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    METHOD FOR PRODUCING DAMAGE RESISTANT OPTICS
    3.
    发明申请
    METHOD FOR PRODUCING DAMAGE RESISTANT OPTICS 审中-公开
    生产耐损伤光学方法

    公开(公告)号：WO2003022771A1

    公开(公告)日：2003-03-20

    申请号：PCT/US2002/028303

    申请日：2002-09-06

    申请人： THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA

    发明人： HACKEL, Lloyd, A. ,  BURNHAM, Alan, K. ,  PENETRANTE, Bernardino, M. ,  BRUSASCO, Raymond, M. ,  WEGNER, Paul, J. ,  HRUBESH, Lawrence, W. ,  KOZLOWSKI, Mark, R. ,  FEIT, Michael, D.

    IPC分类号： C03C23/00

    CPC分类号： C03C23/002 ,  C03C15/00 ,  C03C23/0025

    摘要： The present invention provides a system that mitigates the growth of surface damage in an optic. Damage to the optic is minimally initiated. In an embodiment of the invention, damages sites in the optic are initiated, located, and then treated to stop the growth of the damage sites. The step of initiating damage sites in the optic includes a scan of the optic using a laser to initiate defects. The exact positions of the initiated sites are identified. A mitigation process is performed that locally or globally removes the cause of subsequent growth of the damaged sites.

    摘要翻译： 本发明提供一种减轻光学元件表面损伤增长的系统。 对光学元件的损害最小化。 在本发明的一个实施例中，光学元件中的损伤部位被启动，定位，然后被处理以停止损伤部位的生长。 在光学元件中引发损伤部位的步骤包括使用激光扫描光学元件来引发缺陷。 确定发起的站点的确切位置。 执行缓解过程，其本地或全局消除受损站点随后增长的原因。

    STRENGTHENED GLASS SUBSTRATES
    7.
    发明申请
    STRENGTHENED GLASS SUBSTRATES 审中-公开
    强化玻璃基材

    公开(公告)号：WO2015069296A1

    公开(公告)日：2015-05-14

    申请号：PCT/US2013/069471

    申请日：2013-11-11

    申请人： EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC

    发明人： TOKI, Motoyuki ,  DAN, Ayami

    IPC分类号： B32B3/06

    CPC分类号： C03C23/002 ,  B32B17/066 ,  C03C17/30 ,  C03C2218/116

    摘要： Methods of making a strengthened ultra-thin glass substrate may include forming a film including a volume expanding composition on a glass substrate, and treating the film under conditions sufficient to cause volume expansion of the volume expanding composition, thereby generating internal compressive stress in the film such that compressive stress is imparted onto the substrate and a fracture strength of the substrate is improved. In some embodiments, the volume expanding compound is converted into a different compound with a larger volume when it is treated under sufficient conditions.

    摘要翻译： 制造加强型超薄玻璃基板的方法可以包括在玻璃基板上形成包括体积扩大组合物的膜，并且在足以引起体积膨胀组合物体积膨胀的条件下处理该膜，从而在膜中产生内部压应力 使得压缩应力被施加到基板上，并且提高了基板的断裂强度。 在一些实施方案中，当在足够的条件下处理时，体积膨胀化合物转化为具有较大体积的不同化合物。

    METHOD OF MAKING A GLASS ENVELOPE
    9.
    发明申请
    METHOD OF MAKING A GLASS ENVELOPE 审中-公开
    制作玻璃包装的方法

    公开(公告)号：WO2006068869A2

    公开(公告)日：2006-06-29

    申请号：PCT/US2005/044952

    申请日：2005-12-12

    申请人： CORNING INCORPORATED ,  SCHROEDER, Joseph F

    发明人： SCHROEDER, Joseph F

    IPC分类号： C03B23/20 ,  C03C15/00

    CPC分类号： C03C3/118 ,  C03B23/203 ,  C03C17/28 ,  C03C23/0015 ,  C03C23/002 ,  C03C23/0025 ,  C03C23/007 ,  C03C27/06 ,  C03C27/10

    摘要： The coefficient of absorption of a pre-selected region of a glass sheet is preferentially increased. The glass sheet may thereafter be sealed to a substrate using a sealing laser. In one embodiment, the coefficient of absorption sheet is increased by irradiating the glass sheet at a wavelength of about 248 nm, preferably through a mask, to produce an irradiated pattern on the glass sheet having a pre-determined shape. The glass sheet is then heat treated, placed over a substrate and sealed to the substrate by exposing the irradiated pattern to a sealing laser light having a wavelength in the range between about 355 nm and 532 nm to produce a glass envelope. The method disclosed herein is useful, inter alia, for manufacturing electro-luminescent devices, such as light emitting diodes (LEDs) and in particular organic light emitting diodes (OLEDs).

    摘要翻译： 玻璃板的预选区域的吸收系数优先增加。 然后可以使用密封激光将玻璃片密封到基板。 在一个实施例中，吸收片的系数通过以约248nm的波长照射玻璃板，优选通过掩模来增加，以在具有预定形状的玻璃板上产生照射图案。 然后将玻璃板进行热处理，放置在基板上并通过将照射图案暴露于波长在约355nm至532nm之间的密封激光而密封至基板以产生玻璃封套。 本文公开的方法尤其用于制造电致发光器件，例如发光二极管（LED），特别是有机发光二极管（OLED）。

    MASK, MASK BLANK, PHOTOSENSITIVE FILM THEREFOR AND FABRICATION THEREOF
    10.
    发明申请
    MASK, MASK BLANK, PHOTOSENSITIVE FILM THEREFOR AND FABRICATION THEREOF 审中-公开
    遮罩，遮罩，其感光膜及其制造方法

    公开(公告)号：WO2004107046A2

    公开(公告)日：2004-12-09

    申请号：PCT/US2004014005

    申请日：2004-05-05

    申请人： BELLMAN ROBERT A ,  BORRELLI NICHOLAS F ,  WALTON ROBIN M ,  CORNING INC

    发明人： BELLMAN ROBERT A ,  BORRELLI NICHOLAS F ,  WALTON ROBIN M

    IPC分类号： C03C17/02 ,  C03C23/00 ,  G03F1/00 ,  G03F1/26 ,  G03F1/60 ,  G03F1/14

    CPC分类号： G03F1/60 ,  C03C17/02 ,  C03C23/002 ,  C03C2217/23 ,  C03C2218/32 ,  C03C2218/328 ,  G03F1/26

    摘要： Disclosed are masks and mask blanks for photolithographic processes, photosensitive films and fabrication method therefor. Photosensitive films are deposited on a substrate in the masks for recording permanent pattern features via UV exposure. The masks are advantageously phase-shifting, but can be gray-scale masks having index patterns with arbitrary distribution of refractive index and pattern depth. The masks may have features above the surface formed from opaque or attenuating materials. Boro-germano-silicate photosensitive films having a composition consisting essentially, in terms of mole percentage, of: 0-20% of B2O3, 5-25% of GeO2 and the remainder SiO2 can be used for the film. The film is advantageously deposited by using PECVD wherein tetramethoxygermane is used as the germanium source.

    摘要翻译： 公开了用于光刻工艺的掩模和掩模坯料，感光膜及其制造方法。 感光膜沉积在掩模中的基底上，用于通过UV曝光记录永久图案特征。 掩模有利地是相移，但是可以是具有折射率和图案深度的任意分布的索引图案的灰度掩模。 掩模可以具有由不透明或衰减材料形成的表面上方的特征。 具有组成基本上以摩尔百分比为基准的硼硅酸盐光敏膜：0-20％的B2O3，5-25％的GeO2和剩余的SiO 2可用于该膜。 该薄膜有利地通过使用四甲氧基锗烷作为锗源的PECVD沉积。