公开(公告)号：WO2016031614A1

公开(公告)日：2016-03-03

申请号：PCT/JP2015/073071

申请日：2015-08-18

Applicant: シャープ株式会社

Inventor： 山口　勝寛

IPC: B08B7/00 ,  G02F1/13 ,  G09F9/00

CPC classification number: G02F1/1333 ,  B08B1/002 ,  B08B1/04 ,  B08B3/00 ,  B08B3/02 ,  B08B7/0035 ,  G02F1/1303 ,  G02F1/133528 ,  G02F2001/1316 ,  G02F2001/133302 ,  G02F2203/64

Abstract: 液晶パネル１１の製造方法は、ＣＦ基板１１ａ及びアレイ基板１１ｂの外面１１ａ１，１１ｂ１を湿式洗浄する湿式洗浄工程と、湿式洗浄工程の前と後との少なくともいずれか一方にて行われ、ＣＦ基板１１ａ及びアレイ基板１１ｂの外面１１ａ１，１１ｂ１にプラズマを照射することで同外面１１ａ１，１１ｂ１を洗浄するプラズマ洗浄工程と、湿式洗浄工程及びプラズマ洗浄工程を終えた後に、ＣＦ基板１１ａ及びアレイ基板１１ｂの外面１１ａ１，１１ｂ１に偏光板１１ｆ，１１ｇを貼り付ける偏光板貼り付け工程と、を備える。

Abstract translation: 制造液晶面板11的方法包括：通过湿式清洗方法清洁CF基板11a和阵列基板11b的外表面11a1和11b1的湿式清洗步骤; 其中通过照射等离子体来清洁CF基板11a和阵列基板11b的外表面11a1和11b1的等离子体清洗步骤，等离子体清洗步骤在湿式清洗步骤之前和之后进行至少一个; 以及在湿式清洗步骤和等离子体清洗步骤完成之后，将偏光板11f和11g接合到CF基板11a和阵列基板11b的外表面11a1和11b1上的偏光板接合步骤。

公开(公告)号：WO2015176336A1

公开(公告)日：2015-11-26

申请号：PCT/CN2014/079708

申请日：2014-06-12

Applicant: 深圳市华星光电技术有限公司

Inventor： 姚江波

IPC: B08B7/00

CPC classification number: B08B7/0057 ,  B08B13/00 ,  G02F1/1368 ,  G02F2001/1316 ,  G02F2001/133302

Abstract: 一种可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，包括如下步骤：步骤１、提供紫外光灯（１０）与待紫外光清洗的基板（２０）；步骤２、在紫外光灯（１０）与待紫外光清洗的基板（２０）之间设置数块遮光板（３０）；步骤３、转动遮光板（３０），调整紫外光灯（１０）发出的紫外光照射到基板（２０）上的面积，从而控制单位时间内紫外光照射到基板（２０）上的能量；步骤４、紫外光灯（１０）发出紫外光清洗基板（２０）。通过该方法可以灵活调节用于基板清洗的紫外光能量，达到既能有效去除黏附于基板表面的有机物，又能避免设于基板上的电路图形被静电击伤的目的。

公开(公告)号：WO2010024352A1

公开(公告)日：2010-03-04

申请号：PCT/JP2009/064999

申请日：2009-08-27

Applicant: シャープ株式会社 ,  中本 厚 ,  酒井 宏祐 ,  田寺 孝光

Inventor： 中本　厚 ,  酒井　宏祐 ,  田寺　孝光

IPC: B08B5/00 ,  B08B11/00 ,  G02F1/1335

CPC classification number: B08B5/00 ,  B08B11/00 ,  G02F2001/1316

Abstract: 　シート状部材清掃装置(１)において、ノズル部材(１２)は、先端部に吸引口(１５)と、シート状部材厚さ方向(Ｄｈ)に対向する内面(１９)の間隔(Ｈｘ)が吸引口(１５)から離れるほど小さくなるノズル孔(１８)とを有する。保持部(１１)に保持されるシート状部材(２)の端部近傍に吸引口(１５)が配置された状態で、吸引部(１３)が吸引口(１５)に吸引力を導く。吸引に伴い、ノズル部材(１２)外部からノズル部材(１２)とシート状部材(２)との間の隙間を通ってノズル部材(１２)内部に向かう気流(２０)が生じる。

Abstract translation: 用于清洁片状构件的装置（1）设置有在前端部具有吸入口（15）的喷嘴构件（12）和喷嘴端口（18），其中， 随着喷嘴端口远离吸入口（15），片状部件的厚度方向（Dh）的内表面（19）变小。 在吸入口（15）设置在由保持部（11）保持的片状部件（2）的端部附近的状态下，吸引部（13）将抽吸力 港（15）。 通过喷嘴构件（12）和片状构件（2）之间的空间，从喷嘴构件（12）的外部朝向喷嘴构件（12）的内部流动的气流（20） 吸力。

公开(公告)号：WO2007060844A1

公开(公告)日：2007-05-31

申请号：PCT/JP2006/322452

申请日：2006-11-10

Applicant: 東京エレクトロン株式会社 ,  上川 裕二

Inventor： 上川 裕二

IPC: H01L21/304 ,  F26B9/06 ,  F26B21/14 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333

CPC classification number: H01L21/67028 ,  G02F1/1303 ,  G02F2001/1316 ,  H01L21/67034

Abstract: Provided is a downsized substrate cleaning/drying apparatus (23) which can excellently dries a substrate (2). The substrate cleaning/drying apparatus performs cleaning process and drying process to the substrate. The apparatus is provided with a processing bath (34), which can store the substrate in an opened inner section and performs cleaning process and drying process to the stored substrate by using a cleaning solution held inside; a cover (89) which can close the processing bath; and a shielding mechanism (65) which is arranged between the processing bath and the cover and shields the inner surface of the cover that faces the inside of the processing bath when the cover closes the processing bath. In the apparatus, the cover closes the processing bath at the time of performing drying process to the substrate in the processing bath, and the shielding mechanism shields the inner surface of the cover at the time of performing cleaning process to the substrate in the processing bath.

Abstract translation: 提供了一种可以优异地干燥衬底（2）的尺寸小的衬底清洗/干燥设备（23）。 基板清洗/干燥装置对基板进行清洗处理和干燥处理。 该设备设置有处理槽（34），其可以将基板存储在打开的内部部分中，并通过使用保持在内部的清洁溶液对存储的基板进行清洁处理和干燥处理; 可以关闭处理槽的盖（89）; 以及屏蔽机构（65），其布置在处理槽和盖之间，并且当盖关闭处理槽时，屏蔽面向加工槽内部的盖的内表面。 在该装置中，盖子在处理槽中对基板进行干燥处理时关闭处理槽，并且屏蔽机构在对处理槽中的基板进行清洗处理时屏蔽盖的内表面 。

公开(公告)号：WO2007040049A1

公开(公告)日：2007-04-12

申请号：PCT/JP2006/318621

申请日：2006-09-20

Applicant: 東京エレクトロン株式会社 ,  滝本 雄二

Inventor： 滝本 雄二

IPC: H01L21/304 ,  B08B3/00 ,  G02F1/13

CPC classification number: H01L21/67046 ,  B08B1/04 ,  B08B3/00 ,  G02F1/1303 ,  G02F2001/1316 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67253

Abstract: 　本発明による基板洗浄装置は、複数の洗浄装置と、各洗浄装置を予め設定された駆動レシピに基づいて駆動制御する制御装置と、を備える。制御装置は、洗浄装置に優先順位を設定し、上位の洗浄装置の駆動レシピと下位の洗浄装置の駆動レシピとに基づき、洗浄装置間で干渉が生じ得る時間を算出し、算出された待機時間として設定する。上位の洗浄装置によって所定の洗浄開始位置から基板の洗浄を開始し、下位の洗浄装置を所定の待機位置で待機させる。上位の洗浄装置の洗浄開始時から起算して待機時間が経過したときまたは経過した後に、下位の洗浄装置を待機位置から移動させ、下位の洗浄装置によって基板の洗浄を開始する。

Abstract translation: 基板清洗装置设置有多个清洁装置，以及控制器，用于根据预先设定的驱动方式控制各清洗装置的驱动。 控制器设置清洁装置的优先级，根据上位清洁装置的驱动配方和下位清洁装置的驱动配方，计算在清洁装置之间产生干扰的时间，并将结果 作为计算的等待时间。 上层清洁装置从规定的清洁开始位置开始清洗基板，允许下层清洁装置在规定的等待位置等待。 当从上级清洁装置开始清洁时或经过这样的时间之后等待时间过去时，下层清洁装置从等待位置移位，并且下层清洁装置被允许开始清洁基板。

公开(公告)号：WO2005104200A1

公开(公告)日：2005-11-03

申请号：PCT/JP2005/007450

申请日：2005-04-19

Applicant: 東京エレクトロン株式会社 ,  大野 広基 ,  関口 賢治

Inventor： 大野 広基 ,  関口 賢治

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/02 ,  G02F2001/1316 ,  H01L21/67028 ,  Y10S134/902

Abstract: A cleaning process using a cleaning liquid nozzle and a rinse process using a side rinse nozzle are performed to a wafer, and then a drying process is performed. In the drying process, the wafer is rotated, pure water starts to be supplied to a center point of the wafer from the pure water nozzle, and substantially at the same time, nitrogen gas starts to jet from a gas nozzle, at the wafer center part, to a point at a suitable distance from the wafer center. Then, while permitting the pure water nozzle to scan the wafer toward the wafer circumference, the gas nozzle is permitted to scan the wafer toward the wafer circumference in an area inner than the pure water nozzle position, after passing the wafer center.

Abstract translation: 对晶片进行使用清洗液喷嘴的清洗处理和使用侧面冲洗喷嘴的冲洗处理，然后进行干燥处理。 在干燥过程中，晶片旋转，纯水开始从纯水喷嘴供应到晶片的中心点，并且基本上同时，氮气开始从气体喷嘴喷射，在晶片中心 部分，到与晶片中心合适距离的点。 然后，在允许纯水喷嘴朝向晶片周边扫描晶片的同时，允许气体喷嘴在通过晶片中心之后沿着纯水喷嘴位置内的区域向晶片圆周扫描。

公开(公告)号：WO2004069438A1

公开(公告)日：2004-08-19

申请号：PCT/CN2003/000121

申请日：2003-02-08

IPC: B08B5/02

CPC classification number: B08B5/023 ,  B08B5/02 ,  G02F2001/1316 ,  G02F2001/133354

Abstract: The present invention discloses an automatic air bath cleaning apparatus and method for assembling liquid crystal display device element. The automatic air bath cleaning apparatus for assembling liquid crystal display device element includes a transmitting device (20) for transmitting the liquid crystal display device element; a cycle filtering air feeder (10) disposed over the transmitting device, which is used to generate a air current to remove dusts on the liquid crystal display device element; and a assembling region (30) provided at the end portion of the transmitting device, which is used to receive and assemble the liquid crystal display device elements.

公开(公告)号：WO2015098183A1

公开(公告)日：2015-07-02

申请号：PCT/JP2014/072624

申请日：2014-08-28

Applicant: シャープ株式会社

Inventor： 冨安　一秀

IPC: G02F1/1339 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1343 ,  G09F9/00 ,  G09F9/30

CPC classification number: G02F1/13394 ,  G02F1/133345 ,  G02F1/13439 ,  G02F1/1368 ,  G02F2001/1316 ,  G02F2001/13396 ,  G02F2001/13398 ,  G02F2001/134372 ,  G02F2202/02 ,  H01L27/1225 ,  H01L27/1248 ,  H01L27/1259

Abstract: 　本発明の実施形態によるアクティブマトリクス基板の製造方法は、基板（１１）上に薄膜トランジスタ（１０）を形成する工程（ａ）と、薄膜トランジスタを覆う層間絶縁層（２２）を形成する工程（ｂ）と、工程（ｂ）の後、第１電極（３２ｐ）を形成する工程（ｃ）と、工程（ｃ）の後、基板上に感光性樹脂材料を付与してパターニングすることにより、フォトスペーサ（３８）を形成する工程（ｄ）と、工程（ｄ）の後、フッ素系ガスを含み、かつ酸素ガスを含まないガスを用いてプラズマ処理を行う工程（ｅ）とを包含する。

Abstract translation: 根据本发明的实施例，有源矩阵基板的制造方法包括：（a）在基板（11）上形成薄膜晶体管（10）的步骤（a）。 用于形成覆盖薄膜晶体管的层间绝缘层（22）的步骤（b）; 步骤（c），用于在步骤（b）之后形成第一电极（32p）; 在步骤（c）之后通过在基板上施加感光性树脂材料进行图案化而形成光隔离物（38）的工序（d） 以及在步骤（d）之后，使用含氟基气体但不含氧气的气体进行等离子体处理的步骤（e）。

公开(公告)号：WO2015018160A1

公开(公告)日：2015-02-12

申请号：PCT/CN2013/089486

申请日：2013-12-16

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方显示技术有限公司

Inventor： 唐华 ,  赵冉

IPC: B08B11/00 ,  G02F1/1343

CPC classification number: C23C16/44 ,  B05D1/02 ,  B05D1/08 ,  B05D1/10 ,  B05D3/105 ,  B05D3/107 ,  B05D5/00 ,  B05D7/50 ,  B05D7/52 ,  B05D7/56 ,  C23C4/00 ,  C23C4/06 ,  C23C4/10 ,  C23C4/11 ,  C23C4/12 ,  C23C4/123 ,  C23C4/129 ,  C23C4/18 ,  C23C14/00 ,  C23C14/021 ,  C23C14/024 ,  C23C14/08 ,  C23C14/081 ,  C23C14/082 ,  C23C14/083 ,  C23C14/085 ,  C23C14/086 ,  C23C14/087 ,  C23C14/088 ,  C23C14/22 ,  C23C14/34 ,  C23C14/5873 ,  C23C16/00 ,  C23C16/40 ,  C23C16/401 ,  C23C16/402 ,  C23C16/403 ,  C23C16/404 ,  C23C16/405 ,  C23C16/406 ,  C23C16/407 ,  C23C16/408 ,  C23C16/409 ,  C23C16/56 ,  G02F1/13439 ,  G02F2001/1316 ,  Y10T428/24752

Abstract: 一种形成膜层的方法和包括膜层的基板，可解决通过现有的形成膜层方法形成膜层易出现膜层不良的问题。形成膜层的方法包括通过多步的方式在基板（1）上形成彼此重叠的相同材料的多个子膜层（201，202）以构成膜层；其中，在形成每一个子膜层（201，202）之后就进行一次对刚形成的子膜层（201，202）的清洗。基板（1）包括由形成膜层的方法形成的膜层。该方法可用于提升膜层品质。

公开(公告)号：WO2015010340A1

公开(公告)日：2015-01-29

申请号：PCT/CN2013/080233

申请日：2013-07-26

Applicant: 深圳市华星光电技术有限公司

Inventor： 孙世英

IPC: B08B7/00 ,  B08B5/02 ,  G02F1/1339

CPC classification number: B08B11/04 ,  A47L5/14 ,  B08B5/02 ,  B08B7/028 ,  B08B7/04 ,  B08B15/04 ,  C03C23/0075 ,  G02F2001/1316

Abstract: 一种玻璃基板（40）的清洗方法，包括：步骤1、提供一传送平台（20）及待清洗的玻璃基板（40）；步骤2、将待清洗的玻璃基板（40）置于该传送平台（20）上；步骤3、提供两个吹气装置（60）；步骤4、该两个吹气装置（60）向待清洗的玻璃基板（40）吹气，以使得附着于待清洗的玻璃基板（40）上的杂质（42）脱离玻璃基板（40）；步骤5、提供吸附装置（80）,该吸附装置（80）包括吸气装置（82）及磁吸装置（84）；步骤6、所述吸气装置（82）对待清洗的玻璃基板（40）进行吸气，且该磁吸装置（84）对待清洗的玻璃基板（40）上的磁性杂质产生磁吸力，进而将待清洗的玻璃基板（40）上的杂质（42）吸入吸附装置（80）内。还提供了一种玻璃基板（40）的清洗装置。