公开(公告)号：WO2012019662A1

公开(公告)日：2012-02-16

申请号：PCT/EP2011/002362

申请日：2011-05-12

Applicant: MAIER, Jakob ,  HATZACK, Wilfried

Inventor： MAIER, Jakob ,  HATZACK, Wilfried

IPC: A01K1/12

CPC classification number: A01K1/12 ,  A01K1/126

Abstract: In Melkstationen (100), die einen oder mehrere Melkplätze (130) aufweisen, wird eine effiziente Betriebsweise erreicht, indem eine vollautomatisierte Reinigungseinrichtung vorgesehen wird. Die Reinigungseinrichtung (150) weist eine geeignete Transporteinheit (180) in Verbindung mit einer Reinigungseinheit auf, die unter Anleitung einer Steuereinheit geeignete Neutralpositionen und Reinigungspositionen anfährt, so dass eine Kontamination der Reinigungseinheit selbst verhindert und eine effiziente Reinigung ermöglicht wird, ohne dass ein Eingreifen eines Bedienpersonals erforderlich ist.

Abstract translation: 在挤奶站具有一个或多个挤奶档位（130）（100），一个有效的操作是通过提供一个完全自动化的清洁装置被设置来实现的。 清洁装置（150）具有与一个净化单元结合该启动合适的中立位置和控制单元的指导下清洁位置，以便防止清洁单元本身的污染的适当的传输单元（180），以及有效的清洁，而不的任何干预成为可能 操作人员是必需的。

公开(公告)号：WO2011000571A2

公开(公告)日：2011-01-06

申请号：PCT/EP2010/003998

申请日：2010-07-02

Applicant: SUMIDA COMPONENTS & MODULES GMBH ,  DUSCHL, Anton ,  SCHICHL, Roman ,  MAI, Udo

Inventor： DUSCHL, Anton ,  SCHICHL, Roman ,  MAI, Udo

IPC: B60Q1/04

CPC classification number: F21S41/192 ,  F21S41/17 ,  H05B41/042 ,  H05B41/288 ,  Y02B20/19 ,  Y10T29/49117

Abstract: Ein Ansteuermodul für eine Gasentladungsleuchte insbesondere für Scheinwerfer in Fahrzeugen enthält einen geeigneten Leuchtensockel, einen Träger für elektrische Bauelemente und einen Zündtransformator, wobei der Bauträger zumindest mit elektrischen Komponenten einer Zündeinheit bestückt ist und ferner für die Aufnahme weiterer elektrischer Komponenten ausgebildet ist, die für einen autarken Betrieb des Ansteuermoduls erforderlich sind. Des Weiteren ist der Leuchtensockel aus einem hochtemperaturfesten Kunststoffmaterial aufgebaut und besitzt eine integrierte Hochspannungsleiterbahn.

Abstract translation: 在含有合适的灯插座，用于电气部件的支撑件，和点火变压器，其中，所述显影剂配备至少具有一个点火单元的电部件，并且还配置用于接收另外的电部件的车辆用于气体放电灯的控制模块，特别是用于头灯，自给自足的用于 是必需的控制模块的操作。 此外，构建了耐高温的塑料材料的光插座，并有一个集成的高电压导体。

公开(公告)号：WO2010086155A1

公开(公告)日：2010-08-05

申请号：PCT/EP2010/000493

申请日：2010-01-27

Applicant: ADVANCED MICRO DEVICES, INC. ,  FROST, Gary

Inventor： FROST, Gary

IPC: G06F9/445

CPC classification number: G06F8/443 ,  G06F8/445 ,  G06F9/44552

Abstract: The deployment of native methods in a virtual machine environment may significantly be simplified by incorporating a corresponding native code segment into the application file, such as a JAVA class file, and using the embedded native code segment for library bind operations of the corresponding class file.

Abstract translation: 通过将对应的本地代码段合并到应用程序文件（如JAVA类文件）中，并使用嵌入式本机代码段来进行相应类文件的库绑定操作，可以显着简化在虚拟机环境中部署本机方法。

公开(公告)号：WO2010076019A1

公开(公告)日：2010-07-08

申请号：PCT/EP2009/009308

申请日：2009-12-29

Applicant: ADVANCED MICRO DEVICES, INC ,  FEUSTEL, Frank ,  WERNER, Thomas ,  FROHBERG, Kai ,  AMD FAB 36 LIMITED LIABILITY COMPANY & CO. KG

Inventor： FEUSTEL, Frank ,  WERNER, Thomas ,  FROHBERG, Kai

IPC: H01L21/768

CPC classification number: H01L21/76807 ,  H01L21/76804 ,  H01L21/76813

Abstract: In a metallization system of a semiconductor device a transition via may be provided with an increased degree of tapering by modifying a corresponding etch sequence. For example, the resist mask for forming the via opening may once, or several times be eroded in order to increase the lateral size of the corresponding mask opening. Due to the pronounced degree of tapering, enhanced deposition conditions may be accomplished during the subsequent electrochemical deposition process for commonly filling the via opening and a wide trench connected thereto.

Abstract translation: 在半导体器件的金属化系统中，可以通过修改相应的蚀刻序列来提供过渡通孔的增加的渐缩度。 例如，为了增加对应的掩模开口的横向尺寸，用于形成通路孔的抗蚀剂掩模可以被一次或几次侵蚀。 由于显着的渐缩度，在随后的电化学沉积过程中可以实现增强的沉积条件，用于通常填充通孔开口和与其连接的宽沟槽。

公开(公告)号：WO2010076018A1

公开(公告)日：2010-07-08

申请号：PCT/EP2009/009307

申请日：2009-12-29

Applicant: ADVANCED MICRO DEVICES, INC ,  AMD FAB 36 LIMITED LIABILITY COMPANY & CO. KG ,  KRONHOLZ, Stephan ,  OTT, Andreas

Inventor： KRONHOLZ, Stephan ,  OTT, Andreas

IPC: H01L21/8234 ,  H01L21/8238

CPC classification number: H01L21/823412 ,  H01L21/82345 ,  H01L21/823807 ,  H01L21/823842 ,  H01L21/84

Abstract: A threshold adjusting semiconductor material, such as a silicon/germanium alloy may be provided selectively for one type of transistors on the basis of enhanced deposition uniformity. For this purpose, the semiconductor alloy may be deposited on the active regions of any transistors and may subsequently be patterned on the basis of a highly controllable patterning regime. Consequently, threshold variability may be reduced.

Abstract translation: 基于增强的沉积均匀性，可以选择性地为一种类型的晶体管提供阈值调节半导体材料，例如硅/锗合金。 为此，可以将半导体合金沉积在任何晶体管的有源区上，并且随后可以基于高度可控的图案化状态来图案化。 因此，阈值变化可能降低。

公开(公告)号：WO2010022974A1

公开(公告)日：2010-03-04

申请号：PCT/EP2009/006263

申请日：2009-08-28

Applicant: ADVANCED MICRO DEVICES, INC. ,  WIRBELEIT, Frank

Inventor： WIRBELEIT, Frank

IPC: H01L21/8244 ,  H01L27/11 ,  G11C11/412 ,  H01L21/768 ,  H01L29/10 ,  H01L29/78 ,  H01L29/06

CPC classification number: H01L27/11 ,  H01L21/76895 ,  H01L27/1104 ,  H01L29/0623 ,  H01L29/105 ,  H01L29/7833

Abstract: A static RAM cell (250) may be formed on the basis of two double channel transistors (200N, 200P) and a select transistor (200S), wherein a body contact may be positioned laterally between the two double channel transistors in the form of a dummy gate electrode structure (205A), while a further rectangular contact (230) may connect the gate electrodes, the source regions and the body contact, thereby establishing a conductive path to the body regions of the transistors. Hence, compared to conventional body contacts, a very space-efficient configuration may be established so that bit density in static RAM cells may significantly be increased.

Abstract translation: 可以基于两个双沟道晶体管（200N，200P）和选择晶体管（200S）形成静态RAM单元（250），其中主体接触可以侧向位于两个双通道晶体管之间，形式为 伪栅极电极结构（205A），而另一个矩形触点（230）可以连接栅电极，源极区和体接触，从而建立到晶体管的体区的导电路径。 因此，与常规身体接触相比，可以建立非常空间有效的配置，使得静态RAM单元中的位密度可以显着增加。

公开(公告)号：WO2010022970A1

公开(公告)日：2010-03-04

申请号：PCT/EP2009/006258

申请日：2009-08-28

Applicant: ADVANCED MICRO DEVICES, INC. ,  GRILLBERGER, Michael ,  LEHR, Matthias, Uwe

Inventor： GRILLBERGER, Michael ,  LEHR, Matthias, Uwe

IPC: H01L23/58 ,  H01L21/768 ,  H01L23/522

CPC classification number: H01L23/522 ,  H01L23/53295 ,  H01L23/562 ,  H01L2224/05001 ,  H01L2224/05022 ,  H01L2224/051 ,  H01L2224/05572 ,  H01L2224/056 ,  H01L2224/13 ,  H01L2224/16 ,  H01L2924/1433 ,  H01L2924/00014

Abstract: By dividing a single chip area into individual sub areas (200a, 200b, 200c on the basis of one or more stress relaxation regions 280a, 280b,) a thermally- induced stress in each of the sub areas may be reduced during operation of complex integrated circuits, thereby enhancing the overall reliability of complex metallization systems comprising low-k dielectric materials or ULK material. Consequently, a high number of stacked metallization layers in combination with increased lateral dimensions of the semiconductor chip (200) may be used compared to conventional strategies.

Abstract translation: 通过将单个芯片区域划分成各个子区域（200a，200b，200c，基于一个或多个应力松弛区域280a，280b），每个子区域中的热诱导应力可以在复合集成 电路，从而提高包括低k电介质材料或ULK材料的复杂金属化系统的整体可靠性。 因此，与常规策略相比，可以使用大量堆叠的金属化层与半导体芯片（200）的增加的横向尺寸的组合。

公开(公告)号：WO2010000484A1

公开(公告)日：2010-01-07

申请号：PCT/EP2009/004825

申请日：2009-07-03

Applicant: MAIER, Jakob ,  HATZACK, Wilfried

Inventor： MAIER, Jakob ,  HATZACK, Wilfried

IPC: A01J5/04

CPC classification number: A01J5/08

Abstract: Eine Montageeinrichtung für das Installieren von Schlauchstücken, insbesondere von Zitzengummis und kurzen Milchschläuchen umfasst einen Haltebereich, in welchem eine zeitweilige gesteuerte Verformung des Schlauchstückmaterials so erfolgt, dass dieser effizient in die Anschlussöffnung eingeführt werden kann. Dadurch lässt sich die Montagezeit wesentlich reduzieren und eine Schädigung der zum Teil empfindlichen Gummimaterialien, etwa von Silikon vermeiden.

Abstract translation: 为从奶嘴橡胶和短乳管安装软管件，特别是所述的安装装置包括一个保持区域，其中，所述片软管材料的暂时受控变形是这样的，它可以被有效地引入到连接开口。 因此，在安装时可以显着减少，并避免对敏感的部分的橡胶材料，例如硅树脂的损害。

公开(公告)号：WO2009030484A1

公开(公告)日：2009-03-12

申请号：PCT/EP2008/007257

申请日：2008-09-04

Applicant: BREHM, Peter

Inventor： BREHM, Peter

IPC: A61B17/15

CPC classification number: A61B17/157 ,  A61B17/14 ,  A61B17/142

Abstract: Die vorliegende Anmeldung betrifft eine Sägelehre (100) zum Durchführen einer Knochenresektion, umfassend einen Befestigungsabschnitt (101) mit mehreren Bohrungen (114, 115) zur Aufnahme von Befestigungsmitteln (205, 206), die für eine Befestigung des Befestigungsabschnitts an einem Knochen ausgebildet sind; einen Sägeführungsabschnitt (102), der ein Führungsmittel (103) umfasst, das zum Führen eines Sägeblatts in einer Ebene geeignet ist; wobei der Sägeführungsabschnitt durch zwei Stellschrauben (106, 107) mit dem Befestigungsabschnitt verbunden ist, wobei das Führungsmittel zwischen den Stellschrauben angeordnet ist und wobei die Stellschrauben zueinander parallele Achsen aufweisen.

Abstract translation: 本申请涉及一种锯引导件（100），用于执行一个骨切除术，其包括具有多个孔的安装部分（101）（114，115），用于接收紧固装置（205,206），其适于紧固部分在骨的附着; 一个Sägeführungsabschnitt（102），其包括导向装置（103）适于引导在一个平面内的锯刀片; 其中Sägeführungsabschnitt由两个调节螺钉（106,107）被连接到连接部分，其特征在于，所述引导螺杆之间装置设置，并且其中所述螺钉相互平行的轴线。

公开(公告)号：WO2008148557A3

公开(公告)日：2008-12-11

申请号：PCT/EP2008/004499

申请日：2008-06-05

Applicant: UNIVERSITA' DEGLI STUDI DI FOGGIA ,  CORSO, Gaetano ,  D'APOLITO, Dott.ssa, Oceania ,  PAGLIA, Dott., Giuseppe

Inventor： CORSO, Gaetano ,  D'APOLITO, Dott.ssa, Oceania ,  PAGLIA, Dott., Giuseppe

IPC: H01J49/14 ,  H01J49/04

Abstract: A sample holder device for ionization chambers is disclosed. The sample holder device of the present invention allows to perform DESI measurements (desorption electrospray ionization mass spectrometry) in ionization chambers equipped with facilities for other mass spectrometry ionization techniques such as ESI (electrospray ionization mass spectrometry) and APCI (atmospheric pressure chemical ionization). By simply and easily inserting the sample holder device according to the present invention in a ionization chamber equipped for instance with ESI or APCI facilities, it is possible to work with a further ionization technique (DESI) in the same ionization chamber without costly and time-consuming modifications of the chamber. It is thus possible to profit of all the advantages of the DESI technique and, at the same time, to compare the results obtained with those obtained with other ionization techniques such as ESI or APCI.