-
公开(公告)号：WO2019125000A1
公开(公告)日：2019-06-27
申请号：PCT/KR2018/016304
申请日：2018-12-20
Applicant: 주식회사 포스코
Abstract: 본 발명은 스테인레스 발색 기판 및 이를 위한 스테인레스 기판의 발색 방법에 관한 것으로, 상기 발색 기판은 표면 경도가 높은 스테인레스 기재 상에 얇은 두께의 글래스층, 금속층 및 탑코팅층을 순차적으로 적층시킴으로써 스테인레스 기재의 고유 질감 및 광택을 유지하면서 표면에 다양한 색상을 높은 발색력으로 균일하게 구현할 수 있을 뿐만 아니라, 표면에 구현된 색상의 변색 없이 우수한 내마모성 및 내식성을 나타내는 이점이 있다. 또한, 상기 발색 기판은 종래 발색 기판과 대비하여 박형화가 용이하므로 금속 소재가 사용되는 건축 외장재, 자동차 인테리어, 특히 모바일 제품 프레임 등의 전기전자 부품소재 분야에서 유용하게 사용될 수 있다.
-
公开(公告)号：WO2017105449A1
公开(公告)日：2017-06-22
申请号：PCT/US2015/066204
申请日：2015-12-16
Applicant: INTEL CORPORATION
Inventor： ROMERO, Patricio E.
IPC: C07C257/14 , C07C259/14 , C07F7/28 , C07F15/00 , H01L21/205 , H01L21/28
CPC classification number: C07C257/14 , C23C16/00 , C23C16/18 , H01L2224/16225 , H01L2924/00014 , H01L2924/15311 , H01L2224/13099
Abstract: Embodiments of the present disclosure describe methods of synthesis of amidines, amidine-metal complexes, thin metal films formed using amidine-metal complexes on semiconductor devices, and semiconductor devices and systems with thin metal films formed using amidine-metal complexes. Other embodiments may be described and/or claimed.
Abstract translation: 本公开的实施方案描述了在半导体器件上合成脒，脒 - 金属络合物，使用脒 - 金属络合物形成的金属薄膜的方法，以及具有使用脒形成的金属薄膜的半导体器件和系统 金属络合物。 其他实施例可以被描述和/或要求保护。
-
公开(公告)号：WO2014174803A1
公开(公告)日：2014-10-30
申请号：PCT/JP2014/002157
申请日：2014-04-16
Applicant: パナソニック株式会社
CPC classification number: H01L51/0002 , C23C14/243 , C23C16/00 , H01L27/3244 , H01L51/001 , H01L51/56
Abstract: パネル部を構成する構成要素が蒸着装置により成膜されるＥＬ表示装置の製造方法において、蒸着装置は、蒸着材料（４５）が収容される坩堝（４８）と、坩堝（４８）が内部に配置される金属製のケース（４９）と、坩堝（４８）内の蒸着材料（４５）を加熱する加熱ヒータ（５０）とを備え、ケース（４９）は、坩堝（４８）との間に間隙を設けて坩堝（４８）を収容する容器部（４９ａ）と、容器部（４９ａ）の開口部に取外し可能に取付けられ、かつ蒸着材料（４５）の蒸気を噴出させる噴出口（４９ｃ）を設けた蓋部（４９ｂ）とを有する。
Abstract translation: 在该蒸镀装置的薄膜形成构成面板部的构成要素的EL显示装置的制造方法中，具备：坩埚（48），其中蒸镀 材料（45）被容纳; 金属壳体（49），其内设置有坩埚（48）; 以及加热坩埚（48）内的蒸镀材料（45）的加热器（50）。 壳体（49）具有容纳坩埚（48）的容器部分（49a），所述容器部分具有相对于所述坩埚（48）设置的间隙; 以及可移除地附接到容器部分（49a）的孔的盖部分（49b），并且设置有排出蒸镀材料（45）的蒸气的排气喷嘴（49c）。
-
公开(公告)号：WO2014170127A1
公开(公告)日：2014-10-23
申请号：PCT/EP2014/056554
申请日：2014-04-02
Applicant: ARCAM AB
Inventor： ACKELID, Ulf
CPC classification number: B22F3/1055 , B05D3/068 , B22F1/025 , B22F2003/1056 , B22F2998/10 , B22F2999/00 , B28B1/001 , B29C64/153 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y70/00 , C23C14/00 , C23C14/223 , C23C16/4417 , Y02P10/295 , C23C16/00 , B22F2202/01
Abstract: Various embodiments provide a method and apparatus for forming a three- dimensional article through successive fusion of parts of at least one layer of a powder bed provided on a work table in an additive manufacturing machine, which parts corresponds to successive cross sections of the three-dimensional article. The method comprises the steps of: applying a layer of predetermined thickness of powder particles on the work table, applying a coating on at least a portion of the powder particles, which coating is at least partially covering the powder particles, and fusing the powder particles on the work table with an electron beam.
Abstract translation: 各种实施例提供了一种用于通过连续融合设置在添加剂制造机器的工作台上的至少一层粉末床的部分来形成三维制品的方法和装置，该部件对应于三维制品的连续横截面， 三维文章。 该方法包括以下步骤：将预定厚度的粉末颗粒层施加在工作台上，在至少部分粉末颗粒上施加涂层，该涂层至少部分地覆盖粉末颗粒，并将粉末颗粒 在工作台上用电子束。
-
公开(公告)号：WO2014000916A1
公开(公告)日：2014-01-03
申请号：PCT/EP2013/058858
申请日：2013-04-29
Applicant: ROBERT BOSCH GMBH
Inventor： BURGHAUS, Jens , PIEPER, Witold
CPC classification number: B22F1/02 , B22F3/225 , B22F7/062 , B22F2998/10 , B22F2999/00 , C22C1/02 , C22C33/0257 , C22C2202/02 , H01F1/24 , H01F41/0246 , C23C14/00 , C23C16/00 , B22F2207/01 , B22F3/10 , B22F1/0003 , B22F3/02 , B22F3/1035
Abstract: Die Erfindung betrifft eine weichmagnetische Komponente (1) wobei die weichmagnetische Komponente (1) aus miteinander versinterten Basiskörpern (2) aus mindestens einem Eisenwerkstoff ausgebildet ist, wobei mindestens der durch versintern miteinander verbundene Teil der Oberfläche (4) der Basiskörper (2) eine Oberflächenschicht (3) aus Si oder einer Silizium-haltigen Eisenschicht aufweist und weiterhin diese Oberflächenschicht (3) mit einem Gradienten im Siliziumgehalt mit dem höchsten Siliziumgehalt in der Oberfläche (4) der Basiskörper ausgebildet ist. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zur Herstellung einer erfindungsgemäßen weichmagnetischen Komponente (1), sowie deren Verwendung.
Abstract translation: 本发明涉及一种软磁性部件（1），其中，所述软磁元件（1）至少一种铁的材料制成的至少由所述表面（4）的基体（2）的表面层的烧结互连部分形成的烧结在一起的基体（2）的 （3）由Si或含硅 - 铁层具有并且继续与在硅含量与所述表面（4）形成在基体的最高硅含量的梯度此表面层（3）。 本发明进一步涉及用于制备本发明（1）的软磁性部件的制造方法，及其用途。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2012023760A2
公开(公告)日：2012-02-23
申请号：PCT/KR2011005937
申请日：2011-08-12
Applicant: UNIV KOREA RES & BUS FOUND , HONG MUNPYO , LEE YOO JONG , JANG YUN-SUNG , LEE JUN YOUNG
Inventor： HONG MUNPYO , LEE YOO JONG , JANG YUN-SUNG , LEE JUN YOUNG
CPC classification number: C23C16/44 , B05D1/62 , C23C14/086 , C23C14/22 , C23C14/225 , C23C14/3464 , C23C14/35 , C23C16/00 , C23C16/22 , H01J37/32357 , H01J37/32422 , H01J37/3417 , H01J37/347 , H01J2237/332 , H01L51/5256
Abstract: The present invention relates to an apparatus for forming a gas blocking layer for blocking moisture and oxygen gas which is used for an organic electronic device such as an organic light emitting device, an organic solar cell, and the like, and a method thereof, and more particularly to an apparatus for forming a gas blocking layer and a method thereof which can form a high performance gas blocking layer for satisfying characteristics of productivity improved productivity and lower manufacturing costs by forming all the gas blocking layers within a vacuum chamber with one process to maintain continuity. A process for forming an organic/inorganic mixed multilayer gas blocking layer of a stacked structure including an organic thin film and an inorganic thin film to form the high performance gas blocking layer, forming a high-density thin film through a continuous change in a size of a nano-crystal structure according to the thickness of the single inorganic thin film being variably controlled by using a neutral particle beam processing method based on sputtering methods for forming the inorganic thin film thereof, and forming the organic thin film to selectively have a buffering substrate layer formed by the Chemical Vapor Deposition (CVD) method for vaporizing liquefied materials for high molecular organic thin films.
Abstract translation: 本发明涉及用于形成用于诸如有机发光器件，有机太阳能电池等有机电子器件的用于阻挡湿气和氧气的气体阻挡层的设备及其方法，以及 更具体地涉及一种用于形成气体阻挡层的设备及其方法，其能够通过用一个工艺在真空室内形成所有气体阻挡层来形成用于满足生产率特性的高性能气体阻挡层，从而提高生产率和降低制造成本 保持连续性。 一种形成包括有机薄膜和无机薄膜的叠层结构的有机/无机混合多层气体阻挡层以形成高性能气体阻挡层，通过连续改变尺寸形成高密度薄膜的方法 的无机薄膜的厚度根据用于形成其无机薄膜的溅射方法的中性粒子束处理方法可变地控制，并且形成有机薄膜以选择性地具有缓冲 通过化学气相沉积（CVD）方法形成的用于汽化高分子有机薄膜的液化材料的基底层。
-
公开(公告)号：WO2010142330A1
公开(公告)日：2010-12-16
申请号：PCT/EP2009/057193
申请日：2009-06-10
Applicant: ABB AB , MAGAZINOVIC, Branko , FORNELL, Rolf , GUSTAFSSON, Jan , VIKING, Reidar , BÄCKMAN, Lars
Inventor： MAGAZINOVIC, Branko , FORNELL, Rolf , GUSTAFSSON, Jan , VIKING, Reidar , BÄCKMAN, Lars
Abstract: Device (1) for holding pieces of goods, while treating the goods during a surface treatment process. The device (1) comprises a plurality of hangers (2), each hanger including an elongated element (3) having one end (4) arranged for the purpose of carrying goods and an opposite end that is bent and provided with a stopping member (5) having a width that is larger than the width of the elongated element (3). The device (1) also comprises a framework (6), including a plurality of rails (7) wherein each rail (7) is provided with a plurality of openings (8) adapted to receive the hangers (2). Some of the openings (8) comprise a first part arranged to receive the stopping member (5) of the hanger (2) while the hanger (2) is threaded to the rails (7) and a second part arranged to keep the bent end of the hanger (2) during the galvanization process. Further the second part of the opening is arranged below the first part of the opening seen from a gravitational point of view, in order to retain the hangers (2) in a predetermined position within the second part of the opening.
Abstract translation: 在表面处理过程中处理货物的装置（1），用于容纳货物。 装置（1）包括多个悬挂架（2），每个悬挂架包括一个细长元件（3），该细长元件（3）的一端（4）用于运送货物，另一端被弯曲并设置有止动件 5）具有大于细长元件（3）的宽度的宽度。 装置（1）还包括框架（6），其包括多个轨道（7），其中每个轨道（7）设置有适于接收悬挂器（2）的多个开口（8）。 一些开口（8）包括第一部分，该第一部分设置成在衣架（2）与导轨（7）螺纹连接的同时接纳衣架（2）的止动部件（5），并且第二部分设置成保持弯曲端 （2）在镀锌过程中。 此外，开口的第二部分布置在从重力视角看到的开口的第一部分的下方，以便将衣架（2）保持在开口的第二部分内的预定位置。
-
公开(公告)号：WO2010139542A1
公开(公告)日：2010-12-09
申请号：PCT/EP2010/056624
申请日：2010-05-13
Applicant: FRAUNHOFER GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , HARIG, Tino , HÖFER, Markus , LAUKART, Artur , SCHÄFER, Lothar , ARMGARDT, Markus
Inventor： HARIG, Tino , HÖFER, Markus , LAUKART, Artur , SCHÄFER, Lothar , ARMGARDT, Markus
CPC classification number: C23C16/00 , C23C16/22 , C23C16/24 , C23C16/26 , C23C16/44 , C23C16/4404 , C23C16/52
Abstract: Die Erfindung betrifft eine Beschichtungsanlage, enthaltend zumindest einen evakuierbaren Rezipienten, welcher zur Aufnähme eines Substrates vorgesehen ist, zumindest eine Gaszufuhreinrichtung, mittels welcher zumindest ein gasförmiger Prekursor in den Rezipienten einleitbar ist und zumindest eine Aktivierungseinrichtung, welche zumindest ein beheizbares Aktivierungselement enthält, dessen Ende an einer Befestigungsstelle an einem Halteelement befestigt ist, wobei das Aktivierungselement mit zumindest einer ersten Heizeinrichtung und zumindest einer zweiten Heizeinrichtung beheizbar ist und mit der ersten Heizeinrichtung ein über die Längserstreckung des Aktivierungselementes gleichmäßiger Energieeintrag bewirkbar ist und mit der zweiten Heizeinrichtung ein über die Längserstreckung des Aktivierungselementes variierender Energieeintrag bewirkbar ist, so dass die Temperatur des Aktivierungselementes in zumindest einem Längsabschnitt unter Einwirkung der zweiten Heizeinrichtung über 1300°C bringbar ist. Weiterhin betrifft die Erfindung ein korrespondierendes Beschichtungsverfahren.
Abstract translation: 本发明涉及一种涂覆设备，其包括至少一个抽真空的真空室，其被设置用于在基板的显微照片中，至少一个气体供给装置，借助该至少一个的气态前体引入容器可以被引入和至少一种含有至少一个可加热激活元件激活装置，的端部 紧固点被附接到一个保持部件，其具有至少一个第一加热装置和所述至少一个第二加热器的激活元件可以与第一加热装置进行加热，在所述致动元件的能量输入的纵向延伸的均匀的实现，以及与第二加热装置改变由在激活元件的纵向范围 能量输入来实现，从而使活化元件的至少在作用下的纵向部分的温度，所述第二加热器 可以带来1300℃ 本发明还涉及一种相应的涂覆工艺。
-
公开(公告)号：WO2009123065A1
公开(公告)日：2009-10-08
申请号：PCT/JP2009/056333
申请日：2009-03-27
Applicant: 独立行政法人 産業技術総合研究所 , 住友電気工業株式会社 , 住友電工ハードメタル株式会社 , 尾崎 公洋 , 小林 慶三 , 森口 秀樹 , 石田 友幸 , 池ヶ谷 明彦 , 北川 信行
CPC classification number: B23K1/19 , B22F7/064 , B23B2226/125 , B23B2226/315 , B23B2240/08 , B23K1/0004 , B23K11/16 , B23K11/3009 , B23K20/021 , B23K20/16 , B23K35/005 , B23K35/3033 , B23K35/3046 , B23K35/325 , B23K2201/20 , B23K2203/18 , C22C26/00 , C22C29/06 , C23C16/00 , Y10T407/26 , Y10T407/27 , Y10T428/30 , Y10T428/31678
Abstract: 本発明は、切削中に、ロウ材が液相を生成する温度を越える高温となっても、接合層の接合強度が低下することのない、高速切削やＣＶＤコーティング処理等に適した切削工具として好適な接合体を提供する。具体的には、超硬合金焼結体を第１の被接合材（１）とし、ｃＢＮ焼結体またはダイヤモンド焼結体を第２の被接合材（３）とする接合体である。第１の被接合材（１）および第２の被接合材（３）は、両者の間に設置された１０００°C未満では液相を生成しない接合材（２）を介して接合されており、前記接合は０．１ＭＰａ～２００ＭＰａの圧力で加圧しながら通電加熱することによって行われている接合体である。
Abstract translation: 公开了一种适合作为切削工具的接合制品，即使在切削时，钎焊料的温度升高到液相生成温度以上的高温时，也不会导致接合层的接合强度降低， 适用于例如高速切割和CVD涂覆处理。 具体地说，接合体包括硬质合金烧结体作为待接合的第一接合材料（1）和作为第二接合材料（3）的cBN烧结体或金刚石烧结体。 第一接合材料（1）和第二接合材料（3）通过介于第一接合材料（1）和第二接合材料（3）之间的接合材料（2）彼此接合，并且不 在低于1000℃的温度下产生液相。 通过电加热进行接合，同时在0.1MPa〜200MPa的压力下进行加压。
-
公开(公告)号：WO2008116238A1
公开(公告)日：2008-10-02
申请号：PCT/AT2008/000077
申请日：2008-03-06
Applicant: BOEHLERIT GMBH & CO.KG. , KÖPF, Arno , JIANG, Xin , FEISTRITZER, Stefan
Inventor： KÖPF, Arno , JIANG, Xin , FEISTRITZER, Stefan
CPC classification number: C23C30/005 , B22F3/101 , B22F2998/10 , B22F2999/00 , C22C29/08 , C22C2204/00 , C23C16/342 , B22F3/1028 , C23C16/00 , B22F2201/02 , B22F2201/00
Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Hartmetallkörpers mit einer Beschichtung oder Beschichtungslage aus zumindest überwiegend kubischem Bornitrid. Um eine gut haftende Schicht mit überwiegendem Anteil an kubischem Bornitrid und geringen Schichtspannungen zu erreichen, ist erfindungsgemäß vorgesehen, dass das Verfahren folgende Schritte umfasst: a) Bereitstellen eines Hartmetallkörpers enthaltend etwa gleichmäßig verteilt Hartstoff mit Wolframcarbid und zumindest einem Carbid, Nitrid und/oder Carbonitrid eines oder mehrerer zusätzlicher Metalle ausgewählt aus den Gruppen IV B, V B und VI B des Periodensystems der Elemente sowie Eisen und/oder Nickel und/oder Cobalt als Bindemetall(e), wobei ein Hartstoffanteil mehr als 60 Gewichtsprozent beträgt, b) Behandeln des Hartmetallkörpers, um an einer mit Bornitrid zu beschichtenden Oberfläche des Hartmetallkörpers eine Zone zu erhalten, die ein Carbonitrid, Nitrid, Bornitrid, Borcarbid und/oder Borcarbonitrid der zusätzlichen Metalle als Hauptbestandteil(e) enthält, c) Aufbringen von Keimen aus Diamant und/oder kubischem Bornitrid auf die in Schritt b) erhaltene Zone, d) Abscheiden einer Bornitridschicht auf der bekeimten Zone.
Abstract translation: 本发明涉及一种方法，用于与涂层的涂层或层至少主要立方氮化硼制造硬质合金体。 为了获得具有立方氮化硼和低的膜应力的主要比例的阱粘合层，本发明提供，该方法包括以下步骤：a）提供含有大约有碳化钨和至少一种碳化物，氮化物和/或碳氮化物等间隔的硬质材料的硬质合金体 从组IV b，VB和元素周期表的VI b中选择，以及铁和/或镍和/或钴作为粘结金属（S），其特征在于，硬质材料的含量超过60重量％，b）处理所述硬质合金体的一种或多种附加金属 以获得在氮化硼表面要涂覆的硬质合金体的，含有碳氮化，氮化物，氮化硼，碳化硼和/或硼碳氮化所述附加金属作为主要成分的（一个或多个）的区域中，c）将金刚石和/或立方的核 氮化硼在步骤b）获得的区，D）从 排泄在播种区中的氮化硼层。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
94
records
(took 0.019 seconds)
