公开(公告)号：WO2015106190A1

公开(公告)日：2015-07-16

申请号：PCT/US2015/011002

申请日：2015-01-12

申请人： APPLIED MATERIALS, INC.

发明人： DUAN, Ren-Guan ,  ROCHA-ALVAREZ, Juan Carlos ,  ZHOU, Jianhua

IPC分类号： C23C14/22 ,  C23C14/28 ,  C23C14/54

CPC分类号： B32B37/24 ,  B32B38/0008 ,  B32B2037/246 ,  B32B2038/0016 ,  B32B2264/107 ,  B32B2315/02 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/68757 ,  H05B3/143 ,  H05B3/42

摘要： Embodiments of the present invention generally relate to heated substrate supports having a protective coating thereon. The protective coating is formed from pure yttria or alloys predominantly of yttria. The protective coating is diffusion bonded to the heater plate of the substrate support. Two distinct silicon containing layers are formed between the heater plate and the protective coating as the result of the diffusion bonding.

摘要翻译： 本发明的实施方案一般涉及其上具有保护涂层的加热的衬底支撑件。 保护涂层由纯氧化钇或主要由氧化钇合金形成。 保护涂层扩散接合到基板支架的加热板上。 作为扩散接合的结果，在加热器板和保护涂层之间形成两个不同的含硅层。

公开(公告)号：WO2005059975A1

公开(公告)日：2005-06-30

申请号：PCT/JP2004/017877

申请日：2004-12-01

申请人： 株式会社ブリヂストン ,  山川 正文

发明人： 山川 正文

IPC分类号： H01L21/02

CPC分类号： C04B37/005 ,  B32B2315/02 ,  C04B2237/083 ,  C04B2237/365 ,  H01L21/67103 ,  H05B3/143

摘要： 　ヒータ（１）と、ヒータ（１）に通電してヒータ（１）を昇温させる電極（２）とを少なくとも備えるセラミックヒータユニット（２０）であって、ヒータ（１）と電極（２）は各々炭化ケイ素を含む材料からなり、ヒータ（１）と電極（２）は炭化ケイ素を含む材料からなる接合材により一体に構成されていることを特徴とするセラミックヒータユニット（２０）。

摘要翻译： 一种陶瓷加热器单元（20），至少包括加热器（1）和用于使电流通过加热器（1）以提升加热器（1）的温度的电极（2），其特征在于，加热器（1）和电极 （2）由含有碳化硅的材料制成，加热器（1）和电极（2）由包含碳化硅的材料的粘合剂构成。

公开(公告)号：WO01087018A1

公开(公告)日：2001-11-15

申请号：PCT/JP2001/003757

申请日：2001-05-01

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  H05B1/02 ,  H05B3/14 ,  H05B3/16 ,  H05B3/18 ,  H05B3/28 ,  H05B3/68 ,  H05B3/20

CPC分类号： H05B1/0233 ,  H01L21/67109 ,  H05B3/143 ,  H05B3/283 ,  H05B3/68

摘要： A hot plate unit capable of sufficiently increasing a temperature rising and lowering rate even if the diameter of a substrate is increased and reducing a size, characterized in that the substrate having a temperature control means is installed on a supporting container and the thickness of the supporting container is 50 mm or thinner.

摘要翻译： 即使基板的直径增加并且尺寸减小，也能够充分提高温度上升和下降速率的热板单元，其特征在于，具有温度控制装置的基板安装在支撑容器上，并且支撑 容器为50毫米或更薄。

公开(公告)号：WO01084886A1

公开(公告)日：2001-11-08

申请号：PCT/JP2001/003763

申请日：2001-05-01

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L21/68 ,  H01L23/34 ,  H05B3/14 ,  H05B3/26 ,  H05B3/28 ,  H05B3/10 ,  H05B3/16 ,  H05B3/18 ,  H05B3/20 ,  H05B3/68

CPC分类号： H01L21/6835 ,  H01L21/67103 ,  H01L23/345 ,  H01L2924/0002 ,  H05B3/143 ,  H05B3/265 ,  H05B3/283 ,  H01L2924/00

摘要： A ceramic heater, wherein a resistance heating element is formed on the surface of or inside a ceramic substrate and a through-hole is provided in the ceramic substrate, characterized in that the surface roughness of the wall surface of the through-hole in accordance with JIS B0601 is Rmax=0.05 to 200 ñm, whereby the heater allowing the heating surface thereof to be heated uniformly without allowing the temperature around the through-hole to be lowered even when the through-hole allowing a lifter pin for supporting a semiconductor wafer to be inserted therein is formed.

摘要翻译： 一种陶瓷加热器，其中在陶瓷基板的表面或陶瓷基板的表面上形成有电阻加热元件，并且在陶瓷基板中设置有通孔，其特征在于，所述通孔的壁面的表面粗糙度根据 JIS B0601为Rmax = 0.05〜200μm，由此，即使当允许将半导体晶片支撑的升降销的通孔进入到通孔时，允许其加热表面均匀地加热而不允许通孔周围的温度降低的加热器 被形成。

公开(公告)号：WO01062686A1

公开(公告)日：2001-08-30

申请号：PCT/JP2001/001406

申请日：2001-02-26

IPC分类号： C04B35/08 ,  C04B35/10 ,  C04B35/14 ,  C04B35/565 ,  C04B35/575 ,  C04B35/581 ,  C04B35/583 ,  C04B35/584 ,  H01L21/00 ,  H01L21/68 ,  H01L21/683 ,  H05B3/14 ,  H05B3/74 ,  H01L23/15

CPC分类号： H05B3/746 ,  B32B18/00 ,  B32B38/145 ,  B32B2038/042 ,  B32B2311/08 ,  C04B35/08 ,  C04B35/10 ,  C04B35/14 ,  C04B35/5607 ,  C04B35/5611 ,  C04B35/5622 ,  C04B35/5626 ,  C04B35/565 ,  C04B35/575 ,  C04B35/58014 ,  C04B35/581 ,  C04B35/583 ,  C04B35/584 ,  C04B35/6264 ,  C04B35/6303 ,  C04B2235/3201 ,  C04B2235/3217 ,  C04B2235/3225 ,  C04B2235/3418 ,  C04B2235/3821 ,  C04B2235/386 ,  C04B2235/3865 ,  C04B2235/3873 ,  C04B2235/422 ,  C04B2235/446 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/5445 ,  C04B2235/6025 ,  C04B2235/721 ,  C04B2235/723 ,  C04B2235/726 ,  C04B2235/728 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/786 ,  C04B2235/96 ,  C04B2235/9607 ,  C04B2237/408 ,  C04B2237/50 ,  C04B2237/62 ,  C04B2237/704 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6833 ,  H01L21/6835 ,  H01L2924/19041 ,  H05B3/143 ,  H05B3/74 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/252 ,  Y10T428/26 ,  Y10T428/265

摘要： An aluminum nitride sintered compact, characterized in that (1) it contains sulfur and (2) it comprises ceramic particles having an average particle size of 3 mu m or less and, when ruptured, exhibits the state of rupture in the interior of particles; and a ceramic substrate comprising the aluminum nitride sintered compact and an electrically conductive material formed on the surface of or inside the ceramic. The aluminum nitride sintered compact has excellent mechanical strength and is free from occurrence of the particle phenomenon due to the fallout of ceramic particles from the surface or the side face thereof, and therefore, is suitably used for a ceramic substrate for use in a device for the manufacture or inspection of semiconductors, such as a ceramic heater or an electrostatic chuck.

摘要翻译： 一种氮化铝烧结体，其特征在于，（1）含有硫，（2）包含平均粒径为3μm以下的陶瓷颗粒，当破裂时，表现出颗粒内部的破裂状态。 以及包含氮化铝烧结体的陶瓷衬底和形成在陶瓷的表面上或内部的导电材料。 氮化铝烧结体具有优异的机械强度，并且由于陶瓷颗粒从其表面或侧面的脱落而不发生颗粒现象，因此适合用于陶瓷基板用于陶瓷基板 半导体的制造或检查，例如陶瓷加热器或静电卡盘。

公开(公告)号：WO01050818A1

公开(公告)日：2001-07-12

申请号：PCT/JP2000/008154

申请日：2000-11-20

IPC分类号： H01L21/00 ,  H05B1/02 ,  H05B3/14 ,  H05B3/26 ,  H05B3/28 ,  H05B3/00 ,  H01L21/027 ,  H05B3/20

CPC分类号： H05B1/0233 ,  H01L21/67248 ,  H05B3/143 ,  H05B3/265 ,  H05B3/283

摘要： A ceramic heater for uniformly heating such objects as silicon wafers, wherein a heat generator is formed on the surface or the inside of a ceramic plate, characterized in that a bottom-closed hole is formed which extends from the back to the front of a heating surface for heating an object, the bottom of the bottom-closed hole being located relatively closer to the heating surface than to the heat generator, the bottom-closed hole being provided with a temperature measuring element.

摘要翻译： 一种用于均匀加热诸如硅晶片的物体的陶瓷加热器，其中在陶瓷板的表面或内部形成有发热体，其特征在于，形成底部闭合孔，其从背面向前延伸， 用于加热物体的表面，底部闭合孔的底部位于比发热体相对更靠近加热表面的位置，底部闭合孔设置有温度测量元件。

公开(公告)号：WO01039552A1

公开(公告)日：2001-05-31

申请号：PCT/JP2000/008226

申请日：2000-11-22

IPC分类号： H05B3/20 ,  H01L21/027 ,  H05B3/10 ,  H05B3/14 ,  H05B3/16 ,  H05B3/26 ,  H05B3/68 ,  H01L21/324 ,  H05B3/56

CPC分类号： H05B3/265 ,  H05B3/141 ,  H05B3/143

摘要： The invention provides a ceramic heater superior in temperature control and oxidation resistance, which includes a resistance heater using a ceramic substrate as a heater material. The resistance heater includes one or more circuits formed on the ceramic substrate, and an insulating material thereon.

摘要翻译： 本发明提供了一种温度控制和耐氧化性优异的陶瓷加热器，其包括使用陶瓷基板作为加热材料的电阻加热器。 电阻加热器包括形成在陶瓷基板上的一个或多个电路及其上的绝缘材料。

公开(公告)号：WO01030115A1

公开(公告)日：2001-04-26

申请号：PCT/JP2000/000816

申请日：2000-02-15

IPC分类号： H01L21/00 ,  H05B3/14 ,  H05B3/26 ,  H05B3/20 ,  H05B3/10

CPC分类号： H01L21/67109 ,  H01L21/67103 ,  H05B3/143 ,  H05B3/265

摘要： The invention provides a ceramic heater of uniform temperature using a heater substrate made from a ceramic material of high heat conductivity. A disc-shaped ceramic heater (100) comprises curved heater patterns (2) of nearly equal width on or in the surface of a ceramic substrate (1).

摘要翻译： 本发明提供使用由具有高导热性的陶瓷材料制成的加热器基底的均匀温度的陶瓷加热器。 盘形陶瓷加热器（100）包括在陶瓷基板（1）的表面上或表面上具有几乎相等宽度的弯曲加热器图案（2）。

公开(公告)号：WO01011923A1

公开(公告)日：2001-02-15

申请号：PCT/JP2000/005156

申请日：2000-08-01

IPC分类号： H05B3/20 ,  H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  H05B3/10 ,  H05B3/14 ,  H05B3/16 ,  H05B3/26 ,  H05B3/28 ,  H05B3/68 ,  H05B3/74 ,  H01L21/30 ,  H05B3/56

CPC分类号： H01L21/67109 ,  H01L21/67103 ,  H05B3/143 ,  H05B3/265 ,  H05B3/283 ,  H05B3/74

摘要： The invention provides a ceramic heater that makes the temperature of a ceramic substrate uniform by suppressing the transfer of heat from the ceramic heater to a housing. The ceramic heater includes a heater formed on or under the surface of a ceramic substrate, and the surface roughness on the side of the ceramic substrate is JIS B 0601 Rmax=0.1-200 mu m.

摘要翻译： 本发明提供一种陶瓷加热器，其通过抑制从陶瓷加热器向壳体的转移而使陶瓷基板的温度均匀。 陶瓷加热器包括形成在陶瓷基板的表面上或下方的加热器，陶瓷基板侧的表面粗糙度为JIS B 0601 Rmax = 0.1〜200μm。

公开(公告)号：WO00076273A1

公开(公告)日：2000-12-14

申请号：PCT/JP1999/003086

申请日：1999-06-09

IPC分类号： H05B3/20 ,  H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H05B3/10 ,  H05B3/12 ,  H05B3/14 ,  H05B3/16 ,  H05B3/18 ,  H05B3/74 ,  H05B3/28

CPC分类号： H01L21/67103 ,  H05B3/12 ,  H05B3/143

摘要： A ceramic heater which is thin and light and the temperature of which is easily controlled and a conductive paste for forming a heating element used for such a heater are disclosed. The ceramic heater is characterized in that a heating element formed by sintering metal particles and a metal oxide mixed if necessary is provided on the surface of or in a ceramic substrate made of a nitride ceramic or a carbide ceramic. The conductive paste is one that is prepared by mixing metal particles and metal oxide.

摘要翻译： 公开了一种陶瓷加热器，该陶瓷加热器薄且轻，其温度容易控制，并且用于形成用于这种加热器的加热元件的导电浆料。 陶瓷加热器的特征在于，在由氮化物陶瓷或碳化物陶瓷制成的陶瓷基板的表面上设置通过烧结金属颗粒和混合的金属氧化物形成的加热元件。 导电浆料是通过混合金属颗粒和金属氧化物制备的。