セラミック接合体
    1.
    发明申请
    セラミック接合体 审中-公开
    陶瓷粘结体

    公开(公告)号:WO2017057470A1

    公开(公告)日:2017-04-06

    申请号:PCT/JP2016/078641

    申请日:2016-09-28

    Abstract: 本開示のセラミック接合体は、第1の炭化珪素質セラミックスと、第2の炭化珪素質セラミックスと、第1の炭化珪素質セラミックスおよび第2の炭化珪素質セラミックスの間に位置する接合層とを備える。接合層は、接合層を構成する全成分100質量%のうち、金属珪素を25質量%以上、炭化珪素を25質量%以上、かつ、金属珪素および炭化珪素の合計で75質量%以上含有し、さらに、ニッケル珪化物およびクロム珪化物のうち少なくともいずれかを含有する。

    Abstract translation: 该陶瓷接合体包括:第一碳化硅陶瓷; 第二碳化硅陶瓷; 以及位于第一碳化硅陶瓷和第二碳化硅陶瓷之间的接合层。 结合层包括构成接合层的全部成分的100质量%,金属硅25质量%以上,碳化硅25质量%以上,金属硅总量75质量%以上 和碳化硅,还包括至少硅化镍或硅化铬。

    セラミック接合体およびこれを備える熱交換器
    2.
    发明申请
    セラミック接合体およびこれを備える熱交換器 审中-公开
    陶瓷接合体和热交换器

    公开(公告)号:WO2016031973A1

    公开(公告)日:2016-03-03

    申请号:PCT/JP2015/074462

    申请日:2015-08-28

    Abstract:  【課題】 腐食性のガスおよび液体の使用環境下において、優れた耐久性および耐食性を有するセラミック接合体を提供する。 【解決手段】 本発明のセラミック接合体10は、第1の炭化珪素質セラミックス1と、第2の炭化珪素質セラミックス2と、第1の炭化珪素質セラミックス1および第2の炭化珪素質セラミックス2の間に位置する接合層3と、金属珪素を主成分とし、接合層3の表面から第1の炭化珪素質セラミックス1および前記第2の炭化珪素質セラミックス2の少なくとも一方の表面にわたって位置する第1の被覆層4と、Ni、Cu、Al、Crのうちのいずれかを主成分とし、第1の被覆層4の表面に位置する第2の被覆層5とを備える。

    Abstract translation: 本发明提供一种陶瓷接合体,其在腐蚀性气体环境或液体环境中使用时,其耐久性和耐腐蚀性优异。 [解决方案]根据本发明的陶瓷接合体10设置有:第一碳化硅陶瓷1; 第二碳化硅陶瓷2; 布置在第一碳化硅陶瓷1和第二碳化硅陶瓷2之间的结合层3; 主要由硅金属构成的第一涂层4,并且布置在从接合层3的表面延伸到第一碳化硅陶瓷1的表面和/或第二碳化硅陶瓷2的表面的区域上 ; 以及主要由Ni,Cu,Al或Cr组成的第二涂层5,并且布置在第一涂层4的表面上。

    セラミックス接合体、耐熱部品及びセラミックス接合体の製造方法
    3.
    发明申请
    セラミックス接合体、耐熱部品及びセラミックス接合体の製造方法 审中-公开
    陶瓷装配,耐热组件和陶瓷装配生产方法

    公开(公告)号:WO2014167962A1

    公开(公告)日:2014-10-16

    申请号:PCT/JP2014/057481

    申请日:2014-03-19

    Inventor: 韓 明旭

    Abstract:  複数のセラミックス部品が接合されて得られる高強度のセラミックス接合体、これを用いた耐熱部品、及びセラミックス接合体の製造方法を提供する。 第1の面を有する第1のセラミックス部品と、第2の面を有する第2のセラミックス部品と、該第1の面と該第2の面とが向き合う領域を充填するCVDセラミックスからなる接合部と、からなるセラミックス接合体及びこれを用いた耐熱部品。 第1の面を有する第1のセラミックス部品と、第2の面を有する第2のセラミックス部品とを、該第1の面と該第2の面とが向き合う空間部を形成するように配置し、前記空間部に原料ガスを供給し、該空間部を通過して該第1の面または該第2の面に光照射する光CVD法により、第1のセラミックス部品と第2のセラミックス部品を接合するCVDセラミックスからなる接合部を形成するセラミックス接合体の製造方法。

    Abstract translation: 提供了通过接合多个陶瓷部件获得的高强度陶瓷组件,使用其的耐热部件和陶瓷组件制造方法。 一种陶瓷组件,包括具有第一表面的第一陶瓷部件,具有第二表面的第二陶瓷部件和包括CVD陶瓷的接合部分,其填充所述第一表面和所述第二表面彼此面对的区域; 和使用其的耐热成分。 一种陶瓷组件制造方法,其中具有第一表面的第一陶瓷部件和具有第二表面的第二陶瓷部件设置成形成第一表面和第二表面彼此面对的空间,源气体被供应到 该空间以及包含接合第一陶瓷部件和第二陶瓷部件的CVD陶瓷的接合部通过光CVD法形成,该光CVD法通过该空间对第一表面或第二表面进行光照射。

    INTERFACE DESIGN OF TSP SHEAR CUTTERS
    10.
    发明申请
    INTERFACE DESIGN OF TSP SHEAR CUTTERS 审中-公开
    TSP剪切钳的接口设计

    公开(公告)号:WO2012058562A3

    公开(公告)日:2012-06-28

    申请号:PCT/US2011058326

    申请日:2011-10-28

    Inventor: YU FENG FANG YI

    Abstract: A method of forming a cutting element is disclosed, wherein the method includes forming a substrate body, forming an intermediate layer on the substrate body, forming a diamond table, and positioning the diamond table on the intermediate layer, such that the intermediate layer is disposed between the substrate body and the diamond table. The intermediate layer has a base portion having a base height and a ring portion having a ring height HR, wherein the intermediate layer has a height HT equal to the sum of the base height and ring height. The diamond table has a cutting layer having a cutting layer diameter D1 and a cutting layer height HE and a protrusion having a protrusion diameter D2 and a protrusion height HP.

    Abstract translation: 公开了一种形成切割元件的方法,其中该方法包括:形成基底主体;在基底主体上形成中间层;形成金刚石台;以及将金刚石台定位在中间层上,使得设置中间层 在基体和金刚石台之间。 中间层具有具有基部高度的基部和具有环高度HR的环部,其中中间层的高度HT等于基部高度和环高度的总和。 金刚石台具有具有切割层直径D1和切割​​层高度HE的切割层以及具有突起直径D2和突起高度HP的突起。

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