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公开(公告)号：CN105189448A
公开(公告)日：2015-12-23
申请号：CN201480026291.X
申请日：2014-05-02
Applicant: 佳能株式会社
IPC: C07C217/08 , C08F2/50 , H01L21/027
CPC classification number: C08F2/50 , C07C217/08 , C07C217/40 , G02B1/12 , G03F7/0002 , H01L21/02118 , H01L21/3081 , H01L21/311 , H05K3/0076 , H05K3/0079 , H05K3/0082 , H05K3/30 , H05K2203/0548
Abstract: 提供了一种化合物，其增大光固化性组合物的光固化速度并且降低固化物与模具的脱模力。一种化合物由通式(1)表示：其中Rf表示至少一部分由氟取代的烷基，RO表示氧化烯基或氧化烯基的重复结构，N表示氮原子，RA表示烷基，和RB表示烷基或氢原子。
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公开(公告)号：CN105009256A
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201480012262.8
申请日：2014-03-04
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L21/027 , B29C59/02 , C08F2/48 , C09K3/00 , C07C311/17
CPC classification number: C08K5/435 , B29C35/0805 , B29C59/005 , B29C59/026 , B29D11/00865 , B29K2033/12 , B29L2031/3425 , C07C311/17 , C07C311/44 , C08F2/48 , G03F7/0002 , G03F7/0046 , H01L21/02118 , H01L21/0274 , Y10T428/24612
Abstract: 提供即使曝光量低脱模力的降低效果也优异的光固化性组合物，和包含于所述光固化性组合物中的感光性气体产生剂。感光性气体产生剂为具有通过光刺激产生气体的光刺激响应性气体产生基团、全氟烷基和连接光刺激响应性气体产生基团和全氟烷基的聚亚烷基氧基的化合物。光固化性组合物包含感光性气体产生剂。
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公开(公告)号：CN104737271A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201380052636.4
申请日：2013-09-20
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L21/027 , B29C59/02 , C08K5/435 , C08L33/00
CPC classification number: C08F222/10 , B29C59/16 , B29D11/00788 , B29L2011/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C08K5/235 , C08K5/435 , C08L33/06 , C23C14/48 , G02B1/04 , G03F7/0002 , G03F7/022 , G03F7/027 , H01L21/0271 , H01L21/311 , H05K3/0091 , H05K3/06 , Y10T428/24802
Abstract: 提供了一种降低了脱模力的光固化性组合物。所述光固化性组合物是以下光固化性组合物，其在与具有形成了凹凸图案的表面的模具接触的同时使用光来固化从而制造具有凹凸图案的膜，并且包括聚合性化合物、光聚合引发剂和具有光刺激响应部位的感光性气体产生剂。所述感光性气体产生剂具有含有至少一个烯化氧链的重复结构并且通过光照射从所述光刺激响应部位产生气体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104115256A
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201380008685.8
申请日：2013-01-31
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01L21/0274 , B29C33/62 , B29C39/026 , B29C2035/0827 , B82Y10/00 , B82Y15/00 , B82Y40/00 , G03F1/76 , G03F7/0002 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/027 , H01L21/3081
Abstract: 旨在提供利用光压印法制备的并具有良好的图案精度和图案缺陷改善的光固化物。本发明提供通过将与模具接触的涂布膜用光照射获得的光固化物，该光固化物含有含氟原子表面活性剂，其中在通过光固化物的基于飞行时间二次离子质谱法的表面分析获得的二次离子信号中，C2H5O+离子信号的强度高于C3H7O+离子信号的强度。
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公开(公告)号：CN101872030A
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN201010167956.2
申请日：2010-04-22
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 伊藤俊树
IPC: G02B3/00
CPC classification number: B29D11/00355 , B29D11/00442
Abstract: 光学部件的制备方法包括用放射线照射放射线敏感的可聚合组合物的照射工序。该放射线敏感的可聚合组合物至少包括可聚合化合物(a)和可聚合或不可聚合的组分(c)。该照射工序至少包括用放射线只照射第一照射区域的第一步骤和用放射线只照射第二照射区域的第二步骤，该第一照射区域为放射线敏感的可聚合组合物的一部分，该第二照射区域为放射线敏感的可聚合组合物的一部分并且在尺寸和位置的至少一个上不同于该第一照射区域。当组分(c)可聚合时，在该第一和第二步骤中将组分(c)的聚合速率控制为低于可聚合化合物(a)的聚合速率。
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公开(公告)号：CN101256358A
公开(公告)日：2008-09-03
申请号：CN200810004858.X
申请日：2008-02-05
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/00 , C08F12/24 , C09D161/06 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/039 , C07C37/055 , C08G8/28 , C08L61/14 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , C07C39/04
Abstract: 本发明提供了能形成具有低LER(线边缘粗糙度)的光刻胶图案的感光化合物。本发明还提供了其中感光化合物溶解于溶剂中的感光组合物，使用该感光组合物的光刻胶图案形成方法，和使用该光刻胶的器件制造方法。本发明的感光化合物是在分子中具有两个或者更多个由下面通式(1)表示的结构单元的感光化合物，其中R1－R5选自氢原子、卤素原子、烷基、烷氧基、乙酰氧基、苯基、萘基和部分或全部氢原子被氟原子取代的烷基；并且X是取代或者未取代的亚苯基或者取代或未取代的亚萘基。
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公开(公告)号：CN101086618A
公开(公告)日：2007-12-12
申请号：CN200710110313.2
申请日：2007-06-08
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/28 , G03F7/00 , H01L21/027
CPC classification number: C07C205/34 , G03F7/0045 , G03F7/023 , G03F7/039
Abstract: 本发明涉及形成光刻胶图案的方法，包括以下步骤：在衬底上施加含有至少一种溶于有机溶剂中的感光化合物的感光组合物以形成光刻胶层，感光化合物在分子中具有两个或更多个C6R2－6－CHR1－OR7或C6R2－6－CHR1－COOR7所示的重复单元，其中R1为氢原子或烷基；R2、R3、R4、R5和R6中的至少一个为硝基，其它为选自下组的基团：氢原子、卤素原子、烷基、烷氧基、苯基、萘基和部分或全部氢原子被氟原子取代的烷基；并且R7为取代或未取代的亚苯基或亚萘基，使用射线选择性辐照光刻胶层，和使射线辐照的部分显影以形成光刻胶图案。
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公开(公告)号：CN101038439A
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN200710088523.6
申请日：2007-03-14
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/075 , G03F7/004 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/00
CPC classification number: G03F7/0755 , C07F7/12 , C07F7/1804 , G03F7/022 , G03F7/0751 , G03F7/165
Abstract: 本发明提供一种使用更少数量的步骤形成低缺陷的微粒图案，点阵图案或孔阵图案的光敏硅烷偶联剂，以及使用这种光敏硅烷偶联剂的图案的形成方法，所使用的是含有1，2－萘醌－2－二叠氮基－5－磺酰基或1，2－萘醌－2－二叠氮基－4－磺酰基的光敏硅烷偶联剂。
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