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    プレス成形用ガラス素材、該ガラス素材を用いたガラス光学素子の製造方法、及びガラス光学素子
    77.
    发明申请
    プレス成形用ガラス素材、該ガラス素材を用いたガラス光学素子の製造方法、及びガラス光学素子 审中-公开
    用于压制成型的玻璃材料，使用其制造玻璃光学元件的方法和玻璃光学元件

    公开(公告)号：WO2010131741A1

    公开(公告)日：2010-11-18

    申请号：PCT/JP2010/058198

    申请日：2010-05-14

    Applicant: HOYA株式会社 ,  鄒 学禄 ,  河野 洋 ,  白石 幸一郎

    Inventor： 鄒　学禄 ,  河野　洋 ,  白石　幸一郎

    IPC: C03B40/00 ,  C03B11/00 ,  C03C3/06 ,  C03C3/062 ,  C03C3/064 ,  C03C3/066 ,  C03C3/068 ,  C03C3/095 ,  C03C3/097 ,  C03C3/15 ,  C03C3/155 ,  C03C3/16 ,  C03C3/17 ,  C03C3/19 ,  C03C3/21 ,  C03C3/253 ,  C03C17/02 ,  C03C17/34 ,  G02B1/00 ,  G02B1/11

    CPC classification number: G02B1/113 ,  C03B11/08 ,  C03B40/02 ,  C03B2215/24 ,  C03C3/068 ,  C03C3/21 ,  C03C17/02 ,  C03C2217/213 ,  G02B1/10 ,  G02B1/11 ,  Y10T428/24521 ,  Y10T428/265

    Abstract: 反応性の高い成分を含有するガラス素材であっても、表面クラック、クモリ、キズ等が無く、充分な光学性能を有する光学素子を提供するプレス成形用ガラス素材を提供する。表面クラック、クモリ、キズ等が無く、充分な光学性能を有する光学素子とその製造方法を提供する。多成分系の光学ガラスからなる芯部と、少なくとも前記芯部の光学機能面となる部位を覆う表面ガラス層とを有し、前記表面ガラス層は、ＳｉＯ 2 を９０質量％超含み、膜厚が５ｎｍ未満であるプレス成形用ガラス素材。このガラス素材を加熱し、軟化した前記ガラス素材を成形型によりプレス成形してガラス光学素子を得るガラス光学素子の製造方法。多成分系の光学ガラスからなる芯部と、少なくとも前記芯部の光学機能面を覆う表面ガラス層とを有し、前記表面ガラス層は、ＳｉＯ 2 を９０質量％超含み、膜厚が５ｎｍ未満であるプレス成形されたガラス光学素子。

    Abstract translation: 公开了一种用于压制成形的玻璃材料，即使当玻璃材料含有高反应性组分时，也提供具有足够光学性能的光学元件，而没有表面裂纹，浑浊，划痕等。 还公开了具有足够的光学性能而没有表面裂纹，浑浊，划痕等的光学元件及其制造方法。 具体公开了一种用于压制成形的玻璃材料，其包括由多组分光学玻璃构成的芯部和至少覆盖用作芯部的光学功能表面的区域的表面玻璃层。 表面玻璃层含有超过90质量％的SiO 2，层的厚度小于5纳米。 还具体公开了一种通过加热玻璃材料并通过使用成形模冲压成形软化玻璃材料来制造玻璃光学元件的方法。 还具体公开了一种压制成型玻璃光学元件，其具有由多组分光学玻璃构成的芯部和至少覆盖芯部的光学功能表面的表面玻璃层。 表面玻璃层含有超过90质量％的SiO 2，层的厚度小于5纳米。

    DEKORATIVE BESCHICHTUNGEN AUF GLAS- ODER GLASKERAMIK-ARTIKELN
    78.
    发明申请
    DEKORATIVE BESCHICHTUNGEN AUF GLAS- ODER GLASKERAMIK-ARTIKELN 审中-公开
    装饰涂料在玻璃或陶瓷制品

    公开(公告)号：WO2010081531A1

    公开(公告)日：2010-07-22

    申请号：PCT/EP2009/009298

    申请日：2009-12-29

    Applicant: SCHOTT AG ,  BOCKMEYER, Matthias ,  SCHMITT, Hans-Joachim ,  ANTON, Andrea ,  KARAPINAR, Ercan

    Inventor： BOCKMEYER, Matthias ,  SCHMITT, Hans-Joachim ,  ANTON, Andrea ,  KARAPINAR, Ercan

    IPC: C03C17/00 ,  C03C17/02

    CPC classification number: C03C17/02 ,  C03C17/007 ,  C03C2217/475 ,  C03C2217/485 ,  C03C2217/72 ,  C03C2218/113

    Abstract: Die Erfindung bezieht sich auf die Erstellung und Verwendung einer Grauton-Palette für dekorative Beschichtungen auf Basis eines Sol-Gel-Verfahrens von Glas und insbesondere Glaskeramik-Artikeln, wobei nicht-plättchenförmige Pigmente und Festschmierstoff in bestimmten Massenverhältnissen als Dekorpigmente eingesetzt werden. Unterschiedliche Farbtöne können durch die Variation des Festschmierstoff-Gehalts der Dekorpigmente erreicht werden. Der besondere Vorteil der erfindungsgemäßen Pigmentierung liegt in den guten Schichteigenschaften der hochtemperaturstabilen Dekorschicht. Die erfindungsgemäß hergestellten Dekorschichten weisen insbesondere eine gute Haftfestigkeit zwischen Substrat und Dekorschicht, eine gute Dichtigkeit gegenüber Fluiden und Gasen beim Gebrauch sowie eine hohe Kratzfestigkeit auf. Die Erfindung bezieht sich weiterhin auf insbesondere nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte Glas- oder Glaskeramik-Artikel mit dekorativen Beschichtungen, die sich aufgrund der genannten guten Schichteigenschaften der Dekorschicht besonders für den Einsatz als Glaskeramik-Kochfeld eignen.

    Abstract translation: 本发明涉及制备和使用的灰度范围为基于玻璃，特别是陶瓷制品的溶胶 - 凝胶过程装饰涂料于，所述非小片状颜料和固体润滑剂以某些重量比为装饰颜料使用。 不同的颜色可以通过改变装饰颜料的固体润滑剂含量来实现。 本发明的特别的优点在于高温稳定装饰层的色素沉着良好的层特性。 根据在所述基板和所述装饰层，使用过程中对液体和气体的良好密封之间特别良好的粘接强度的本发明表现出装饰层，以及一个高的耐擦伤性。 本发明还涉及本发明制造的玻璃或装饰涂料，这是特别适合于用作玻璃陶瓷烹饪场玻璃 - 陶瓷制品的具体过程中，由于装饰层的所提到的良好的膜性能。

    METHOD OF MAKING AN ANTIREFLECTIVE SILICA COATING, RESULTING PRODUCT, AND PHOTOVOLTAIC DEVICE COMPRISING SAME
    80.
    发明申请
    METHOD OF MAKING AN ANTIREFLECTIVE SILICA COATING, RESULTING PRODUCT, AND PHOTOVOLTAIC DEVICE COMPRISING SAME 审中-公开
    制备抗反射硅石涂层的方法，产生结果的产品以及包括相同结构的光伏器件

    公开(公告)号：WO2009017532A2

    公开(公告)日：2009-02-05

    申请号：PCT/US2008007057

    申请日：2008-06-05

    Applicant: GUARDIAN INDUSTRIES ,  VARAPRASAD DESARAJU V

    Inventor： VARAPRASAD DESARAJU V

    IPC: C03C17/02 ,  C03C17/28 ,  H01G9/00 ,  H01L31/0216

    CPC classification number: H01L51/447 ,  C03C17/001 ,  C03C17/02 ,  C03C2217/732 ,  C03C2218/11 ,  C03C2218/32 ,  H01L31/02168 ,  H01L31/0392 ,  H01L31/056 ,  Y02E10/52 ,  Y02E10/549 ,  Y02P70/521

    Abstract: A low-index silica coating may be made by forming a silica precursor having a radiation curable composition including a radiation curable monomer and/or a photoinitiator, and also including a silica sol comprising a silane and/or a colloidal silica. The silica precursor may be deposited on a substrate (e.g., glass substrate) to form a coating layer. The coating layer may then be cured via exposure to electromagnetic radiation, such as UV radiation. Then, the cured coating layer may be fired using temperature(s) of from about 550 to 700°C, in forming the low-index silica based coating. The low-index silica based coating may be used as an antireflective (AR) film on a front glass substrate of a photovoltaic device (e.g., solar cell) in certain example instances.

    Abstract translation: 低折射率二氧化硅涂层可以通过形成具有包含可辐射固化单体和/或光引发剂的可辐射固化组合物的二氧化硅前体并且还包括包含硅烷和/或胶态二氧化硅的二氧化硅溶胶来制备。 二氧化硅前体可以沉积在基底（例如玻璃基底）上以形成涂层。 然后可以通过暴露于电磁辐射例如UV辐射来固化涂层。 然后，在形成低折射率二氧化硅基涂层时，可以使用约550至700℃的温度对固化涂层进行烧制。 在某些实例中，低折射率二氧化硅基涂层可用作光伏装置（例如，太阳能电池）的前玻璃基板上的抗反射（AR）膜。

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