利用纳米硅和二氧化硅界面态来提高非线性光学性能的方法

    公开(公告)号:CN103852951A

    公开(公告)日:2014-06-11

    申请号:CN201410055784.8

    申请日:2014-02-19

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 利用纳米硅和二氧化硅界面态来提高非线性光学性能的方法,包括以下步骤;1)利用等离子体增强化学气相淀积技术在单晶硅衬底或者石英衬底制备非晶硅/二氧化硅交替的多层薄膜,非晶硅/二氧化硅的层数一般为4-16层,通过控制非晶硅的生长时间及原位等离子氧化时间来控制非晶硅子层和二氧化硅子层的厚度;控制非晶硅子层和二氧化硅子层厚度,随后形成纳米硅量子点时获得尺寸和密度不同的材料;2)对非晶硅/二氧化硅多层薄膜进行热退火处理。本发明可以在较大范围增强非线性光学系数,还可以调控其非线性光学性能。

    一种硅基金属微腔电致发光器件及制备方法

    公开(公告)号:CN103633212A

    公开(公告)日:2014-03-12

    申请号:CN201310524210.6

    申请日:2013-10-30

    Applicant: 南京大学

    CPC classification number: H01L33/105 H01L33/0058 H01L33/60 H01L2933/0058

    Abstract: 一种硅基金属微腔电致发光器件,自上至下为半透明金属反射镜,有源层,ITO电极,2-8个周期底部DBR、每周期厚度为共振光波长的二分之一,金属薄膜,石英基底;以SiC材料作为有源层,厚度为共振波长的1/2,半透明金属反射镜作为微腔的一面反射镜和出光面。制备方法的步骤:利用等离子体增强化学气相沉积技术,在用硅烷和甲烷作为反应起源,在石英衬底上交替生长具有两种不同组分的SiC薄膜,构成全SiC材料的DBR结构;这两种组分的SiC薄膜淀积时的流量比R=CH4/SiH4分别是1和10;在DBR结构上制备有源层,仍采用流量比R=10的SiC薄膜。本发明采用较少周期的DBR达到同样反射效果,增强方法的可操作性,重复性。

    利用铋离子注入非晶硅基功能薄膜实现硅基材料近红外光发射的方法

    公开(公告)号:CN103275703A

    公开(公告)日:2013-09-04

    申请号:CN201310162355.6

    申请日:2013-05-06

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 利用铋离子注入非晶硅基功能薄膜实现硅基材料近红外光发射的方法,包含以下步骤;1)利用等离子体增强化学气相淀积技术制备非晶硅基薄膜;2)铋离子注入非晶硅基薄膜,铋离子注入时,衬底的温度为室温,注入能量为200±50KeV,铋离子注入剂量范围从1×1012/cm2到1×1014/cm2;经过以上两个步骤就可以制备不同剂量铋离子注入的非晶硅氮氧薄膜或非晶富硅二氧化硅薄膜。本发明利用平板电容型射频等离子体增强化学气相淀积(PECVD)技术和离子注入技术在非晶硅基薄膜中注入不同剂量的铋离子。成功观测到稳定、高效的1157nm处稳定高效的近红外光致发光。

    面向静态XY路由算法的二维网格NoC路由器优化设计方法

    公开(公告)号:CN101808032B

    公开(公告)日:2012-07-25

    申请号:CN201010118584.4

    申请日:2010-03-04

    Abstract: 本发明公开了一种面向静态XY路由算法的二维网格片上网络路由器优化设计方法,该方法分别对路由器的输入和输出通道进行优化设计,并根据路由器在网格中的不同位置,对其进行异构设计。在输入通道中,由于静态XY路由算法中南、北方向的输入通道不向东、西方向的输出通道发出请求,且任一输入通道都不产生回传请求,因此对各输入通道中的路由逻辑分别进行简化。在输出通道中,东、西方向输出通道只需处理2个输入通道的请求,而其余通道也只需处理4个输入请求。对于二维网格结构的NoC,位于网格边缘和拐角的路由器分别只需4对和3对输入、输出通道。本发明可以有效提高片上网络路由器的最大工作频率,减小其硬件开销,有着良好的应用价值。

    一种支持FFT加速的SIMD向量处理器

    公开(公告)号:CN102495721A

    公开(公告)日:2012-06-13

    申请号:CN201110393712.0

    申请日:2011-12-02

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种支持FFT加速的SIMD向量处理器。包括控制单元、计算单元、存储子系统、存储交织单元和地址产生单元:计算单元支持各种向量运算的快速处理;存储器子系统包括三个存储器组,每个存储器组包括四个存储体且存储器组内的单个存储体的位宽为一个复数字,支持4路数据并行的复数向量运算和8路数据并行的实数向量运算;计算单元、地址产生单元和存储交织单元均与控制单元连接;地址产生单元产生所需的操作数地址序列、系数地址序列、结果地址序列;存储交织单元与地址产生单元和计算单元连接,并实现存储体的地址映射。本发明对FFT/IFFT运算的加速效率和专用硬件加速器相当,却避免了使用专用硬件加速器所带来的巨大的额外开销,适用于具有大量长向量运算的实时信号处理系统中。

    基于片上网络的路由器功耗确定方法

    公开(公告)号:CN101227298B

    公开(公告)日:2010-06-02

    申请号:CN200810019017.6

    申请日:2008-01-09

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种基于片上网络的路由器功耗模型,它将路由器操作根据功耗比重简化为写缓存、读缓存、横跨开关和横跨链路四个功耗环节,并且将动态功耗归因于当前数据片到来时触发的位反转活动,通过位反转活动来统计功耗,得到的路由器功耗模型。考虑到片上网络环境要求功耗模型的实现复杂度尽可能低,本发明可采用统计平均值取代瞬时采样值,得到功耗简化模型。针对五通道路由器结构给出了两种功耗模型的硬件实现方法,并且将简化模型引入到自适应路由算法中,实现了片上网络的功耗分布优化。本发明提出的路由器功耗模型,算法复杂度低,实现简单,适合于片上网络,可以用于片上网络的功耗性能统计、功耗分布优化、热保护等方面的研究和应用。

    一种制备合金相变材料纳米点阵的方法

    公开(公告)号:CN100569631C

    公开(公告)日:2009-12-16

    申请号:CN200810024440.5

    申请日:2008-03-20

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明涉及一种制备合金相变材料纳米点阵的方法,属于纳米电子和纳米光电子器件材料技术领域。该方法包括在水表面铺设单层纳米聚苯乙烯小球PS小球、用衬底材料捞PS小球单层膜、反应离子刻蚀、退火去除PS掩模版、在纳米阵列上层蒸镀绝热绝缘材料、去除蒸镀层表皮各步骤,形成相互绝热、绝缘的纳米相变材料阵列。采用本发明后,可以与当前微电子工艺技术相兼容,避免使用成本昂贵的超精细加工技术,获得高密度、高均匀度的锗锑碲和硅锑碲纳米点阵,使得相变材料的有源区的尺寸达到几十纳米甚至几纳米,有助于大大降低材料发生相变所需的电压和功耗,使硫系化合物纳米相变材料走出实验室,切实实现产业化。

    高速的减少存储需求的低密度校验码解码器

    公开(公告)号:CN100544212C

    公开(公告)日:2009-09-23

    申请号:CN200610037918.9

    申请日:2006-01-23

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种高速的减少存储需求的低密度校验码解码器,它包含参数结点计算单元VPU模块、校验结点计算单元CPU模块和控制逻辑模块;VPU模块接收待解码序列,存储该原始信息并开始迭代解码,在迭代解码过程中,CPU模块与VPU模块相互传递信息,各自进行行操作和列操作,并由CPU存储校验操作结果;控制逻辑模块对VPU模块和CPU模块的循环操作进行控制,并输出解码得到的合法码字。本发明针对移位LDPC码,充分利用最小和解码算法来降低存储需求以及高度并行来提高解码速率,节省了消息存储需求,达到了更快的解码速度和更高的吞吐率。

Patent Agency Ranking