薄膜晶体管及其制造方法

    公开(公告)号:CN100477274C

    公开(公告)日:2009-04-08

    申请号:CN200410094226.9

    申请日:2004-12-31

    Abstract: 本发明公开了一种底栅极薄膜晶体管及其制造方法,该薄膜晶体管具有通过特大晶粒硅(SGS)晶化方法晶化的沟道区,该方法包括:在绝缘基板上形成栅极电极和栅极绝缘层;在栅极绝缘层上形成非晶硅层,继而形成覆盖层和金属催化剂层;进行热处理使非晶硅层晶化成为多晶硅层;以及形成蚀刻停止层、源极和漏极区及源极和漏极电极。该薄膜晶体管包括:绝缘基板;栅极电极,其形成在所述绝缘基板上;栅极绝缘层,形成在所述栅极电极上;多晶硅层,其形成在所述栅极绝缘层上,并且通过特大晶粒硅(SGS)晶化法进行晶化;以及源极和漏极区、源极和漏极电极,它们形成在所述基板的预定区域中。

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