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公开(公告)号：CN109564961A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780044322.8
申请日：2017-07-14
申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
发明人： R·格洛腾穆勒 , A·卡萨斯加西亚明古兰 , 北文雄 , D·瓦格纳
IPC分类号： H01L33/56 , C08K3/22 , C09D183/06 , C09D183/08 , C08L83/14
CPC分类号： H01L33/56 , C08G77/54 , C08K3/22 , C08K9/06 , C08L83/14 , C09D183/06 , C09D183/08
摘要： 本发明涉及一种适于制备对LED而言对水蒸气具有良好阻隔性的高折射封装材料的制剂，还涉及一种具有高折射率和对水蒸气具有良好阻隔性的LED的封装材料，其可从所述制剂获得，以及涉及一种包含所述封装材料的发光器件(LED)。该制剂包含：含有第一重复单元U1和第二重复单元U2的聚合物；以及表面改性的纳米颗粒，其中该表面改性的纳米颗粒不包含任何二氧化锆。
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公开(公告)号：CN104797978B
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201380060802.5
申请日：2013-11-14
申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
CPC分类号： C08J5/18 , C08G77/14 , C08G77/80 , C08J2383/06 , C08L83/04 , C09D183/04 , G03F7/0233 , G03F7/0757 , C08L83/00 , C08K5/235
摘要： 一种正型感光性硅氧烷组合物，其含有：(I)在四甲基氢氧化铵(TMAH)水溶液中的溶解速度不同的至少两种以上的聚硅氧烷、(II)预烘烤后的膜在2.38％重量TMAH水溶液中的溶解速度为50～1,000/秒的具有除了硅烷醇基以外的TMAH水溶液可溶性基团的聚硅氧烷、(III)重氮基萘醌衍生物以及(IV)溶剂。
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公开(公告)号：CN108700807A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780012825.7
申请日：2017-01-20
申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
摘要： 提供一种正型感光性硅氧烷组合物，其可在不释放出苯等有害的挥发性成分的状态下形成高分辨率、高耐热性、高透明性的图案，还能减少由在图案形成之时的显影残渣、溶化残留物或难溶物的再附着导致的图案缺陷，储藏稳定性也优异。本发明提供一种正型感光性硅氧烷组合物，其包含：具有苯基的聚硅氧烷、重氮基萘醌衍生物、具有特定的含氮杂环结构的光碱产生剂的水合物或者溶剂化物、以及有机溶剂。
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公开(公告)号：CN108139670A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680061471.0
申请日：2016-12-20
申请人： AZ电子材料卢森堡有限公司
摘要： 可通过宽带紫外辐射交联的组合物，其在交联后能够通过在222nm和308nm之间发射的UV准分子激光进行冷烧蚀，其中所述组合物包含可在碱水溶液中显影的负性色调抗蚀剂，还包含强烈吸收约220nm至约310nm范围内的紫外辐射的共轭芳基添加剂。本发明还涵盖包括步骤a)，b)和c)的方法，a)将权利要求1的组合物涂覆在基底上；b)通过用宽带UV曝光辐照使整个涂层交联；c)通过用在222nm和308nm之间发射的UV准分子激光的冷激光烧蚀在交联涂层中形成图案。最后，本发明还涵盖本发明还涵盖包括步骤a')，b')，c')和d')的方法a)将权利要求1的组合物涂覆在基底上；b)通过掩模通过用宽带UV曝光的辐照使部分涂层交联；c)用碱水溶液显影涂层，除去涂层的未曝光区域，从而形成第一图案；d)通过用在222nm和308nm之间发射的UV准分子激光冷激光烧蚀第一图案，在第一图案中形成第二图案。
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公开(公告)号：CN107075057A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580057241.2
申请日：2015-10-28
申请人： AZ电子材料卢森堡有限公司
IPC分类号： C08F297/02 , C08F8/42 , C08F230/08 , C08F293/00 , C08F299/04 , C08L53/00 , C09D153/00 , G03F7/038 , H01J37/32 , B82Y30/00 , B05D3/02 , B05D3/14
摘要： 本发明涉及包含重复单元(1)和重复单元(2)的新型二嵌段共聚物，其中R1为氢或C1‑C4烷基，R2选自氢、C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基和卤素，R3选自氢、C1‑C4烷基和C1‑C4氟代烷基，并且R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11和R12独立地选自C1‑C4烷基并且n＝1‑6。本发明还涉及包含所述新型聚合物和溶剂的新型组合物。本发明还涉及使用所述新型组合物实现嵌段共聚物的定向自组装的方法。
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公开(公告)号：CN104718030B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201380052701.3
申请日：2013-10-09
申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC分类号： B05D7/24 , B05D3/06 , B32B9/00 , C01B21/068 , C08J7/00
摘要： 本发明提供一种硅质致密膜及其形成方法。一种硅质致密膜的形成方法、以及通过该方法而形成的硅质致密膜，该方法包含如下工序：用包含具有硅氮烷键的聚合物的覆膜形成用组合物在基板上进行涂膜，照射最大峰波长为160～179nm的光，接着用最大峰波长比之前所照射的光的最大峰波长还长10～70nm的光进行照射。
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公开(公告)号：CN106462073A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580025513.0
申请日：2015-05-19
申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC分类号： G03F7/11 , H01L21/027
摘要： 本发明提供一种上层膜形成用组合物与使用了其的图案形成方法，所述上层膜形成用组合物在基于极紫外线曝光的图案形成方法中，可形成粗糙度和/或图案形状优异的图案。一种上层膜形成用组合物、以及将该组合物涂布于抗蚀层表面，通过曝光显影从而形成图案的方法，所述上层膜形成用组合物的特征在于，包含具有芳香族性羟基的芳香族化合物以及水性溶剂。该组合物也可进一步包含粘合剂。
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公开(公告)号：CN105190445A
公开(公告)日：2015-12-23
申请号：CN201480025048.6
申请日：2014-05-01
申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC分类号： G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/405 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/20 , G03F7/2004 , G03F7/30 , G03F7/32 , G03F7/40 , H01L21/0206 , H01L21/0276
摘要： 通过使用包含由下述式(I)表示的非离子类表面活性剂和水的刻蚀用清洗液，对通过将感光性树脂进行曝光、显影而获得的微细抗蚀图案进行清洗，从而形成没有图案倒塌、图案缺陷、线宽偏差、图案熔化的抗蚀图案。式中，R1、R2可以相同也可以不同，表示氢原子或者甲基，R3、R4可以相同也可以不同，表示氢原子、甲基或者乙基，R5表示包含双键或三键的碳原子数2～5的烃基或者亚苯基，R6、R7可以相同也可以不同，表示氢原子或者甲基。
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