摘要:
Verfahren zur Beschichtung eines Drahtes aus einem Metall 1 ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Kupfer, Silber, Gold, Nickel sowie Legierungen eines dieser Metalle mit mindestens einem anderen Metall mit einer Mantelschicht aus einem von Metall 1 verschiedenen Metall 2 ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Nickel, Silber, Gold, Ruthenium, Platin, Palladium, Rhodium sowie Legierungen eines dieser Metalle mit mindestens einem anderen Metall, umfassend die Schritte: (a) Bereitstellung eines Drahtes mit einer Querschnittsfläche im Bereich von 75 bis 200000 μιτι2 aus einem Metall 1, (b) Bereitstellung eines Behälters mit einer Einlassöffnung für den Draht, wobei der Umriss der Einlassöffnung dem des zu ummantelnden Drahtes entspricht oder einen bis zu 20 μιτι breiten wenigstens teilweise um den Drahtumriss umlaufenden Spalt bildet, (c) Einführen des Drahtes in die Einlassöffnung, (d) Einfüllen einer zum Aufbringen der Mantelschicht aus dem von Metall 1 verschiedenen Metall 2 geeigneten flüssigen Beschichtungszusammensetzung in den Behälter, (e) gerades Hindurchführen des Drahtes durch die flüssige Beschichtungszusammensetzung und den Behälter und Verlassen des Behälters in beschichteter Form, und (f1 ) Trocknen des in Schritt (e) beschichteten Drahtes oder (f2) thermisches Behandeln des in Schritt (e) beschichteten Drahtes, wobei (i) es sich bei der flüssigen Beschichtungszusammensetzung um eine eine außenstromlose Applikation von Metall 2 auf ein Substrat aus dem Metall 1 erlaubende Zusammensetzung handelt oder (ii) der Draht als Kathode geschaltet ist und es sich bei der flüssigen Beschichtungszusammensetzung um eine eine Elektroplattierung mit Metall 2 eines als Kathode geschalteten Substrates aus dem Metall 1 erlaubende Zusammensetzung handelt.
摘要:
A microelectronic assembly (210) includes a substrate (212) having a first surface (214) and a second surface (216) remote from the first surface (214). A microelectronic element (222) overlies the first surface (214) and first electrically conductive elements (228) are exposed at one of the first surface (214) and the second surface (222). Some of the first conductive elements (228) are electrically connected to the microelectronic element (222). Wire bonds (232) have bases (234) joined to the conductive elements (228) and end surfaces (238) remote from the substrate (212) and the bases (234), each wire bond (232) defining an edge surface (237) extending between the base (234) and the end surface (238). An encapsulation layer (242) extends from the first surface (214) and fills spaces between the wire bonds (232) such that the wire bonds (232) are separated by the encapsulation layer (242). Unencapsulated portions of the wire bonds (232) are defined by at least portions of the end surfaces (238) of the wire bonds that are uncovered by the encapsulation layer (242).
摘要:
Packaged semiconductor assemblies including interconnect structures and methods for forming such interconnect structures are disclosed herein. One embodiment of a packaged semiconductor assembly includes a support member having a first bond-site and a die carried by the support member having a second bond-site. An interconnect structure is connected between the first and second bond-sites and includes a wire that is coupled to at least one of the first and second bond-sites. The interconnect structure also includes a third bond-site coupled to the wire between the first and second bond-sites.
摘要:
Methods of forming wire and solder bond structures are disclosed. In one embodiment, a method includes providing a structure including a wire bond metal region (102) for the wire bond and a solder bond metal region (104) for the solder bond; forming a protective layer (250) over the wire bond metal region only; forming a silicon nitride layer (106) over a silicon oxide layer (108) over the wire bond metal region and the solder bond metal region,- forming the solder bond to the solder bond metal region while maintaining the wire bond metal region covered; exposing the wire bond metal region including removing the protective layer; and forming the wire bond to the wire bond metal region. Wire bond and solder bond structures can be made accessible on a single multi-part wafer (MPW) wafer or on a single chip, if necessary.
摘要:
Bond wires for integrated circuits are implemented using a variety of methods. Using one such method, a composite bond wire is produced for use in an integrated circuit. A conductive material is melted and mixed with a material of particles less than 100 micrometers in size to create a mixture. The mixture is used to create the composite bond wire. A composite wire having an inner core and an outer layer having a higher conductivity than the inner core is also provided. The outer layer is designed to be thicker than the skin depth at the operating frequency for carrying AC signals.
摘要:
Es wird eine Vorrichtung (100) mit einem Grundkörper (1) aufweisend eine Elektrode (11) und mit einem Kontaktelement (2) angegeben. Das Kontaktelement (2) ist direkt mechanisch und elektrisch leitfähig mit der Elektrode (11) verbunden, um eine elektrische Verbindung (3) zwischen dem Grundkörper (1) und dem Kontaktelement (11) zu bilden. Die elektrische und mechanische Verbindung (3) zwischen der Elektrode (11) und dem Kontaktelement ist frei von Aufschmelzbereichen der an der Verbindung (3) beteiligten Materialien der Elektrode (11) und des Kontaktelements (2). Weiterhin ist die Verbindung (3) verbindungsmaterialfrei, beispielsweise lotmaterialfrei, realisiert.
摘要:
A method for making a microelectronic unit (10) includes forming wire bonds (32) on a conductive bonding surface (30') of a patternable metallic element (28'). The wire bonds are formed having bases (34) joined to the first surface and end surfaces (38) remote from the first surface. The wire bonds have edge surfaces (36) extending between the bases and the end surfaces. The method also includes forming a dielectric encapsulation layer (42) over a portion of the first surface of the conductive layer and over portions of the wire bonds such that unencapsulated portions of the wire bonds are defined by end surfaces or portions of the edge surfaces that are uncovered by the encapsulation layer. The metallic element is patterned to form first conductive elements (28) beneath the wire bonds and insulated from one another by portions of the encapsulation layer.
摘要:
A microelectronic assembly (10) includes a substrate (12) having a first and second opposed surfaces. A microelectronic element (22) overlies the first surface and first electrically conductive elements (28) can be exposed at at least one of the first surface or second surfaces. Some of the first conductive elements (28) are electrically connected to the microelectronic element (22). Wire bonds (32) have bases (34) joined to the conductive elements (28) and end surfaces (38) remote from the substrate and the bases, each wire bond defining an edge surface (37) extending between the base and the end surface. An encapsulation layer (42) can extend from the first surface and fill spaces between the wire bonds, such that the wire bonds can be separated by the encapsulation layer. Unencapsulated portions of the wire bonds (32) are defined by at least portions of the end surfaces (38) of the wire bonds that are uncovered by the encapsulation layer (42).