,  B23K26/0643 ,  B23K26/0648 ,  B23K26/0665 ,  B23K26/705 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/7085 ,  H01S3/0014 ,  H01S3/10061 ,  H01S3/10069 ,  H01S3/101 ,  H01S3/104 ,  H01S3/1308 ,  H01S3/134

Abstract: 　パルス発振を行うレーザ光源から出力されるレーザビームの回転角及び／又は偏光状態を制御する制御方法である。パルス発振を行うエキシマレーザ光源（８）の制御方法において、エキシマレーザ光源（８）からパルス発振されるレーザビーム（ＬＢ）をビームスプリッタ（９）を介して分岐して回転角モニター装置（１０）に導いて、検出・回転演算部（１１）においてレーザビーム（ＬＢ）の外形の回転角を検出する。この回転角を補正するように、記憶・補正演算部（１２）が駆動部（６Ａ～６Ｄ）を介してエキシマレーザ光源（８）の姿勢を制御する。

Abstract translation: 一种控制从执行脉冲振荡的激光光源输出的激光束的旋转角度和/或偏振状态的控制方法。 在进行脉冲振荡的受激准分子激光光源（8）的控制方法中，由准分子激光光源（8）通过脉冲振荡发射的激光束（LB）由分束器（9）分支， 角度监视器（10）。 检测/旋转计算部分（11）检测激光束（LB）的轮廓的旋转角度。 存储/校正计算部分（12）通过驱动部分（6A至6D）控制准分子激光光源（8）的姿势，以校正旋转角度。

公开(公告)号：WO2003071353A2

公开(公告)日：2003-08-28

申请号：PCT/SE2003/000238

申请日：2003-02-13

Applicant: MICRONIC LASER SYSTEMS AB ,  SANDSTRÖM, Torbjörn

Inventor： SANDSTRÖM, Torbjörn

IPC: G03F

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70466

Abstract: The present invention relates to an apparatus for forming pattern on a radiation sensitive material comprising a source to form a radiation beam, a scanning element to scan at least one beam from said radiation source over said radiation sensitive material, a modulator to modulate said at least one beam during scanning according to an input pattern data file, where said modulation of the beam creates a coherent sub-image on the workpiece and several sub-images are non-coherently superposed to create a final image. The invention also relates to a method of patterning a wotkpiece and a workpiece as such.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于在辐射敏感材料上形成图案的装置，该装置包括用于形成辐射束的源，扫描元件，用于在所述辐射敏感材料上扫描来自所述辐射源的至少一个光束，调制器以至少调制所述至少 根据输入图案数据文件扫描期间的一个光束，其中所述光束的调制在工件上产生相干子图像，并且几个子图像被非相干叠加以产生最终图像。 本发明还涉及这样一种图案化工具和工件的方法。

公开(公告)号：WO2003021732A1

公开(公告)日：2003-03-13

申请号：PCT/US2002/026400

申请日：2002-08-19

Applicant: CYMER, INC. ,  KLENE, Brian, C. ,  DAS, Palash, P. ,  GROVE, Steven, L. ,  ERSHOV, Alexander, I. ,  SMITH, Scott, T. ,  PAN, Xiaojiang, J. ,  SANDSTROM, Richard, L.

Inventor： KLENE, Brian, C. ,  DAS, Palash, P. ,  GROVE, Steven, L. ,  ERSHOV, Alexander, I. ,  SMITH, Scott, T. ,  PAN, Xiaojiang, J. ,  SANDSTROM, Richard, L.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/11 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: The present invention provides a modular high repetition rate ultraviolet gas discharge laser (4) light source for a production line machine. The system includes an enclosed and purged beam path for delivery the laser beam to a desired location such as the entrance port of the production line machine. In preferred embodiments, the production line machine is a lithography machine (2) and two separate discharge chambers are provided, one of which is a part of a master oscillator producing a very narrow band send beam which is amplified in the second discharge chamber. The MOPA system is capable of output pulse energies approximately double the comparable single chamber laser system with greatly improved beam quality. A pulse stretcher more than doubles the output pulse length resulting in a reduction in pulse power (mJ/ns) as compared to prior art laser systems. This preferred embodiment is capable throughout the operating life of the lithography system, despite substantially degradation of optical components.

Abstract translation: 本发明提供一种用于生产线机器的模块化高重复率紫外线气体放电激光（4）光源。 该系统包括用于将激光束传送到期望位置（例如生产线机器的入口）的封闭和清除的光束路径。 在优选实施例中，生产线机器是光刻机（2），并且提供两个单独的放电室，其中之一是主振荡器的一部分，其产生在第二放电室中被放大的非常窄的带发射光束。 MOPA系统能够以大大提高的光束质量将相当的单室激光器系统的输出脉冲能量大约翻倍。 与现有技术的激光系统相比，脉冲放大器使输出脉冲长度加倍，导致脉冲功率（mJ / ns）的降低。 尽管光学部件基本上已经衰减，但是该优选实施例能够在光刻系统的整个工作寿命期间。

公开(公告)号：WO2003021731A1

公开(公告)日：2003-03-13

申请号：PCT/US2002/026011

申请日：2002-08-16

Applicant: CYMER, INC. ,  WATSON, Tom, A. ,  UJAZDOWSKI, Richard, C. ,  IVASCHENKO, Alex, P. ,  SHANNON, Robert, A. ,  SANDSTROM, Richard, L. ,  WEBB, Robert, Kyle ,  PALENSCHAT, Frederick, A. ,  HOFMANN, Thomas ,  RETTIG, Curtis, L. ,  NESS, Richard, L. ,  MELCHER, Paul, C. ,  ERSHOV, Alexander, I.

Inventor： WATSON, Tom, A. ,  UJAZDOWSKI, Richard, C. ,  IVASCHENKO, Alex, P. ,  SHANNON, Robert, A. ,  SANDSTROM, Richard, L. ,  WEBB, Robert, Kyle ,  PALENSCHAT, Frederick, A. ,  HOFMANN, Thomas ,  RETTIG, Curtis, L. ,  NESS, Richard, L. ,  MELCHER, Paul, C. ,  ERSHOV, Alexander, I.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/0385 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/02 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/1024 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: The present invention provides gas discharge laser systems capable of reliable long-term operation in a production line capacity at repetition rates in the range of 6,000 to 10,000 pulses per second. Preferred embodiments are configured as KrF, ArF and F 2 lasers used in photolithography. Improvements include a suction fan (555) in the immediate vicinity of the anode (542) to increase gas flow. The intake of the fan (555) is between the anode (542) and the insulating spacer (544B).

Abstract translation: 本发明提供了能够以6,000至10,000个脉冲/秒的重复频率在生产线容量中可靠长期运行的气体放电激光系统。 优选实施例被配置为用于光刻的KrF，ArF和F2激光器。 改进包括在阳极（542）附近的吸入风扇（555）以增加气体流量。 风扇（555）的入口位于阳极（542）和绝缘间隔物（544B）之间。

公开(公告)号：WO2002103766A1

公开(公告)日：2002-12-27

申请号：PCT/JP2002/005877

申请日：2002-06-13

Applicant: 株式会社ニコン ,  萩原 茂 ,  栗田 信一

Inventor： 萩原 茂 ,  栗田 信一

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70041 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70558

Abstract: At scanning exposing, where an illuminating area (42R) on a mask (R) is illuminated by a pulse beam from a pulse light source (16) and the mask and a photosensitive object (W) are moved synchronously to transfer the pattern of the mask onto the object (W), a main controller (50) controls an exposure so as to maintain an exposure pulse number at a minimum exposure pulse number in a high−sensitivity area where the scanning speeds of the mask and the photosensitive object are set to a maximum scanning speed. The pulse light source (16) can change a pulse energy within a specified range and maintains an exposure pulse number at a minimum exposure pulse number within a range a pulse energy can be changed. Therefore, it is possible to prevent a wasteful consumption of pulse and reduce costs. In addition, a restriction in energy consumption can extend the lives of a pulse light source and an optical system due to reduced loads.

Abstract translation: 在扫描曝光中，其中掩模（R）上的照明区域（42R）被来自脉冲光源（16）的脉冲光束照射，并且掩模和感光体（W）同步移动以传送图案 掩模到物体（W）上，主控制器（50）控制曝光，以便在设置有掩模和感光对象的扫描速度的高灵敏度区域中将曝光脉冲数保持在最小曝光脉冲数 达到最大扫描速度。 脉冲光源（16）可以将指定范围内的脉冲能量改变，并且可以在可以改变脉冲能量的范围内以最小曝光脉冲数保持曝光脉冲数。 因此，可以防止浪费浪费的脉冲并降低成本。 此外，能量消耗的限制可以由于减少的负载而延长脉冲光源和光学系统的寿命。

公开(公告)号：WO02093254A8

公开(公告)日：2002-12-27

申请号：PCT/US0209593

申请日：2002-03-27

Applicant: ULTRATECH STEPPER INC

Inventor： MEISBURGER DAN ,  MARKLE DAVID A

IPC: G03F7/22 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/72

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70558

Abstract: A lithography system and method for cost-effective device manufacture that can employ a new "flash-on-the-fly" mode of operation is disclosed, wherein exposure fields are formed with single pulses of radiation. The system includes a pulsed radiation source (14), an illumination system (24), a mask (M), a projection lens (40) an a workpiece stage (50) that supports a workpiece (W) having an image-bearing surface (WS). A radiation source controller (16) and a workpiece stage position system (60), which includes a metrology device (62), are used to coordinate and control the exposure of the mask with radiation pulses so that adjacent radiation pulses form adjacent exposure fields (EF). Where pulse-to-pulse uniformity from the radiation source is lacking, a pulse stabilization system (18) may be optionally used to attain the desired pulse-to-pulse uniformity in exposure dose. The rapidity at which exposures can be made using a single radiation pulse allows for a very high throughput, which in turn allows for a small-image- field projection lens to be utilized in a cost-effective manner in the manufacture of devices such as semiconductor integrated circuits and the like. The system can also be used in the conventional "step-and-repeat" mode of operation, so that the system owner can decide the most cost-effective mode of operation for any given application.

Abstract translation: 公开了可采用新的“动态闪光”操作模式的用于成本有效的装置制造的光刻系统和方法，其中曝光场由单个辐射脉冲形成。 该系统包括脉冲辐射源（14），照明系统（24），掩模（M），投影透镜（40）和工件台（50），该工件台支撑具有图像承载表面 （WS）。 使用包括计量设备（62）的辐射源控制器（16）和工件载物台位置系统（60）来协调和控制用辐射脉冲对掩模的曝光，使得相邻的辐射脉冲形成相邻的曝光场（ EF）。 在缺少来自辐射源的脉冲间均匀性的情况下，可以可选地使用脉冲稳定系统（18）来获得曝光剂量中期望的脉冲间均匀性。 使用单个辐射脉冲可以实现曝光的快速性允许非常高的通过量，这又允许以成本有效的方式利用小像场投影透镜来制造诸如半导体的器件 集成电路等。 该系统还可以用于传统的“分步重复”操作模式，以便系统所有者可以为任何给定的应用程序决定最具成本效益的操作模式。